一種新型磁分離機構的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種新型磁分離機構，包括編碼轉盤機構、磁鐵開合機構及清洗機構；所述磁鐵開合機構安裝在編碼轉盤機構上，所述清洗機構分布在編碼轉盤機構的四周；通過磁鐵開合機構控制磁鐵吸附放置在編碼轉盤機構上的反應杯中的液體中的納米磁珠，通過清洗機構對反應杯中的液體進行清洗，完成納米磁珠分離；該實用新型在同一個機構中實現了多工位分離洗滌并設有混勻工位，在進行某一工位的動作流程時，能進行其他工位的動作流程，不用在機構外設磁顆粒混勻機構，通過編碼盤機構旋轉運動，應用凸輪運動的原理及偏心轉動原理混勻實現以上動作流程，結構簡單并且使得設備的分離洗滌效率提高。
【專利說明】一種新型磁分罔機構
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種新型磁分離機構。
【背景技術】
[0002]隨著磁微粒技術的發展，化學發光免疫分析技術在醫療行業得到越來越廣泛的應用。全自動化學發光免疫分析設備在測試過程中，需要用到納米磁珠和抗體、抗原結合，納米磁珠和抗體、抗原結合后需要清洗反應杯中的剩余的液體。目前，全自動化學發光儀器中大多數磁分離清洗機構為了實現同時處理多個樣本或減少單個樣本分離洗滌等待時間，線性分布多個同樣的單元；為了能夠進行二次或者多次孵育，機構外設磁顆粒混勻機構，使得化學發光免疫分析流程加長；磁分離機構復雜，尺寸較大，安裝和維護皆不方便。如果能在同一個機構中實現多工位分離洗滌并設有混勻工位，在進行某一工位的動作流程時，可同時進行其他工位的動作流程，那么就可以使得設備運行速度更快，同時處理多個樣本，使得分析流程更加簡練，提高分析效率。
實用新型內容
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是同一個機構中無法實現多工位分離洗滌并設有混勻工位，在進行某一工位的動作流程時，無法同時進行其他工位的動作流程，需要在機構外設磁顆粒混勻機構的問題，利用提出的一種新型磁分離機構來解決上述問題，且結構簡單并且使得提高了設備的分離洗滌效率。
[0004]一種新型磁分離機構，包括編碼轉盤機構、磁鐵開合機構及清洗機構；所述磁鐵開合機構安裝在編碼轉盤機構上，所述清洗機構分布在編碼轉盤機構的四周；通過磁鐵開合機構控制磁鐵吸附放置在編碼轉盤機構上的反應杯中的液體中的納米磁珠,通過清洗機構依次對反應杯中的液體進行清洗，完成納米磁珠分離；
[0005]所述編碼轉盤機構包括轉盤11、固定盤12、支撐釘13、裝有軸承的軸承座14、轉盤旋轉軸15、第一同步帶從動輪16、第一同步帶主動輪17、第一同步帶18、第一步進電機19、安裝板21、固定支撐架22、第一零位傳感器23、第一零位感應片24及第一零位傳感器固定座25 ；
[0006]所述安裝板21呈水平方向固定在固定支撐架22的頂部，固定盤12通過至少兩個支撐釘13固定在安裝板21上；裝有軸承的軸承座14安裝在安裝板21上；
[0007]所述轉盤固定在所述轉盤旋轉軸的上端；所述轉盤旋轉軸15與所述軸承配合連接且轉盤旋轉軸的下端穿過安裝板并與所述第一同步帶從動輪16連接；所述第一同步帶主動輪17通過第一同步帶18與第一同步帶從動輪16傳動相連；所述第一步進電機安裝在固定支撐架側部；由第一步進電機通過第一同步帶主動輪、第一同步帶、第一同步帶從動輪和轉盤旋轉軸最終驅動轉盤旋轉；
[0008]所述第一零位傳感器固定座25設置在安裝板21的底部，所述第一零位傳感器23安裝在所述第一零位傳感器固定座25上，第一零位感應片24安裝在所述第一同步帶從動輪16上；
