專利名稱：光學部件對照射的耐久性預測法及石英光學部件的選擇法的制作方法
技術領域：
本發明是關于光學原材料，特別是KrF(248nm)或者ArF(193nm)激元激光器石版印刷照明系統透鏡投影透鏡、激元激光器加工機等的光學系統透鏡的劣化預測法以及耐用脈沖數的預測法。
在硅等的晶片上將集成電路的微細圖案曝光轉印的石版印刷技術中，使用叫做逐次移動式曝光裝置的曝光裝置。該逐次移動式曝光裝置的光源，近年來隨著LSI的高集成化，進行從g線向i線的短波長化，而且隨著LSI進一步的高集成化，逐次移動式曝光裝置的光源向KrF和ArF激元激光器轉移。而且，在這樣的激元激光器逐次移動式曝光裝置的照明系統或者投影透鏡中，已經不能使用一般光學玻璃，而限于石英玻璃和螢石等的光學原材料。
即使在這樣的激元激光器逐次移動式曝光裝置的照明系統或者投影透鏡中使用的石英玻璃和螢石中，與一般光學玻璃相同，要求其內部的透射率是0.995cm-1或者0.998cm-1以上，正在進行以在紫外線區域的上述光學原材料的高透射率化為目標的開發。其中，對成象性能造成影響的光學部件的光學劣化的進行，即起因于激元激光器的短波長性和閃光性的、由照射產生的光學部件的長年變化(所謂的曝曬和收縮)是大問題，調查該光學劣化的進行變得重要。
特別是，為了調查以10mJ/cm2·脈沖以下的能量照射而使用的石英玻璃部件劣化的進行，最希望確認以實際能量密度進行照射，透射率、折射率、面變化等的物性變化，但是，照射能量密度低的區域，每個照射脈沖的各物性變化是微小的，因此為了確認該物性的變化率，需要增加照射脈沖數(即測定期間變得非常長)。但是，實際上由于人的、經濟的、時間的制約，因而關于一個試樣連續測定數年也是困難的，并且像高價石英玻璃制的縮小投影透鏡那樣，關于必須保證十數年其性能，其測定是越發困難。
鑒于這樣的情況，代替實際測定經數年光學部件劣化的進行(物性的變化)的方法，進行嚴密的壽命預測(耐久性預測)的方法成為必要，但是，以往的預測方法，尤期其透射率降低與累計脈沖數的關系是僅在直線區域成立。這在像投影透鏡的極低的能量區域的預測沒有障礙，但像照明系統那樣，當以數mJ/cm2·脈沖～數十mJ/cm2·脈沖的照射能量密度，預測1×109脈沖以上的累計脈沖數的透射率變化時，有估計透射率降低量極大的可能性。因此不能準確地估計光學部件的壽命。
另外，為了進行以激元激光器作為光源的激元激光器逐次移動式曝光裝置、加工機等制品的光學系統的壽命預測，需要透鏡材料由激元激光器照射而產生的嚴密預測式。為此，盡管必須精確地實驗調查是激元激光器光學部件的石英玻璃及其它的光學部件的劣化起因于何種原因，但是在有片斷地或者定性地調查的文獻的同時，對這些原因僅進行了某些研究，還沒有揭示具有嚴密的定量性的預測式。
另外，光學部件是石英玻璃時，在其透射率的降低發生3％/cm以上的場合，認為該石英玻璃的光學性能由于發熱而劣化，但在需要保證由這樣的發熱不引起劣化的場合，必須選擇透射率的降低是3％/cm以下。
本發明是鑒于這樣的問題而完成的，提供光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法以及利用該預測方法選擇透射率的降低是3％/cm以下的石英玻璃光學部件的方法。
為了達到上述的目的，有關本發明的光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法具有3個過程在光學部件的吸收系數和進行照射的激元激光器的累計脈沖數的關系是可能近似直線的直線區域，求出在光學部件上照射第1規定的照射能量密度(例如0.01～10000mJ/cm2·脈沖)的激元激光器激光時的光學部件中的氫濃度和/或氯濃度與吸收系數的相關值，及照射能量密度和累計脈沖數與吸收系數的相關值，從這些相關值求出在直線區域的吸收系數與氫濃度和/或氯濃度、照射能量密度及累計脈沖數的第1