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專利名稱：光學分析裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及光譜分析裝置等光學分析裝置。
背景技術：
如專利文件I (日本專利公開公報特開2002-82050號)所示，已知現有的光譜分析裝置包括光源；聚光透鏡，對來自該光源的光進行聚光；光譜分析部，具有多通道檢測器，對來自所述光源的光進行光譜分析；以及測量單元，設置在聚光透鏡和光譜分析部之間。所述光譜分析裝置的濃度測量采用吸收光譜法。通常，所述吸收光譜法通過在由校正預先得到的校準線Mi上乘以吸光度光譜Abs (Ai),計算出濃度c (參照下式)。公式I
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權利要求
1.一種光學分析裝置，其特征在于包括聚光光學系統，對光源發出的光進行聚光；檢測光學系統，設置在由所述聚光光學系統聚光后的光的光路上，對所述光進行檢測；測量單元，能在位于所述聚光光學系統和所述檢測光學系統之間的光路上的測量位置、以及從所述測量位置退避開的退避位置之間移動；基準修正構件，能在位于所述聚光光學系統和所述檢測光學系統之間的光路上的基準位置、以及從所述基準位置退避開的退避位置之間移動，并且使在所述基準位置上通過的光的焦點位置與通過位于所述測量位置上的測量單元的光的焦點位置基本相同；以及移動機構，用于移動所述測量單元和所述基準修正構件，選擇性地使所述測量單元移動到所述測量位置或者使所述基準修正構件移動到所述基準位置，至少所述基準修正構件的在所述基準位置上與光路相交的外表面部分，由對腐蝕性氣體具有耐腐蝕性的耐腐蝕性材料形成。
2.根據權利要求I所述的光學分析裝置，其特征在于，所述基準修正構件包括光學玻璃；所述耐腐蝕性材料構成的耐腐蝕性板材，與所述光學玻璃的光入射面和光射出面分別相對設置；以及密封構件，對所述光學玻璃和所述耐腐蝕性板材之間進行密封。
3.根據權利要求I所述的光學分析裝置，其特征在于，通過至少對光學玻璃的光入射面和光射出面涂布所述耐腐蝕性材料，構成所述基準修正構件。
4.根據權利要求I所述的光學分析裝置，其特征在于，通過隔著墊片重疊由所述耐腐蝕性材料組成的多枚耐腐蝕性板材，構成所述基準修正構件。
全文摘要
本發明提供一種光學分析裝置，通過降低腐蝕性氣體對焦點位置修正用的基準修正構件的影響，在降低光學分析裝置的測量誤差的同時，解決伴隨更換基準修正構件所產生的各種問題。本發明的光學分析裝置包括基準修正構件(6)，該基準修正構件(6)能在位于聚光光學系統(3)和檢測光學系統(4)之間的光路(L)上的基準位置(R)、以及從該基準位置(R)退避開的退避位置(S)之間移動，使在基準位置(R)上通過的光的焦點位置與通過位于測量位置(P)上的測量單元(5)的光的焦點位置基本相同，基準修正構件(6)的在基準位置(R)上與光路(L)相交的外表面部分(6A)，由對腐蝕性氣體具有耐腐蝕性的材料構成。
文檔編號G01N21/31GK102608029SQ20111043245
公開日2012年7月25日 申請日期2011年12月21日 優先權日2010年12月24日
發明者有本公彥, 橫山一成 申請人:株式會社堀場制作所