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專利名稱：借助于光對少量液體介質(zhì)進行分析或吸收測量的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及借助于光對少量的、例如一滴液體介質(zhì)進行分析或吸收測量的裝置，光線穿過介質(zhì)，然后可以通過光度測定、譜光度測定、熒光度測定或光譜熒光度測定進行檢測或分析，其中該裝置具有一個在使用位置中位于上方的平的接納位置，用于敷設(shè)或滴上介質(zhì)，一個在裝置外殼內(nèi)在使用時水平定向的、位于接納位置下方的光入口，以及一個在光路中位于光入口后面的、用于將光線偏轉(zhuǎn)到接納位置的第一設(shè)備。
在許多情況下只有少量的液體試樣被提供。這主要適用于生化的、醫(yī)學(xué)的或藥物的分析中。在具有大量類似試樣的系統(tǒng)序列分析中例如應(yīng)用滴定板作為試樣容器，它們使分析可以有效地串行或并行地進行。
對于性質(zhì)非常不同的物質(zhì)的單獨測量，尤其是在吸收測量中相應(yīng)試樣以已知的方式被裝填到試樣池中，然后被分析。
在具有10微升以下的測量室體積的試樣池，即約一滴大小的情況下由于物質(zhì)量很少，將液體介質(zhì)的試樣裝入測量通道中是很困難的，因為合適的試樣池只具有很小的進入孔，并且測量通道有相應(yīng)小的橫截面。在將要被分析的介質(zhì)試樣裝入到測量通道中時必須保證測量通道被介質(zhì)完全填滿，并且在被測量射線穿過的液體介質(zhì)體積內(nèi)例如沒有氣泡，因為氣泡會使測量結(jié)果產(chǎn)生明顯偏差。
因此，通常首先在相應(yīng)測量設(shè)備外將試樣池填滿并用人眼檢查填充的優(yōu)劣，然后將試樣池放入測量設(shè)備的試樣池支架內(nèi)。這里試樣池必須如此相對于測量射線定位，使得測量室橫截面的光闌作用不會產(chǎn)生試樣池自身吸收水平的起伏，因為這種起伏也可能導(dǎo)致測量結(jié)果的偏差。由于用作測量設(shè)備的光譜儀的射線橫截面通常超過具有最小試樣體積的上述試樣池的自由孔徑，上述情況可能會發(fā)生。試樣池中的定位相對于參考測量的小偏差本身或者由于在一個測量周期中應(yīng)用多個相同結(jié)構(gòu)的、但存在制造的不穩(wěn)定性的試樣池都可能導(dǎo)致測量誤差。在測量之后基于商用測量設(shè)備中試樣池支架的結(jié)構(gòu)實際上不可避免地要從支架上取下試樣池進行清空和清洗。
DE 3344387 A1公開了一種用于小測量體積的光度測量頭，其中在一個材料塊中設(shè)置了一對光發(fā)送機和光接收機，并且此材料塊在光發(fā)送機和光接收機相互對著的平面區(qū)域中有一個空隙，此空隙被一塊平板蓋著。此平板具有一個穿孔，通過它可以將承載裝置放入光發(fā)送機和光接收機相互對著的平面之間的間距中。這樣可以避免使用試樣池。要被分析的液體介質(zhì)滴被放入間距中，并且盡管其上作用有重力，它必須被保持在那里。這樣試樣滴的放入必須十分細心，使得盡管有重力作用還能將試樣滴固定在平面間向下開放的間距內(nèi)，此外這也要求被分析介質(zhì)有相應(yīng)的稠度。
因此本發(fā)明的目的在于給出一種本說明書開始所述類型的裝置，其中少量的液體介質(zhì)可以通過簡單的方式被置于一個測量位置上，并且它在測量之后可以可靠而又簡單地被清洗。此外還可以進行參考測量，而不會在參考測量和試樣測試間改變測試條件，這種條件改變對測量結(jié)果是有害的。
為了解決上述任務(wù)，說明書開始處定義的裝置的特征在于，該裝置具有一個位于接納位置上方的、可拆卸地安裝的反射器，反射器在其使用位置上與接納位置之間有規(guī)定的間距，此間距至少在光通路的區(qū)域內(nèi)被介質(zhì)填滿或可被介質(zhì)填滿，以及設(shè)置了一個第二設(shè)備，它用于將來自反射器的光偏轉(zhuǎn)到一個檢測器。