關系式的第1過程；在考慮光學部件的飽和吸收系數的飽和區域，求出在光學部件上照射第1規定的照射能量密度的激元激光器激光時的飽和吸收系數與照射能量密度的相關值及與光學部件中的氫濃度和/或氯濃度的相關值，從這些相關值求出在飽和區域的吸收系數與照射能量密度及氫濃度和/或氯濃度的第2關系式的第2過程；求出在第1關系式中代入光學部件中的氫濃度和/或氯濃度、進行照射的激元激光器的照射能量密度和累計脈沖數而得到的直線區域的吸收系數的變化，以及在第2關系式中代入光學部件中的氫濃度和/或氯濃度、進行照射的激元激光器的照射能量密度而得到的飽和區域的吸收系數的值，從光學部件對由這些求出的第2規定照射能量密度(例如0.00001～100mJ/cm2·脈沖)的激元激光器的透射率變化預測光學部件的耐久性的第3過程。
再者，在該過程中，可以利用統計學地求出的結構因子、氟、OH基和是光源的激元激光器光的脈沖寬度的影響的系統數修正第1關系式。另外，按照該激元激光器照射耐久性預測的試驗方法，可以選擇對是第2規定照射能量密度(實際使用條件，例如0.00001～100mJ/cm2·脈沖)的激元激光器的透射率變化是3％/cm以下的石英玻璃光學部件。
以下，參照
本發明的最佳實施方式。在圖1中示出激元激光器照射實驗的測定裝置。該測定裝置，在激元激光器光源1和照射試樣3(石英玻璃)之間配置兼任賦形波束的均化器光學系統2，在照射試樣3與ArF激元激光器光源1相反的側設置能量監測器4。而且從ArF激元激光器光源1發出激光束5，用能量監測器4監測通過均化器光學系統2和照射試樣3后的照射能量，測定照射試樣3的吸收系數的變化。
在本發明的光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法中，首先使用上述測定裝置，對成為對象的光學部件以各種條件進行激元激光器照射，得到實驗數據。然后，以得到的實驗數據為基礎，使用統計的手法和理論的手法計算出吸收系數變化的關系式，求出在對累計脈沖數可能近似直線的區域(直線區域)的預測式和在該光學部件的吸收達到飽和的區域(飽和區域)的預測式，完成叫做將兩者組合的程序。
另外，為了得到上述的實驗數據，在該測定中使進行照射的激元激光器照射能量密度達到0.01～10000mJ/cm2·脈沖的范圍的場合，通過加速試驗，進行預測對象的激元激光器照射能量密度對應于0.00001～100mJ/cm2·脈沖的范圍。按照這樣，在得到實驗數據的測定中，通過使用0.01～10000mJ/cm2·脈沖范圍的照射能量密度，能夠預測稱為0.00001～100mJ/cm2·脈沖的極低照射能量密度下的耐久性。
首先，說明在利用上述測定系統所得到的直線區域中的吸收系數。在圖2中示出調查吸收系數的照射能量依存性，即193.4nm吸收系數(/cm)對照射能量密度的的變化結果。在此，使用同一個照射試樣3，僅變化照射能量密度，其他的條件是一定的。照射能量密度達到25、50、100、200(mJ/cm2每脈沖)。然后，分別測定累計脈沖數1E6脈沖時和3E6脈沖時的吸收系數。照射試樣3的溶存氫濃度達到1E18(分子/cm3)。在式(1)中表示對于以該結果為基礎、以最小平方法算出的ArF激元激光器的試樣3的吸收系數的能量密度依賴關系式。在式中，E能量密度(mJ/cm2每脈沖)a能量密度依存性，a=2±0.2(3σ),K1常數。
193.4nm吸收系數(/cm)=K1×Ea……(1)一般說來，以ArF和KrF激元激光器誘發的吸收帶生成的原因，是以在2光子吸收過程中生成的E中心(215nm帶)、O3、NBOHC(260nm吸收帶)作為主因的復合峰。