[0009]所述第一零位感應片為圓環狀，圓環上開設有缺口 9，電機帶動轉盤轉動，第一同步帶從動輪16跟隨電機轉動時，第一零位感應片遮擋住第一零位傳感器23的光路，當缺口轉到第一零位傳感器時，第一零位傳感器的光路未被遮擋，此時，轉盤找到原點。
[0010]所述轉盤11上均勻設置有用于放置反應杯I的反應杯孔，且在反應杯孔下方開設有用于放置磁鐵滑塊31的導向槽2 ；
[0011]所述磁鐵開合機構包括所述磁鐵滑塊31、永磁鐵32、滾子33、第一銷軸34和開設在固定盤上的凸輪槽5 ;所述永磁鐵32嵌裝入磁鐵滑塊31中，所述第一銷軸34的一端與滾子33連接，另一端緊配安裝在磁鐵滑塊31中；磁鐵滑塊31按永磁鐵32朝外裝入轉盤11的導向槽2內，所述磁鐵滑塊31上的滾子33安裝在固定盤12的凸輪槽5內；隨著轉盤11的旋轉，磁鐵滑塊的滾子33沿著凸輪槽滾動，磁鐵滑塊在導向槽上進行徑向運動，吸附反應杯；
[0012]在磁鐵滑塊31裝有永磁鐵32 —側根據反應杯的外杯面的斜度設計斜度，即反應杯外壁斜度為1°，磁鐵滑塊31的端面匹配加工與水平成1°，永磁鐵32安裝在其上可以更好地貼近反應杯外表面。磁鐵滑塊31上設計工藝孔3方便永磁鐵32的拆裝。永磁鐵32的吸附面最低位高于反應杯內側底部的球面，保證了磁珠吸附的充分，減少磁珠因清洗造成丟失。
[0013]所述凸輪槽為按照需求進行設計，通過等徑段的長度設計，控制磁鐵滑塊與反應杯吸附的時間。
[0014]所述清洗機構包括導向軸41、導向輪42、清洗滑動塊43、清洗針44、第二從動帶輪45、第二同步帶46、第二同步帶輪47、霍爾傳感器48、第二步進電機51、第二步進電機固定板52和清洗固定底板53 ；
[0015]所述第二從動帶輪由2個法蘭軸承小端對裝而成。
[0016]所述第二步進電機固定板52立裝在清洗固定底板53上，所述第二步進電機51固定在第二步進電機固定板52的下端，所述第二步進電機驅動所述第二同步帶輪47，通過第二同步帶46傳動連接安裝在第二步進電機固定板52上端的第二從動帶輪45 ;所述清洗滑動塊上安裝有清洗針44，且清洗滑動塊與第二同步帶固定連接，隨第二同步帶進行上下運動；所述第二步進電機固定板52的頂端設有第二零位傳感器，且所述第二從動帶輪上設有第二零位感應片。
[0017]清洗機構工作時，必須先復位即找原點:第二步進電機51順時針轉動，通過第二同步帶傳動，帶動清洗滑動塊43及安裝在其上的清洗針44，當第二零位傳感器48觸碰到第二零位感應片時，即完成復位動作。
[0018]加液動作:第二步進電機51逆時針轉動，通過第二同步帶傳動，帶動清洗滑動塊43及安裝在其上的清洗針44向下運動到反應杯內的指定的位置，開始往反應杯內加液，在加液過程中，第二步進電機51順時針轉動，清洗針44向上運動，直至復位，此過程中需控制保證所加的液體不要沾到清洗針的外針外壁，即液面上升的速度要比清洗針抬升的速度慢。
[0019]抽液動作:反應杯中有液體需要抽取時,第二步進電機51逆時針轉動,通過第二同步帶傳動，帶動清洗滑動塊43及安裝在其上的清洗針44向下運動，此時清洗針有抽液吸附力，保證一接觸液面就開始從反應杯內抽液，在抽液過程中，需控制保證所加的液體不要沾到清洗針的外針外壁，即清洗針抬升的速度要比液面下降的速度慢。
[0020]所述清洗機構中還包括設置在清洗滑動塊兩側的導向輪42及設置在第二步進電機固定板52兩側的導向軸41，導向輪的內側與導向軸接觸。
[0021]第二步進電機旋轉,帶動同步帶運動,清洗滑動塊43隨同步帶通過導向輪42與導向軸41相對滑動，導向輪和導向軸的設計，使得清洗滑塊的上下運動更為穩定和精確。
[0022]所述清洗機構中的清洗針為雙管清洗針,外管為加液針，內管為抽液針。
[0023]至少包括一套清洗機構。
[0024]多套清洗機構，形成多階同步清洗，節約清洗時間，加強清洗力度。