在此裝置中要被分析的介質(zhì)也可以非常小的量敷設(shè)或滴在一個基本上水平的面上，并且此接納位置至少被光穿過一次。光線通路可以是至反射器或從反射器來，同時具有優(yōu)點的方式是給出相應(yīng)大的測量間距，這時光線不僅在至反射器的路線上，而且也在從此反射器來的路徑上通過試樣。
因為介質(zhì)可以放在一個位于上方的、平的接納位置上，為避免重力的負面影響并不需要特別細心和特別的防范措施。而且重力還有助于將介質(zhì)保持在其進行測量時應(yīng)處的位置上。以這種方式也避免了將介質(zhì)填充到測量通道中的麻煩。只要除去可拆卸的反射器，將試樣放到接納位置或測量位置上，并且將反射器放到其工作位置上，就可以進行測量了。因此，此裝置也適合于對少量或最少量的待分析的介質(zhì)有效地進行單獨測量。此外對于所有這些測量給出了一致的測量條件，使得在參考測量和試樣測量之間不存在具有缺點的變化。試樣例如借助于滴管滴入在此是一個非常簡單的可操作過程。
接納位置也可合乎目的地是可從上面接近的平面，并且要被分析的介質(zhì)可被重力固定或保持在接納位置上。
這里合乎目的的是接納位置如此之大，使得去向反射器的光和從反射器反射出的光至少一次、特別是兩次通過接納位置和/或介質(zhì)。在兩次通過的情況下測量間距為接納位置至反射器距離的兩倍，這允許進行高效的測量和分析。
一個有優(yōu)點的實施例可以是從用于使光線偏轉(zhuǎn)的第一設(shè)備到接納位置之間配置一個光導(dǎo)體或傳導(dǎo)光的光纖束，特別是在接納位置與用于使來自反射器和試樣的光線偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備之間配置一個光導(dǎo)體或傳導(dǎo)光的光纖束。以這種方式可以使被光線照射的接納位置或作用在接納位置上的測量斑點保持很小，這同時意味著光線的最佳利用。這也適用于光線穿過被測試樣兩次的情況，即在其到反射器的路徑上和從反射器返回的路徑上穿過試樣。借助于上述光導(dǎo)體或傳導(dǎo)光的光纖束，光射線可以集中到最窄的空間上。
這里光線的有目的的傳導(dǎo)如此被優(yōu)化在介質(zhì)的接納位置下方設(shè)置一個將光線聚束的光學(xué)元件，即至少一個聚焦透鏡，它與光導(dǎo)體光學(xué)耦合。這種光學(xué)元件不僅可與來自用于將光線偏轉(zhuǎn)的第一設(shè)備的光導(dǎo)體，而且可以與引至用于將光線偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備的光導(dǎo)體相組合。但是也可以靠近兩個相鄰的光導(dǎo)體或光纖束，在它們的終端附近設(shè)置一個用于兩個光導(dǎo)體的共用光學(xué)元件。
為了限制接納位置側(cè)向擴展并從而進一步降低所需的被分析介質(zhì)的量，本發(fā)明的一個特別具有優(yōu)點的實施例是接納位置是反射器下方的裝置的上表面上的一個平的溝槽，并且尤其是由光學(xué)元件或透鏡的對著接納位置的邊界處構(gòu)成或者由在那里終結(jié)的光導(dǎo)體構(gòu)成，其中透鏡或光學(xué)元件和/或光導(dǎo)體的終端相對于用于透鏡或光學(xué)元件或光導(dǎo)體的支架的上表面回退。在一個具有優(yōu)點的實施方式中接納位置的邊界也可以在該表面之后，這時接納位置是一個溝槽或在一個溝槽中，它最好如此構(gòu)成光學(xué)元件或透鏡或光導(dǎo)體的終端設(shè)置得相對于其支架的最上面邊界或平面深一些，從而以這種方式自動形成相應(yīng)的溝槽。
這里符合目的的是與光導(dǎo)體至少光學(xué)耦合的透鏡或光學(xué)元件同時被設(shè)計成裝置的終端窗口，在其上可以滴上所要分析的介質(zhì)試樣。由這些特征和可能性得到一個非常容易操作的裝置，其上可以通過點滴承載很少量的介質(zhì)，這給出一個很簡單的可操作性。而且此試樣也可以非常有效地被光線穿過，此光線可以簡單的方式被測量或檢測。