接著，在圖3中示出調查吸收系數的累計脈沖數依存性，即193.4nm吸收系數(/cm)對累計脈沖數的變化結果。在此也使照射能量密度達到25、50、100、200(mJ/cm2每脈沖)。測定在該圖中表示的各累計脈沖數中的吸收系數。圖中的5E6等的表示意味著5×106(以后，在圖中和文中使用這樣的省略號表示)。在式(2)中表示以圖3的結果為基礎、以最小平方法算出的ArF激元激光器的累計脈沖數依賴關系式。式中，P累計脈沖數，b累計脈沖數依存性，b=0.998+0.1(3σ),K2常數。
193.4nm吸收系數(/cm)=K2×Pb……(2)再者，該依賴關系式，吸收系數大概僅成立至0.2。在此以上的吸收系數區域，累計脈沖數依存性b從0.998逐漸變小，哪個都達到飽和。
接著，示出調查吸收系數的溶存H2濃度依存性，即193.4nm吸收系數(/cm)對溶存H2濃度的變化結果。在圖4中示出在照射能量密度100(mJ/cm2每脈沖)，累計脈沖數1E6脈沖照射后的溶存H2濃度(1E17～3E18分子/cm3的范圍)與193.4nm吸收系數(/cm)的關系。在式(3)中表示以最小平方法算出的依賴關系式。式中，H溶存H2濃度(分子/cm3),c溶存H2濃度依存性，K3常數。
193.4nm吸收系數(/cm)=K3×Hc……(3)在式(3)中，相關系數r=0.92,c=-0.38。如相關系數r=0.92所示，決定石英玻璃對ArF激元激光器照射的耐久性(即吸收生成)的主要因素，認為進行溶存的H2分子濃度是相當大的支配因素。
從以上，由表示吸收系數的能量密度依存性、累計脈沖數依存性、溶存H2濃度依存性的3個式(1)、(2)、(3)算出照射試樣3在直線區域的吸收系數的預測式。在式(4)中表示該預測式。式中，常數K:5.54×10-6,a:2+0.2(3σ),b:0.998±0.1(3σ),c:-0.38±0.1(3σ)。
直線區域吸收系數(/cm)=K×Ea×Pb×Hc×d……(4)在式(4)中，d是照射終了后的室溫變白現象的修正系數，透射率測定值如果是照射中的測定值，則d=1。而且隨照射終了時間成指數函數地增加，例如，如果是照射終了10分鐘后的測定值，則d=2。
可是，在ArF波長193.4nm，光子能量是6.4eV，相對于KrF激元波長248.3nm的5eV是相當高，因而被照射的光子能量增加，玻璃結構中的波帶間的遷移概率增加，因此Si-Cl鍵被切斷，生成SiE’中心等缺陷的概率增加。為此，在ArF激元激光器波長，影響在KrF激元激光器照射不成為那樣問題的Si-Cl結構，在ArF激元激光器耐久性預測中，必須求出是雜質的氯濃度依存性。
在下面示出求出上述氯濃度依存性的例子。調查照射能量密度200(mJ/cm2每脈沖)、累計脈沖數1E6脈沖照射后的Cl濃度與193.4nm吸收系數(/cm)的關系。在此，在調查Cl=50ppm和無Cl的石英玻璃的直線區域的吸收系數變化時，氯濃度50ppm的吸收系數大約是無Cl的石英玻璃的1.3倍。也調查其他的氯濃度的石英玻璃的舉動，但至約200ppm該傾向存在比例關系。在式(5)中表示以該結果為基礎、以最小平方法算出的吸收系數對氯濃度的依賴關系式。式中，Cl:Cl濃度(ppm),Z無Cl制品的吸收系數。
193.4nm吸收系數(/cm)=Z×(1+Cl×0.006)…(5)如相關系數r=0.90所示，認為石英玻璃含有的Cl濃度是決定石英玻璃對ArF激元激光器的耐久性(即吸收生成)的主要原因之一。
和上述吸收系數的能量密度依存性、累計脈沖數依存性和溶存H2濃度依存性的式(1)、(2)、(3)相同地進行，求出在Cl濃度依存性的式(5)中的系數Z，在吸收系數的預測式(4)中也可能包括Cl濃度的依存性。
像這樣，應當套用使用實驗和統計的手法的方式進行，在預測式(4)中包含統計學地求出其他的因子，例如氟濃度、OH基濃度、Si-O-Si基本結構因子、是光源的激元光的脈沖寬度的影響系數，也能夠修正。另外，也證實所生成的吸收與激元光的脈沖寬度處于反比例的關系。但是，按照這些式的預測，始終由激元激光器照射產生的吸收系數對累計脈沖數直線地增加，即僅在透射率直線地降低的區域成立。