[0025]還包括安裝在編碼轉盤機構上的磁顆粒混勻機構，所述磁顆粒混勻機構包括無刷直流電機71、電機座72、帶軸承的偏心軸73、混勻旋轉軸75及混勻頭77 ；
[0026]所述電機座72固定在安裝板21上，所述無刷直流電機71安裝在所述電機座72上，無刷直流電機71的轉軸穿過電機座72與帶軸承的偏心軸73相連，所述帶軸承的偏心軸73、混勻旋轉軸75及混勻頭77依次相連，混勻頭托住反應杯旋轉，實現混勻。
[0027]當反應杯運動至混勻位時，位于反應杯下方的混勻頭進行偏心轉動，從而使得反應杯進行偏心轉動從而使得反應杯內的物質進行混勻；
[0028]還包括設置在固定盤12上且經過反應杯運動軌跡的爬坡抬升機構，所述爬坡抬升機構包括低階爬坡塊61和高階爬坡塊62 ；
[0029]設置在混勻工位的混勻頭77位于所述低階爬坡塊和所述高階爬坡塊之間；
[0030]所述低階爬坡塊的最高點和高階爬坡塊的最低點均與混勻頭平行；
[0031]反應杯隨轉盤運動過程中沿低階爬坡塊向上爬升至混勻工位的混勻頭上，沿高階爬坡塊向上爬升至取杯工位。
[0032]爬坡塊和轉盤的旋轉運動形成爬坡抬升機構60，無需另外的抬升機構抬升反應杯。
[0033]所述爬坡抬升機構的表面與反應杯的底部圓弧面相切。
[0034]隨著轉盤的轉動反應杯圓弧面沿爬坡塊表面滑動，隨著與爬坡塊的面升高，逐步抬升。
[0035]所述磁顆粒混勻機構上設有混勻座76，混勻座固定在電機座72上；所述混勻旋轉軸穿過混勻座，在混勻座與混勻旋轉軸之間，混勻旋轉軸上套裝有壓縮彈簧74。
[0036]所述磁顆粒混勻機構上還設有彈性壓片套件80，所述彈性壓片套件80包括彈性壓片安裝座81、拉伸彈簧82、拉釘83、壓片84、第二銷軸85和調節螺釘86 ；
[0037]所述彈性壓片安裝座81固定在編碼轉盤機構10的安裝板21上，所述壓片84通過第二銷軸85與彈性壓片安裝座81連接，所述調節螺釘86旋入彈性壓片安裝座81將所述壓片84頂起，拉伸彈簧82 —端鉤住壓片84上，另一端鉤住固定在彈性壓片安裝座81上的拉釘83 ；
[0038]所述壓片上開設有調節孔4，穿過調節孔4改變調節螺釘的高度；所述調節孔4的直徑大小比調節螺釘86的內徑大，且比調節螺釘的外徑小；
[0039]所述調節螺釘為緊定螺釘。
[0040]利用內六角扳手穿過調節孔4旋動調節螺釘，改變調節螺釘在彈性壓片安裝座中的旋入深度，從而改變壓片與水平面的夾角，即調節壓片84的擺角，使反應杯沿壓片方向順利到達混勻位，在混勻過程中，壓片擋住反應杯，防止混勻過程中反應杯從放置孔中彈出。
[0041]采用步進電機和同步帶傳動帶動轉盤旋轉遞進,反應杯隨轉盤旋轉,轉盤上有8個孔位，每遞進一次旋轉一個孔位，每次遞進時間間隔固定，即每次遞進旋轉45°。四個獨立的加液、抽液清洗機構，可以實現靈活地自動加液、抽液方式和自動選擇抽液、加液次數，而加液針可以自動清洗抽液針，避免不同檢測項目之間的交叉污染；設計的爬坡抬升機構，可以使得反應杯分段抬升，先到達混勻高度，再抬升到取杯高度，在取杯位方便拾取，無需其他的抬升機構抬升反應杯。同時本磁分離機構也可靈活地控制磁鐵吸合時間，機構結構緊湊，占用空間最小，各個運動部件重復性好，實現了化學發光免疫分析設備上的納米磁珠分離和自動清洗功能。
[0042]有益效果
[0043]本實用新型提出的一種新型磁分離機構，包括編碼轉盤機構、磁鐵開合機構及清洗機構；所述磁鐵開合機構安裝在編碼轉盤機構上，所述清洗機構分布在編碼轉盤機構的四周；通過磁鐵開合機構控制磁鐵吸附放置在編碼轉盤機構上的反應杯中的液體中的納米磁珠,通過清洗機構對反應杯中的液體進行清洗,完成納米磁珠分離；
[0044]利用設置在編碼轉盤機構上的磁顆粒分離混勻機構對反應杯中的液體進行自動混勻，無需外設混勻結構；