反射器可以是一個鏡面或一個反射棱鏡，并且可以無間距地與試樣接觸。試樣相應(yīng)有效地被光線穿過并從反射器返回，以通過用于偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備抵達原來的檢測器。通過試樣的測試間距在此可以是接納位置與反射器表面距離的兩倍，并且光線可以兩次通過這個距離，如前面已經(jīng)說明的那樣。
為了使測量有不變的精度并避免各次測量之間以及相對于參考測量的測量條件改變，特別符合目的是可以可拆卸地設(shè)置或安裝的反射器相對于裝置及其外殼防止旋轉(zhuǎn)地固定保持在使用位置上和中心定位。這樣保證了在試樣被承載后它相對于設(shè)備及其外殼、并從而相對于接納位置總是保持在其自己的位置上。此時的反射條件是相應(yīng)一致的。這里存在不同的結(jié)構(gòu)可能性來保證防止旋轉(zhuǎn)，雖然反射器可以從其工作位置被取下。
為了使反射器可重復(fù)地以至接納位置的預(yù)定距離保持在工作位置上，此距離可由反射器與外殼之間的至少一個距離固定器或一個止檔來固定。從而對于使用者來說不需要在將反射器放到裝置上的工作位置時小心地保持預(yù)定的間距。距離固定器或止檔的結(jié)構(gòu)也可有不同的方式。而且可以設(shè)想，距離固定器和用于防止反射器旋轉(zhuǎn)的支架相互結(jié)合。
光線到裝置的入射可以任意實現(xiàn)，檢測也可以通過合適的方式與光線從裝置的出射一起發(fā)生作用，其中可以使用任意的測量裝置。
然而特別合乎目的的是該裝置具有一個可以配合地放入光度計、光譜儀、熒光計或光譜熒光計中，并可被它們的光照射的試樣池的外部尺寸，并且設(shè)置在裝置內(nèi)部的用于光傳導(dǎo)或光偏轉(zhuǎn)的設(shè)備被放置在裝置中在常見的試樣池的情況下用于測量的光線的入射窗和出射窗的位置，其中用于光線偏轉(zhuǎn)的第一設(shè)備將入射光度計的光線偏轉(zhuǎn)到接納位置，而用于光線偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備將從測量位置返回的光線偏轉(zhuǎn)到檢測器。通過合適地選擇本發(fā)明所述裝置的尺寸，裝置可以放到常用的光度計、光譜儀、熒光計或光譜熒光計中，以便在介質(zhì)試樣量非常少的情況下在那里被測量。這大大降低了投資和安裝成本。
適宜的是所述裝置由玻璃或塑料構(gòu)成，并且在光線入射區(qū)域中具有一個偏轉(zhuǎn)棱鏡或一個偏轉(zhuǎn)鏡作為用于偏轉(zhuǎn)的第一設(shè)備，它指向垂直于光入射方向的豎井或通道，用于放置光導(dǎo)體或傳導(dǎo)光的光纖束和與其平行的另一個在其端口處設(shè)置第二偏轉(zhuǎn)棱鏡或偏轉(zhuǎn)鏡的另一個光導(dǎo)體，第二偏轉(zhuǎn)棱鏡或偏轉(zhuǎn)鏡對著光線的出射窗或構(gòu)成這個窗。
以這種方式光入射口和光出射口對應(yīng)于一個商業(yè)上常用的試樣池的入射口和出射口，使得光線的傳導(dǎo)和在其穿過試樣之后的檢測可以很簡單地完全在相應(yīng)的現(xiàn)有測量裝置中完成。
例如，裝置的橫截面尺寸對應(yīng)于標(biāo)準(zhǔn)試樣池的尺寸，并且尤其是被取作12.5毫米×12.5毫米。
還需指出，從裝置再次射出的光線可以與入射光線一起逃逸或與入射光線垂直。后者主要是在熒光計或光譜熒光計的情況下是符合目的的。
首先，在組合單個或多個上述特征和措施的情況下，得到本說明書開始處所定義的裝置，它可以簡單地操作，并能夠與介質(zhì)的粘滯度無關(guān)地分析非常少量的液體介質(zhì)。粘滯度相對高的介質(zhì)也能被良好地分析，因為它可以毫無問題地被固定在基本上水平的接納平面上。此外完成測量后的清洗也可很簡單地完成，并且可以例如借助于光學(xué)清潔布或棉球進行。同時必要時可以使用通常的清洗工具。這里有效的是承載要被分析的介質(zhì)的測量位置很容易接近，其中此裝置甚至可以保留在測量設(shè)備中。
總之，本發(fā)明給出了一種裝置，它首先在具有類似試樣池尺寸的設(shè)計情況下可放入到大多數(shù)常規(guī)使用的測量設(shè)備中，并且也可無需作出變更地放入舊式測量設(shè)備中。用少量費用、并且無需值得一提的時間開銷就可順利地完成參考測量、試樣測量和清洗。