接著，說明在飽和區域的吸收系數。首先，調查吸收系數對ArF激元激光器照射能量密度的依存性。使用氯濃度50ppm、且進行脫氫處理的試樣，使用氯濃度為1ppm以下、且進行脫氫處理的試樣，求出照射能量密度分別為25、50、100、200(mJ/cm2每脈沖)的依存性。激元光照射進行至透射率的舉動達到飽和。其結果示于圖5中。
另外，使用氯濃度為50ppm和1ppm以下、各自的溶存氫濃度為1E18(分子/cm3)的試樣調查累計脈沖數和透射率變化的關系，如圖6所示，至飽和值的直線區的舉動不相同，但飽和值大致相同。像這樣，在ArF激元激光器中，飽和吸收值幾乎不依賴于氫濃度。但是，在KrF中，發生影響的吸收帶不同，因此其飽和值依賴于氫濃度。在KrF的場合，也需要使該依存性式化。其程序與其他因子的式化大致相同，在此省去說明。
以圖5為基礎、以最小平方法算出的飽和吸收系數的能量密度依賴關系式，脫氫處理試樣、氫分子濃度1E18(分子/cm3)試樣共同是式(6)那樣。式中，能量密度依存性是e=0.43+0.2(3σ)。另外，K4的值依賴于氯濃度和氫分子濃度(特別是KrF)。
193.4nm吸收系數(/cm)=K4×Ee……(6)下面，調查在飽和區的吸收系數的氯濃度依存性。對脫氫處理的石英玻璃試樣以及氯濃度0～120(ppm)的石英玻璃試樣，分別求出照射能量密度是200(mJ/cm2每脈沖)的依存性。激元激光照射進行至透射率的舉動達到飽和。其結果示于圖7中，在式7中表示以圖7為基礎、以最小平方法算出的吸收系數的氯濃度依賴關系式。式中，Cl是石英玻璃中的氯濃度(ppm),K5是依存于能量密度的常數。
193.4nm吸收系數(/cm)=K5×((-2E-6)×Cl2+(5E-4)×Cl+0.01)…(7)若組合以上的關系式，則可以以式(8)表示。式中，d是上述照射終了后的室溫變白現象的修正系數。
飽和區域吸收系數(/cm)=K×Ee×{(-2E-6)×Cl2+(5E-4)×Cl+0.01}…(8)接著，將直線區域和飽和區域組合。圖8的實線是由式(4)和式(8)得到的透射率變化，相對于累計脈沖數，透射率減少的區域對應于直線區域，相對于累計脈沖數透射率成為一定值的區域對應于飽和區域。另外，圖8的點線是實際的透射率變化。即透射率隨累計脈沖數的增加而降低，或者若在脈沖數達到飽和，則在此之后近似地達到一定值。
以下，說明適用于本發明的預測方法的實施例。作為原料使用高純度四氯化硅，在石英制的燃燒器中混合氧氣和氫氣并進行燃燒，從中心部用載體氣體(通常是氧氣或者氫氣)稀釋原料氣體，然后進行噴出，堆積在靶子上，進行熔融而合成成為試樣的光學部件的高純度石英玻璃錠。由此得到直徑180mm、長550mm的石英玻璃錠。實施例1從上述石英玻璃錠進行切取，制作ArF激元激光器逐次移動式曝光裝置用照明系統光學透鏡部件，也制作一部分物性測定用試樣。使用該試樣進行激元激光器照射實驗，求出關于吸收系數的式(4)、式(8)。該光學石英玻璃部件的H2濃度是1×1018mol/cm3,Cl濃度是20ppm。
另外，使用該部件制造的透鏡的使用條件，用于激光加工機，照射能量密度是5mJ/cm2每脈沖，反復頻率數是500Hz，若開工率達到70％，則每日的累計脈沖數是3×107脈沖，內部吸收的規格參數是5％/cm以下。透射率的計算是從使用預測式(4)和式(8)求出的吸收系數，使用式(9)進行計算。