[0045]該磁分離機構集成了旋轉，自動加液、抽液，自動吸合、打開磁鐵以及自動抬升反應杯、自動混勻反應液體等多種功能:采用步進電機電機和同步帶傳動帶動清洗盤旋轉遞進，清洗盤和反應杯自動旋轉，清洗盤上有8個孔位，每遞進一次旋轉一個孔位，每次遞進時間間隔固定，即每次遞進旋轉45°。四個獨立的加液、抽液清洗機構，可以實現靈活地自動加液、抽液方式和自動選擇抽液、加液次數，而加液針可以自動清洗抽液針，避免不同檢測項目之間的交叉污染；巧妙設計的抬升爬坡塊，可以反應杯分段抬升，先到達混勻高度，再抬升到取杯高度，在取杯位方便拾取，無需其他的抬升機構抬升反應杯。設計的磁鐵滑塊和凸輪槽使得本磁分離機構可靈活地控制磁鐵吸合時間，機構結構緊湊，占用空間最小，各個運動部件重復性好，實現了化學發光免疫分析設備上的納米磁珠分離和自動清洗功能。
[0046]同一個機構中實現了多工位分離洗滌并設有混勻工位，在進行某一工位的動作流程時，可同時進行其他工位的動作流程，不用在機構外設磁顆粒混勻機構，不采用線性分布多個相同單元，通過編碼盤機構旋轉運動，應用凸輪運動的原理及偏心轉動原理混勻實現以上動作流程，結構簡單并且使得設備的分離洗滌效率提高。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0047]圖1是本實用新型的總體結構示意圖；
[0048]圖2為本實用新型的總體的剖面示意圖；
[0049]圖3為本實用新型的清洗盤的各個工作位置示意圖；
[0050]圖4為本實用新型的清洗洗機構結構示意圖；
[0051]圖5(a)、圖5(b)為本實用新型的磁鐵滑塊結構示意圖，其中，圖5 (a)為磁鐵滑塊的正面視圖，圖5(b)磁鐵滑塊的背面視圖；
[0052]圖6為本實用新型中凸輪槽結構示意圖；
[0053]圖7為本實用新型中導向槽結構示意圖；
[0054]圖8為本實用新型的爬坡塊局部放大示意圖；
[0055]圖9(a)、圖9(b)為本實用新型的除彈性壓片套件外的磁顆粒混勻機構示意圖，其中，圖9(a)為立體圖，圖9(b)為剖面圖；
[0056]圖10 (a)、圖10(b)為本實用新型的彈性壓片套件示意圖，其中，圖10(a)為立體圖，圖10(b)為剖面圖；
[0057]圖11為第一零位感應片的安裝示意圖；
[0058]標號說明:
[0059]1-反應杯、2-導向槽、3-工藝孔、5-凸輪槽、9-缺口、11-轉盤、12-固定盤、13-支撐釘、14-裝有軸承的軸承座、15-轉盤旋轉軸、16-第一同步帶從動輪、17-第一同步帶主動輪、18-第一同步帶、19-第一步進電機、21-安裝板、22-固定支撐架、23-第一零位傳感器、24-第一零位感應片、25-第一零位傳感器固定座、31-磁鐵滑塊、32-永磁鐵、33-滾子、34-第一銷軸、41-導向軸、42-導向輪、43-清洗滑塊、44-清洗針、45-第二從動帶輪，46-第二同步帶，47-第二同步帶輪,48-第二零位傳感器,51-第二步進電機,52-第二步進電機固定板、53-清洗固定底板、61-低階爬坡塊、62-高階爬坡塊、70-磁顆粒混勻機構、71-無刷直流電機、72-電機座、73-帶軸承的偏心軸、75-混勻旋轉軸、77-混勻頭、76-混勻座，72-電機座、74-壓縮彈簧、80-彈性壓片套件、81-彈性壓片安裝座、82-拉伸彈簧、83-拉釘、84-壓片、85-第二銷軸、86-調節螺釘。
【具體實施方式】
[0060]下面將結合附圖和實施例對本實用新型做進一步的說明。
[0061]如圖1和圖2所示，一種新型磁分離機構，包括編碼轉盤機構、磁鐵開合機構及清洗機構；所述磁鐵開合機構安裝在編碼轉盤機構上，所述清洗機構分布在編碼轉盤機構的四周；通過磁鐵開合機構控制磁鐵吸附放置在編碼轉盤機構上的反應杯中的液體中的納米磁珠,通過清洗機構依次對反應杯中的液體進行清洗,完成納米磁珠分離；