下面借助附圖詳細說明本發(fā)明的實施例。附圖中

圖1示出一個根據(jù)本發(fā)明的裝置及其外殼的縱截面圖，一束光線水平地射入外殼中并由第一設(shè)備偏轉(zhuǎn)為在垂直方向上向上前進，其中存在一個用于放置要被分析的介質(zhì)的位于上方的平的接納位置，其上方是一個可拆卸地安裝的反射器，光線從該反射器經(jīng)由第二光導(dǎo)體行進到用于使光線偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備，并再次從此裝置射出，其中接納位置由一個聚集光線的光學(xué)元件構(gòu)成，圖2是一個變更后的實施例對應(yīng)于圖1的示圖，其中光導(dǎo)體一直被引至用于要被分析的介質(zhì)的平的接納位置處，圖3是圖1中的圓圈中部分的放大圖，其中反射器被去除，試樣已被放入，圖4是對應(yīng)于圖3的示圖，其中反射器已被安裝到其工作位置，反射器無間距地接觸試樣，并且其對著試樣的平面至接納位置有規(guī)定的距離，光線通過此試樣，圖5示出圖1所示本發(fā)明裝置在一個光度計或類似測量設(shè)備中用于安放試樣池的接納豎井中的配置，以及圖6是圖2所示設(shè)備相應(yīng)于圖5的示圖。
在下面的說明中不同實施例中功能一致的部件雖然其造型不同也用相同的附圖標(biāo)記表示。
整體用1表示的裝置，其外殼6及其外殼中內(nèi)容在圖1，2，5和6中以縱截面圖被示出，用于借助箭頭3表示的光對少量的、例如一滴液體介質(zhì)2進行分析或吸收測量。此光線穿過介質(zhì)2，然后以已知的方式以光度測定、光譜測定、熒光測定或光譜熒光測定方法被檢測或分析。
首先整體上察看圖1至4，可以看出裝置1具有一個在工作位置中位于上方的平的基本上水平且平坦的接納位置4，用于敷設(shè)或滴上介質(zhì)2，一個在裝置的外殼6中在工作位置中水平定向的、位于接納位置4下方的光入射口5，一個在光路中位于光入射口5后面的、用于將光線向上偏轉(zhuǎn)到接納位置4的第一設(shè)備7，以及一個可拆卸地安裝在接納位置4上面的反射器8。這里此反射器8在工作位置中具有與接納位置4的規(guī)定的距離，以精確給出對光線的恒定測量間距。按照圖4，此間距至少在光線通道中被介質(zhì)2填充或可被介質(zhì)2填充。此外裝置1還具有一個用于將來自反射器8的光線偏轉(zhuǎn)到檢測器的第二設(shè)備9，此檢測器在圖1和2中沒有詳細示出。
從圖1至3且主要從圖3可以看出，作為平面的接納位置4是可從上方接近的，并且要被分析的介質(zhì)2通過其重力可固定和保持在此接納位置4上。并且此接納位置4的尺寸如此之大，使得通過它射到反射器8并從反射器8返回的光線3至少一次、在兩個實施例中甚至兩次通過接納位置4和通過介質(zhì)2。這樣實現(xiàn)了通過介質(zhì)2構(gòu)成的試樣的測量間距是接納平面4與反射器8表面的距離的兩倍，并且光線兩次穿過此距離。測量間距可以這種方式等于上述距離的兩倍。
在分別為圖1和圖5所示及圖2和圖6所示的這兩個實施例中，從用于將光線偏轉(zhuǎn)到接納位置的第一設(shè)備7開始設(shè)置了一個光導(dǎo)體或傳導(dǎo)光的光纖束10，并且接納位置4與用于使來自反射器8和試樣的光線偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備9之間也設(shè)置了一個光導(dǎo)體或傳導(dǎo)光的光纖束11，從而光線可以有效地并以盡可能小的損耗到達接納位置4并抵達作為試樣的介質(zhì)2。
如圖1，3，4和5所示，在用于介質(zhì)2的平的接納位置4下面設(shè)置有一個聚集光線的光學(xué)元件12，例如一個聚光透鏡，它與光導(dǎo)體10和11光學(xué)耦合。
在圖2和6所示實施例中，光導(dǎo)體10和11一直延伸到接納位置4。