透射率(％)=exp(-(吸收系數)×厚度(cm))×100…(9)在按照該式求出的上述使用條件下的內部透射率降低是-3.8％/cm。該透射率的降低至飽和區域，因此不論任何累計脈沖數，都能保證滿足規格參數。另外，也知道，在上述使用條件下，上述品質的石英玻璃的飽和透射率是96.2/cm。另外，關于光學系統全體的透射率可以計算各部件的每個透射率，通過簡單的相乘進行計算。實施例2從上述石英玻璃錠進行切取，制作ArF激元激光器逐次移動式曝光裝置用光學透鏡部件，也制作一部分物性測定用試樣。該石英玻璃部件的H2濃度是1×1018mol/cm3,Cl濃度是5ppm。再者，該透鏡部件是ArF激元激光器逐次移動式曝光裝置投影光學系統的一部分，所要求的內部吸收是0.1％/cm以下。另外，該透鏡的使用條件是照射能量密度為0.1mJ/cm2每脈沖，反復頻率數是500Hz，若開工率達到70％，則每日的累計脈沖數是3×107脈沖。
使用預測式(4)和式(8)、與上述實施例1相同地進行計算，在上述使用條件內部透射率降低，在7×1010脈沖成為-0.1％/cm。這在直線區域也是如此，能夠預測透鏡的耐用年數大約是6年，據此，約6年能夠保證滿足規格參數。另外，也知道，在該使用條件，上述品質的石英玻璃的飽和透射率是99.5％/cm。實施例3與實施例1、實施例2相同從石英玻璃錠進行切取，制作ArF激元激光器逐次移動式曝光裝置用光學透鏡部件，也制作一部分物性測定用試樣。該石英玻璃部件的H2濃度是2×1018mol/cm3,Cl濃度是1ppm以下。該透鏡部件是ArF激元激光器逐次移動式曝光裝置投影光學系統的一部分，所要求的內部吸收的規格參數是0.1％/cm以下。另外，該透鏡的使用條件是照射能量密度為0.1mJ/cm2每脈沖，反復頻率數是500Hz，若開工率達到70％，則每日的累計脈沖數是3×107脈沖。
使用本發明的預測式(4)、式(8)，在上述使用條件，內部透射率在1×1011脈沖成為-0.1％/cm。這和實施例2相同在直線區域也是如此，能夠預測透鏡的耐用年數大約是10年，據此，約10年能夠保證滿足規格參數。另外，也知道，在該使用條件下，上述品質的石英玻璃的飽和透射率是99.6％/cm。如果在內部吸收的標準允許0.2/cm，透鏡的壽命就為約2倍。
另外，在光學部件的透射率的降低發生3％/cm以上的場合，認為該光學部件的光學性能由于發熱而引起劣化，使用該預測法，根據顯示透射率的降低是3％/cm以下，能夠得到保證由發熱不引起劣化的石英玻璃。
如上所述，通過組合直線區域和飽和區域，估計透射率相對于累計脈沖數的降低不大，能夠準確而且簡便地預測石英玻璃部件的透射率變化，即耐久性。再者，在上述實施例中雖然說明的是關于石英玻璃，但該耐久性的預測方法，不僅石英玻璃，即使是在有關的其他激元激光器光學系統中使用的光學部件，同樣也可以使用。另外，按照該預測方法，也能夠預測激元激光器光學系統的壽命，算出耐用年數。進而，對于其他的光源，或者對于光學薄膜，都能進行相同的耐久性預測。另外，使用該預測方法也能夠得到透射率降低是3％/cm以下的石英玻璃。
按照本發明的激元激光器照射耐久性的預測方法，因為在考慮累計脈沖數與石英玻璃光學部件的吸收系數的關系在可能近似直線的累計脈沖數區域中的吸收系數變化的同時，也考慮石英玻璃光學部件中的飽和吸收系數，所以估計透射率降低量不大，能夠準確且簡便地預測石英玻璃光學部件的透射率變化，即耐久性。另外，按照該方法，能夠得到透射率降低是3％/cm以下的石英玻璃。
再者，該預測方法不僅對石英玻璃，而且對在其他的激元激光器光學系統中使用的光學部件也同樣能夠使用。另外，按照該預測方法，也能夠預測激元激光器光學系統的壽命，算出耐用年數。進而，對于其他的光源，或者對于光學薄膜，都能進行相同的耐久性預測。
附圖的簡單說明圖1是激元激光器照射實驗裝置的概略圖。
圖2是表示由ArF激元激光器照射誘發的石英玻璃的直線區域193.4nm吸收系數的能量密度依存性的圖。
圖3是表示由ArF激元激光器照射誘發的石英玻璃的直線區域193.4nm吸收系數的累計脈沖數依存性的圖。
圖4是表示由ArF激元激光器照射誘發的石英玻璃的直線區域193.4nm吸收系數對石英玻璃中的溶存氫分子濃度依存性的圖。
圖5是表示由ArF激元激光器照射誘發的石英玻璃的193.4nm飽和吸收系數的能量密度依存性的圖。