[0062]所述編碼轉盤機構包括轉盤11、固定盤12、支撐釘13、裝有軸承的軸承座14、轉盤旋轉軸15、第一同步帶從動輪16、第一同步帶主動輪17、第一同步帶18、第一步進電機19、安裝板21、固定支撐架22、第一零位傳感器23、第一零位感應片24及第一零位傳感器固定座25 ；
[0063]所述安裝板21呈水平方向固定在固定支撐架22的頂部，固定盤12通過至少兩個支撐釘13固定在安裝板21上；裝有軸承的軸承座14安裝在安裝板21上；
[0064]所述轉盤固定在所述轉盤旋轉軸的上端；所述轉盤旋轉軸15與所述軸承配合連接且轉盤旋轉軸的下端穿過安裝板并與所述第一同步帶從動輪16連接；所述第一同步帶主動輪17通過第一同步帶18與第一同步帶從動輪16傳動相連；所述第一步進電機安裝在固定支撐架側部；由第一步進電機通過第一同步帶主動輪、第一同步帶、第一同步帶從動輪和轉盤旋轉軸最終驅動轉盤旋轉；
[0065]所述第一零位傳感器固定座25設置在安裝板21的底部，所述第一零位傳感器23安裝在所述第一零位傳感器固定座25上，第一零位感應片24安裝在所述第一同步帶從動輪16上；
[0066]如圖11所示，所述第一零位感應片為圓環狀，圓環上開設有缺口 9，電機帶動轉盤轉動，第一同步帶從動輪16跟隨電機轉動時，第一零位感應片遮擋住第一零位傳感器23的光路，當缺口轉到第一零位傳感器時，第一零位傳感器的光路未被遮擋，此時，轉盤找到原點。
[0067]如圖3所示，轉盤上設有八個反應杯孔位，分別為放杯位、取杯位、混勻位及四個清洗位，每個清洗位均需完成吸液和加液。
[0068]如圖5 (a)、圖5(b)、圖6和圖7所示，所述轉盤11上均勻設置有用于放置反應杯I的反應杯孔，且在反應杯孔下方開設有用于放置磁鐵滑塊31的導向槽2 ；
[0069]所述磁鐵開合機構包括所述磁鐵滑塊31、永磁鐵32、滾子33、第一銷軸34和開設在固定盤上的凸輪槽5 ;所述永磁鐵32嵌裝入磁鐵滑塊31中，所述第一銷軸34的一端與滾子33連接，另一端緊配安裝在磁鐵滑塊31中；磁鐵滑塊31按永磁鐵32朝外裝入轉盤11的導向槽2內，所述磁鐵滑塊31上的滾子33安裝在固定盤12的凸輪槽5內；隨著轉盤11的旋轉，磁鐵滑塊的滾子33沿著凸輪槽滾動，磁鐵滑塊在導向槽上進行徑向運動，吸附反應杯；
[0070]【所述凸輪槽為按照需求進行設計，通過等徑段的長度設計，控制磁鐵滑塊與反應杯吸附的時間。】
[0071]在磁鐵滑塊31裝有永磁鐵32 —側根據反應杯的外杯面的斜度設計斜度，即反應杯外壁斜度為1°，磁鐵滑塊31的端面匹配加工與水平成1°，永磁鐵32安裝在其上可以更好地貼近反應杯外表面。
[0072]所述磁顆粒混勻機構70包括無刷直流電機71、電機座72、帶軸承的偏心軸73、混勻旋轉軸75及混勻頭77 ；
[0073]所述電機座72固定在安裝板21上，所述無刷直流電機71安裝在所述電機座72上，無刷直流電機71的轉軸穿過電機座72與帶軸承的偏心軸73相連，所述帶軸承的偏心軸73、混勻旋轉軸75及混勻頭77依次相連，混勻頭托住反應杯旋轉，實現混勻；
[0074]【當反應杯運動至混勻位時，位于反應杯下方的混勻頭進行偏心轉動，從而使得反應杯進行偏心轉動從而使得反應杯內的物質進行混勻；】
[0075]如圖4所示，所述清洗機構包括導向軸41、導向輪42、清洗滑動塊43、清洗針44、第二從動帶輪45、第二同步帶46、第二同步帶輪47、霍爾傳感器48、第二步進電機51、第二步進電機固定板52和清洗固定底板53 ；
[0076]【所述第二從動帶輪由2個法蘭軸承小端對裝而成。】
[0077]所述第二步進電機固定板52立裝在清洗固定底板53上，所述第二步進電機51固定在第二步進電機固定板52的下端，所述第二步進電機驅動所述第二同步帶輪47，通過第二同步帶46傳動連接安裝在第二步進電機固定板52上端的第二從動帶輪45 ;所述清洗滑動塊上安裝有清洗針44，且清洗滑動塊與第二同步帶固定連接，隨第二同步帶進行上下運動；所述第二步進電機固定板52的頂端設有第二零位傳感器，且所述第二從動帶輪上設有第二零位感應片。