在這兩個實施例中，接納位置4是一個在反射器8下面的裝置1的上表面上的平面溝槽。在圖1，3和4所示實施例中，接納位置4由光學(xué)元件或透鏡12對著它的邊界處構(gòu)成，在圖2所示實施例中，接納位置4由在那里終結(jié)的光導(dǎo)體10和11構(gòu)成，其中透鏡或光學(xué)元件12和/或光導(dǎo)體10，11的終端相對于用于透鏡或光學(xué)元件或光導(dǎo)體的支架的上表面13，或者相對于外殼6的上表面13被回退。在圖3和4中可以特別清楚地看到，用于構(gòu)成較深的接納位置4的光學(xué)元件12回退。這樣液體介質(zhì)2的試樣也被限制和固定在該表面，此外其表面張力對此固定也有貢獻。因此規(guī)定的微升數(shù)量級的少量試樣可被放置到最小的空間上，并且借助于光線被分析和檢測。
在圖3和4所示實施例中，與光導(dǎo)體10和11相耦合的透鏡或光學(xué)元件2同時形成裝置1的終端窗，其上可以滴上要被分析的介質(zhì)2的試樣。不僅在放置試樣時，而且在以后的清洗中操作和可接近性都是相當(dāng)良好和簡單的。
在本實施例中反射器8是一個鏡子，然而也可以是反射棱鏡，并且如圖4那樣在工作位置時無間距地與試樣接觸。
可拆卸地設(shè)置或安裝的反射器8相對于裝置1及其外殼6防止旋轉(zhuǎn)地固定和定位在工作位置上。例如，在圖1和2中這通過反射器8上延著外殼6的邊沿13實現(xiàn)，邊沿具有至少一個邊緣敞開且向下開放的切口14，從而一個與外殼6或裝置1連結(jié)的凸頭或銷釘15可伸入其中。在邊沿13用于中心定位時，借助于切口14和凸頭或銷釘15可實現(xiàn)防止旋轉(zhuǎn)。這里銷釘與光學(xué)元件12不同心也可穿過整個外殼6，并且在對面終端上與第二個向下開放的反射器8邊沿13的切口14共同起作用。
反射器8與接納位置4的距離在該實施例中由環(huán)狀的距離固定器16保持，它安放并固定在反射器8和外殼6的上表面13之間。然而也可以是其它的對反射器8的止檔，它在必要時間接地與其邊沿13共同起作用。代替環(huán)狀安置和環(huán)繞在反射器上的邊沿13區(qū)域中的距離固定器16，也可以用幾個單個的距離固定塊。這里特別有效的是此距離固定器16與反射器8相連，從而在取下反射器后可以無阻擋地接近上表面13和接納位置4，進行清洗。
圖5和6示出裝置1的一個特別符合目的的實施例，其中不僅圖1所示裝置，而且圖2所示裝置都具有一個可配合地放入光度計、光譜儀、熒光計或光譜熒光計中、被它們的光照射的試樣池的外部尺寸。由圖5和6可以看到這種光度計、光譜儀、熒光計或光譜熒光計分別具有一個接納豎井17，這些設(shè)備只是示意性地示出。這里，安放在裝置1內(nèi)部的用于光傳輸或光偏轉(zhuǎn)的設(shè)備7和9被設(shè)置在裝置1的這樣的位置上，使得通常的試樣池在此位置上具有用于測量所使用光線3的入射窗和出射窗，其中用于光偏轉(zhuǎn)的第一設(shè)備7將從光度計或類似設(shè)備射入的光偏轉(zhuǎn)到接納位置4，用于光偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備9將從測量位置和反射器返回的光偏轉(zhuǎn)到檢測器。
在裝置1有相應(yīng)尺寸的情況下它可以被放入現(xiàn)有的測量設(shè)備中，這樣就擴展了其應(yīng)用范圍，因為這樣這些設(shè)備也適用于分析少量或最少量的介質(zhì)2。這里合乎目的的是裝置1的橫截面尺寸對應(yīng)于標(biāo)準(zhǔn)試樣池的尺寸，特別是取為12.5毫米×12.5毫米，因為大多數(shù)光度計或類似測量設(shè)備是為這個尺寸設(shè)計的。這里出射光線可以與入射光線一起逃逸，如圖1和2以及圖5和6所示那樣。但是也可以是出射光線與入射光線在一個基本水平的平面內(nèi)相互垂直，這主要在熒光計中是符合目的的。
還要指出，裝置1合乎目的地由玻璃或塑料構(gòu)成，并且在光入射口5的區(qū)域中具有一個對著垂直于光入射口的豎井18或用于光導(dǎo)體10的通道的偏轉(zhuǎn)棱鏡或偏轉(zhuǎn)鏡作為用于偏轉(zhuǎn)的第一設(shè)備7，平行于光導(dǎo)體10有另一個光導(dǎo)體11，在其端口上設(shè)置有第二個偏轉(zhuǎn)棱鏡或偏轉(zhuǎn)鏡，它對著光線的出射窗或構(gòu)成此窗口，并且第二光導(dǎo)體11也在一個豎井或通道18中前進。