圖6是表示按照溶存氫分子濃度的ArF激元激光器累計脈沖數和石英玻璃的透射率的關系圖。
圖7是表示由ArF激元激光器照射誘發的石英玻璃的193.4nm飽和吸收系數對石英玻璃中的溶存氫分子濃度的依存性的圖。
圖8是表示基于本發明的預測式，相對ArF激元激光器累計脈沖數的石英玻璃透射率變化與實際的透射率變化進行比較的圖。符號的說明1ArF激元激光器光源2均化器光學系統3照射試樣4能量監測器5激光束
權利要求
1．光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法，其特征在于，具有以下3個過程在光學部件的吸收系數和進行照射的激元激光器的累計脈沖數的關系是可能近似直線的直線區域，求出在光學部件上照射第1規定照射能量密度的激元激光器激光時的上述光學部件中的氫濃度和/或氯濃度與吸收系數的相關值，及照射能量密度和累計脈沖數與吸收系數的相關值，從這些相關值求出在上述直線區域的吸收系數與氫濃度和/或氯濃度、照射能量密度及累計脈沖數的第1關系式的第1過程；在考慮上述光學部件的飽和吸收系數的飽和區域，求出在上述光學部件上照射上述第1規定照射能量密度的激元激光器激光時的飽和吸收系數與照射能量密度的相關值以及與上述光學部件中的氫濃度和/或氯濃度的相關值，從這些相關值求出在上述飽和區域的吸收系數與照射能量密度及氫濃度和/或氯濃度的第2關系式的第2過程；求出在上述第1關系式中代入在上述光學部件中的氫濃度和/或氯濃度、及進行照射的激元激光器的照射能量密度和累計脈沖數而得到的上述直線區域的吸收系數的變化，以及在上述第2關系式中代入在上述光學部件中的氫濃度和/或氯濃度、及進行照射的激元激光器的照射能量密度而得到的上述飽和區域的吸收系數的值，從上述光學部件對由這些求出的第2規定照射能量密度的激元激光器發生的透射率變化預測上述光學部件的耐久性的第3過程。
2．權利要求1所述的光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法，其特征在于，上述第1規定照射能量密度是0.01～10000mJ/cm2·脈沖，上述第2規定照射能量密度是0.00001～100mJ/cm2·脈沖。
3．權利要求1或2所述的光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法，其特征在于，上述光學部件是石英玻璃。
4．權利要求1～3中任一項權利要求所述的光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法，其特征在于，以統計學的求出的結構因子、氟、OH基和激元激光器脈沖寬度的影響系數修正上述第1關系式。
5．石英玻璃光學部件的選擇方法，其特征在于，按照權利要求3或4所述的光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法，選擇對權利要求2所述的上述第2規定照射能量密度的激元激光器照射的透射率變化是3％/cm以下的石英玻璃光學部件。
全文摘要
提供光學部件對激元激光器照射的耐久性預測方法。求出考慮光學部件中的氫濃度和/或氯濃度、進行照射的激元激光器的能量密度和累計脈沖數的、光學部件的吸收系數與進行照射的激元激光器的累計脈沖數的關系在可能近似直線的直線區域的吸收系數的變化,以及考慮光學部件中的氫濃度和/或氯濃度和進行照射的激元激光器的能量密度的、光學部件的吸收成為飽和狀態的飽和區域的吸收系數值,從根據這兩者求出的透射率變化能夠預測該光學部件的耐久性。
文檔編號G01N21/59GK1213774SQ9812013
公開日1999年4月14日 申請日期1998年10月7日 優先權日1997年10月7日
發明者神保宏樹, 小峰典男, 藤原誠志 申請人:株式會社尼康
專業數控銑床產品供應商
20年生產經驗，實力工廠，精工品質，質量有保障