[0078]【清洗機構工作時，必須先復位即找原點:第二步進電機51順時針轉動，通過第二同步帶傳動，帶動清洗滑動塊43及安裝在其上的清洗針44，當第二零位傳感器48觸碰到第二零位感應片時，即完成復位動作。
[0079]加液動作:第二步進電機51逆時針轉動，通過第二同步帶傳動，帶動清洗滑動塊43及安裝在其上的清洗針44向下運動到反應杯內的指定的位置，開始往反應杯內加液，在加液過程中，第二步進電機51順時針轉動，清洗針44向上運動，直至復位，此過程中需控制保證所加的液體不要沾到清洗針的外針外壁，即液面上升的速度要比清洗針抬升的速度慢。
[0080]抽液動作:反應杯中有液體需要抽取時,第二步進電機51逆時針轉動,通過第二同步帶傳動，帶動清洗滑動塊43及安裝在其上的清洗針44向下運動，此時清洗針有抽液吸附力，保證一接觸液面就開始從反應杯內抽液，在抽液過程中，需控制保證所加的液體不要沾到清洗針的外針外壁，即清洗針抬升的速度要比液面下降的速度慢。】
[0081]使用清洗針為雙管清洗針,外管為加液針，內管為吸液針。
[0082]如圖8所示，還包括設置在固定盤12上且經過反應杯運動軌跡的爬坡抬升機構，所述爬坡抬升機構包括低階爬坡塊61和高階爬坡塊62 ；
[0083]所述爬坡塊為采用特氟龍材料制作；
[0084]設置在混勻工位的混勻頭77位于所述低階爬坡塊和所述高階爬坡塊之間；
[0085]所述低階爬坡塊的最高點和高階爬坡塊的最低點均與混勻頭平行；
[0086]反應杯隨轉盤運動過程中沿低階爬坡塊向上爬升至混勻工位的混勻頭上，沿高階爬坡塊向上爬升至取杯工位。
[0087]【爬坡塊和轉盤的旋轉運動形成爬坡抬升機構60，無需另外的抬升機構抬升反應杯。】
[0088]所述爬坡抬升機構的表面與反應杯的底部圓弧面相切。
[0089]反應杯在轉盤放置孔中是有間隙的，可以擺動及上下活動，爬坡塊設計與反應杯的底部圓弧面相切，故轉盤轉動對反應杯提供轉動，隨著轉動反應杯圓弧面沿爬坡塊表面滑動，隨著與爬坡塊的面升高，逐步抬升。
[0090]如圖9 (a)、圖9 (b)和圖10 (a)、圖10 (b)所示，所述磁顆粒混勻機構上設有混勻座76，混勻座固定在電機座72上；所述混勻旋轉軸穿過混勻座，在混勻座與混勻旋轉軸之間，混勻旋轉軸上套裝有壓縮彈簧74。
[0091]所述磁顆粒混勻機構上還設有彈性壓片套件80，所述彈性壓片套件80包括彈性壓片安裝座81、拉伸彈簧82、拉釘83、壓片84、第二銷軸85和調節螺釘86 ；
[0092]所述彈性壓片安裝座81固定在編碼轉盤機構10的安裝板21上，所述壓片84通過第二銷軸85與彈性壓片安裝座81連接，所述調節螺釘86旋入彈性壓片安裝座81將所述壓片84頂起，拉伸彈簧82 —端鉤住壓片84上，另一端鉤住固定在彈性壓片安裝座81上的拉釘83 ；
[0093]所述壓片上開設有調節孔4，穿過調節孔4改變調節螺釘的高度；所述調節孔4的直徑大小比調節螺釘86的內徑大，且比調節螺釘的外徑小；
[0094]所述調節螺釘為緊定螺釘。
[0095]【利用內六角扳手穿過調節孔4旋動調節螺釘，改變調節螺釘在彈性壓片安裝座中的旋入深度，從而改變壓片與水平面的夾角，即調節壓片84的擺角，使反應杯沿壓片方向順利到達混勻位，在混勻過程中，壓片擋住反應杯，防止混勻過程中反應杯從放置孔中彈出。】
[0096]所述清洗機構中的清洗針為雙管清洗針,外管為加液針，內管為抽液針。
[0097]所述清洗機構中還包括設置在清洗滑動塊兩側的導向輪42及設置在第二步進電機固定板52兩側的導向軸41，導向輪的內側與導向軸接觸。