裝置1具有集成的光線偏轉(zhuǎn)借助于相應(yīng)設(shè)備7和9以及光纖的光導(dǎo)體10和11例如在一個光譜儀、光譜熒光計或類似的測量設(shè)備中將用于分析液體介質(zhì)2的光線3引導(dǎo)到裝置1中用于作為介質(zhì)測量位置的接納平面4，并且從它返回到光譜儀、光譜熒光計或類似測量設(shè)備的檢測器。同時此作為測量位置的接納位置4平坦地設(shè)置在裝置1的上表面上，并且在工作位置中被一個蓋式可拆卸的反射器8終接，此反射器無間距地與試樣或介質(zhì)2接觸，并且在放置試樣之前或為了清洗測量位置可以去除反射器。
權(quán)利要求
1.用于借助于光(3)對少量的、例如一滴液體介質(zhì)(2)進行分析或吸收測量的裝置(1)，光(3)通過介質(zhì)(2)，然后可以用光度測定、光譜測定、熒光測定或光譜熒光測定法被檢測或分析，其中裝置(1)具有一個在工作位置中位于上方的平的接納位置(4)，用于敷設(shè)或滴上介質(zhì)(2)，一個在外殼(6)中在工作位置中水平定向的、位于接納位置(4)下方的光入射口(5)，和一個用于將光線向上偏轉(zhuǎn)至接納位置(4)的、在光路中位于光入射口(5)后面的第一設(shè)備(7)，其特征在于，所述裝置(1)具有一個可拆卸地安裝在接納位置(4)上方的反射器(8)，反射器(8)在其工作位置中至接納位置(4)有規(guī)定的距離，此距離至少在光線通道范圍內(nèi)被介質(zhì)(2)填充或可被介質(zhì)(2)填充，并且設(shè)置有一個用于將來自反射器(8)的光線偏轉(zhuǎn)至檢測器的第二設(shè)備(9)。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，作為平面的接納位置(4)是可以從上方接近的，并且要被分析的介質(zhì)(2)被重力固定或保持在接納位置(4)上。
3.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，接納位置(4)的尺寸如此之大，使得穿過它射到反射器(8)并從反射器返回的光(3)至少一次、尤其是兩次通過接納位置(4)和/或通過介質(zhì)(2)。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，從用于使光偏轉(zhuǎn)到接納位置(4)的第一設(shè)備(7)開始配置一個光導(dǎo)體或傳導(dǎo)光的光纖束(10)，并且尤其是在接納位置(4)與用于使來自反射器(8)和試樣的光線偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備(9)之間設(shè)置一個光導(dǎo)體或傳導(dǎo)光的光纖束(11)。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的裝置，其特征在于，在用于介質(zhì)(2)的接納位置(4)下方設(shè)置有一個聚集光線的光學(xué)元件(12)，即至少一個會聚透鏡，它與光導(dǎo)體(10，11)光學(xué)耦合。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的裝置，其特征在于，接納位置(4)是在反射器(8)下方的裝置(1)的上表面上的一個平面溝槽，并且尤其是由光學(xué)元件或透鏡(12)對著接納位置的邊界處構(gòu)成，或者由在那里終結(jié)的光導(dǎo)體(10，11)構(gòu)成，其中透鏡或光學(xué)元件(12)和/或光導(dǎo)體(10，11)的終端相對于用于透鏡或光學(xué)元件(12)或光導(dǎo)體的支架的上表面(13)回退。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項所述的裝置，其特征在于，與光導(dǎo)體(10，11)相耦合的透鏡或光學(xué)元件(12)同時構(gòu)成裝置(1)的終端窗，其上可以滴上要被分析的介質(zhì)(2)的試樣。