[0098]【第二步進電機旋轉,帶動同步帶運動,清洗滑動塊43隨同步帶通過導向輪42與導向軸41相對滑動，導向輪和導向軸的設計，使得清洗滑塊的上下運動更為穩定和精確。】
[0099]至少包括一套清洗機構。
[0100]【多套清洗機構，形成多階同步清洗，節約清洗時間，加強清洗力度。】
[0101]【采用步進電機和同步帶傳動帶動轉盤旋轉遞進,反應杯隨轉盤旋轉,轉盤上有8個孔位，每遞進一次旋轉一個孔位，每次遞進時間間隔固定，即每次遞進旋轉45°。四個獨立的加液、抽液清洗機構，可以實現靈活地自動加液、抽液方式和自動選擇抽液、加液次數，而加液針可以自動清洗抽液針，避免不同檢測項目之間的交叉污染；設計的爬坡抬升機構，可以使得反應杯分段抬升，先到達混勻高度，再抬升到取杯高度，在取杯位方便拾取，無需其他的抬升機構抬升反應杯。同時本磁分離機構也可靈活地控制磁鐵吸合時間，機構結構緊湊，占用空間最小，各個運動部件重復性好，實現了化學發光免疫分析設備上的納米磁珠分離和自動清洗功能。】
[0102]可以理解的是，對于本領域的普通技術人員來說，可以根據本實用新型的技術方案和技術構思作出其他各種相應的改變和變形，而所有這些改變和變形都應屬于本實用新型后附的權利要求的保護范圍。
【權利要求】
1.一種新型磁分離機構，其特征在于，包括編碼轉盤機構、磁鐵開合機構及清洗機構；所述磁鐵開合機構安裝在編碼轉盤機構上，所述清洗機構分布在編碼轉盤機構的四周；通過磁鐵開合機構控制磁鐵吸附放置在編碼轉盤機構上的反應杯中的液體中的納米磁珠，通過清洗機構依次對反應杯中的液體進行清洗，完成納米磁珠分離； 所述編碼轉盤機構包括轉盤(11)、固定盤(12)、支撐釘(13)、裝有軸承的軸承座(14)、轉盤旋轉軸(15)、第一同步帶從動輪(16)、第一同步帶主動輪(17)、第一同步帶(18)、第一步進電機(19)、安裝板(21)、固定支撐架(22)、第一零位傳感器(23)、第一零位感應片(24)及第一零位傳感器固定座(25)； 所述安裝板(21)呈水平方向固定在固定支撐架(22)的頂部，固定盤(12)通過至少兩個支撐釘(13)固定在安裝板(21)上；裝有軸承的軸承座(14)安裝在安裝板(21)上；所述轉盤固定在所述轉盤旋轉軸的上端；所述轉盤旋轉軸(15)與所述軸承配合連接且轉盤旋轉軸的下端穿過安裝板并與所述第一同步帶從動輪(16)連接；所述第一同步帶主動輪(17)通過第一同步帶(18)與第一同步帶從動輪(16)傳動相連；所述第一步進電機安裝在固定支撐架側部；由第一步進電機通過第一同步帶主動輪、第一同步帶、第一同步帶從動輪和轉盤旋轉軸最終驅動轉盤旋轉； 所述第一零位傳感器固定座(25)設置在安裝板(21)的底部，所述第一零位傳感器(23)安裝在所述第一零位傳感器固定座(25)上，第一零位感應片(24)安裝在所述第一同步帶從動輪(16)上； 所述轉盤(11)上均勻設置有用于放置反應杯(I)的反應杯孔，且在反應杯孔下方開設有用于放置磁鐵滑塊(31)的導向槽(2); 所述磁鐵開合機構包括所述磁鐵滑塊(31)、永磁鐵(32)、滾子(33)、第一銷軸(34)和開設在固定盤上的凸輪槽(5);所述永磁鐵(32)嵌裝入磁鐵滑塊(31)中，所述第一銷軸(34)的一端與滾子(33)連接，另一端緊配安裝在磁鐵滑塊(31)中；磁鐵滑塊(31)按永磁鐵(32)朝外裝入轉盤(11)的導向槽(2)內，所述磁鐵滑塊(31)上的滾子(33)安裝在固定盤(12)的凸輪槽(5)內；隨著轉盤(11)的旋轉，磁鐵滑塊的滾子(33)沿著凸輪槽滾動，磁鐵滑塊在導向槽上進行徑向運動，吸附反應杯； 所述清洗機構包括導向軸(41)、導向輪(42)、清洗滑動塊(43)、清洗針(44)、第二從動帶輪(45)、第二同步帶(46)、第二同步帶輪(47)、霍爾傳感器(48)、第二步進電機(51)、第二步進電機固定板(52)和清洗固定底板(53)； 所述第二步進電機固定板(52)立裝在清洗固定底板(53)上，所述第二步進電機(51)固定在第二步進電機固定板(52)的下端，所述第二步進電機驅動所述第二同步帶輪(47)，通過第二同步帶(46)傳動連接安裝在第二步進電機固定板(52)上端的第二從動帶輪(45);所述清洗滑動塊上安裝有清洗針(44)，且清洗滑動塊與第二同步帶固定連接，隨第二同步帶進行上下運動；所述第二步進電機固定板(52)的頂端設有第二零位傳感器，且所述第二從動帶輪上設有第二零位感應片。
2.根據權利要求1所述的新型磁分離機構，其特征在于，所述清洗機構中還包括設置在清洗滑動塊兩側的導向輪(42)及設置在第二步進電機固定板(52)兩側的導向軸(41)，導向輪的內側與導向軸接觸。
3.根據權利要求2所述的新型磁分離機構，其特征在于，所述清洗機構中的清洗針為雙管清洗針，外管為加液針，內管為抽液針。
4.根據權利要求3所述的新型磁分離機構，其特征在于，至少包括一套清洗機構。
5.根據權利要求1所述的新型磁分離機構，其特征在于，還包括安裝在編碼轉盤機構上的磁顆粒混勻機構，所述磁顆粒混勻機構包括無刷直流電機(71)、電機座(72)、帶軸承的偏心軸(73)、混勻旋轉軸(75)及混勻頭(77)； 所述電機座(72)固定在安裝板(21)上，所述無刷直流電機(71)安裝在所述電機座(72)上，無刷直流電機(71)的轉軸穿過電機座(72)與帶軸承的偏心軸(73)相連，所述帶軸承的偏心軸(73)、混勻旋轉軸(75)及混勻頭(77)依次相連，混勻頭托住反應杯旋轉，實現混勻。
6.根據權利要求5所述的新型磁分離機構，其特征在于，還包括設置在固定盤(12)上且經過反應杯運動軌跡的爬坡抬升機構，所述爬坡抬升機構包括低階爬坡塊￠1)和高階爬坡塊(62)； 設置在混勻工位的混勻頭(77)位于所述低階爬坡塊和所述高階爬坡塊之間； 所述低階爬坡塊的最高點和高階爬坡塊的最低點均與混勻頭平行； 反應杯隨轉盤運動過程中沿低階爬坡塊向上爬升至混勻工位的混勻頭上，沿高階爬坡塊向上爬升至取杯工位。
7.根據權利要求6所述的新型磁分離機構，其特征在于，所述爬坡抬升機構的表面與反應杯的底部圓弧面相切。
8.根據權利要求5所述的新型磁分離機構，其特征在于，所述磁顆粒混勻機構上設有混勻座(76)，混勻座固定在電機座(72)上；所述混勻旋轉軸穿過混勻座，在混勻座與混勻旋轉軸之間，混勻旋轉軸上套裝有壓縮彈簧(74)。
9.根據權利要求5所述的新型磁分離機構，其特征在于，所述磁顆粒混勻機構上還設有彈性壓片套件(80)，所述彈性壓片套件(80)包括彈性壓片安裝座(81)、拉伸彈簧(82)、拉釘(83)、壓片(84)、第二銷軸(85)和調節螺釘(86)； 所述彈性壓片安裝座(81)固定在編碼轉盤機構(10)的安裝板(21)上，所述壓片(84)通過第二銷軸(85)與彈性壓片安裝座(81)連接，所述調節螺釘(86)旋入彈性壓片安裝座(81)將所述壓片(84)頂起，拉伸彈簧(82) —端鉤住壓片(84)上，另一端鉤住固定在彈性壓片安裝座(81)上的拉釘(83)； 所述壓片上開設有調節孔(4)，穿過調節孔(4)改變調節螺釘的高度；所述調節孔(4)的直徑大小比調節螺釘(86)的內徑大，且比調節螺釘的外徑小； 所述調節螺釘為緊定螺釘。
【文檔編號】G01N1/34GK204142550SQ201420555863
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2014年9月25日 優先權日:2014年9月25日
【發明者】蘇深廣, 唐慶文, 俞超, 唐建波 申請人:深圳市奧特庫貝科技有限公司
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