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項所述的裝置，其特征在于，反射器(8)是一個鏡子或反射棱鏡，并且反射器在工作位置上無間距地接觸介質(zhì)(2)的試樣。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項所述的裝置，其特征在于，通過試樣的測量間距是接納平面(4)與反射器(8)的表面的距離的兩倍，并且光線兩次通過此距離。
10.如權(quán)利要求1至9中任一項所述的裝置，其特征在于，可拆卸地放置或安裝的反射器(8)相對于裝置(1)及其外殼(6)防止旋轉(zhuǎn)地被固定和中心定位在工作位置上。
11.如權(quán)利要求1至10中任一項所述的裝置，其特征在于，反射器(8)與接觸位置(4)的間距由至少一個位于反射器(8)與外殼(6)之間的距離固定器(16)或止檔固定。
12.如以上權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，裝置(1)具有一個可配合地放入一個光度計、光譜儀、熒光計或光譜熒光計中、可被它們的光照射的試樣池的外部尺寸，并且設(shè)置在裝置(1)內(nèi)部的、用于光傳輸或光偏轉(zhuǎn)的設(shè)備(7，9)被設(shè)置在裝置(1)的這樣一個位置上，通常的試樣池在此位置上有用于測量所使用的光(3)的入射窗和出射窗，其中用于光偏轉(zhuǎn)的第一設(shè)備(7)將從光度計或類似設(shè)備射入的光偏轉(zhuǎn)到接納平面(4)，并且用于光偏轉(zhuǎn)的第二設(shè)備(9)將從測量位置返回的光偏轉(zhuǎn)到檢測器。
13.如權(quán)利要求1至12中任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置由玻璃或塑料構(gòu)成，并且在光入射口(5)的區(qū)域內(nèi)有一個對著垂直于光入射口，用于光導(dǎo)體(10)和與其平行的另一光導(dǎo)體(11)的豎井(18)或通道的偏轉(zhuǎn)棱鏡或偏轉(zhuǎn)鏡作為用于偏轉(zhuǎn)的第一設(shè)備(7)，在光導(dǎo)體(11)的端口處設(shè)置第二個偏轉(zhuǎn)棱鏡或偏轉(zhuǎn)鏡，它對著光線的出射窗或構(gòu)成此窗口。
14.如權(quán)利要求1至13中任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置(1)的橫截面尺寸對應(yīng)于標(biāo)準(zhǔn)試樣池的尺寸，尤其是12.5mm×12.5mm。
15.如權(quán)利要求1至14中任一項所述的裝置，其特征在于，出射光線與入射光線一起逃逸或相互垂直。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種具有集成光線偏轉(zhuǎn)能力的裝置(1)，它利用相應(yīng)的設(shè)備(7和9)，以及用于例如在一個光譜儀、光譜熒光計或類似測量設(shè)備中將分析液體介質(zhì)(2)所使用的光(3)引導(dǎo)到位于裝置(1)上的作為介質(zhì)的接納裝置(4)的測量位置并從測量位置返回到光譜儀、光譜熒光計或類似設(shè)備的檢測器的光纖光導(dǎo)體(10和11)。其中作為測量位置的接納位置(4)平坦地位于裝置(1)的上表面上，并且在工作位置時被一個蓋式的可拆卸的反射器(8)終接，反射器無間距地接觸試樣或介質(zhì)(2)，并且在安放試樣之前或清洗測量位置時反射器可被去除。
文檔編號G01N21/59GK1950691SQ200580014151
公開日2007年4月18日 申請日期2005年4月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月7日
發(fā)明者托馬斯·薩希里, 霍爾瑪·卡納德勒 申請人:豪瑪有限公司, 托馬斯·薩希里