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一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種可連續(xù)出蠟的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，包括主熔蠟缸和輔熔蠟缸，所述輔熔蠟缸設(shè)有第一加熱裝置，所述主熔蠟缸底部設(shè)有出蠟管，所述主熔蠟缸和輔熔蠟缸之間設(shè)有輸蠟管，所述輔熔蠟缸設(shè)有加蠟口和進(jìn)氣口，所述輔熔蠟缸密封設(shè)置，所述出蠟管管口設(shè)有第二加熱裝置。本實(shí)用新型的有益效果在于：輔熔蠟缸可向主熔蠟缸及時(shí)提供備用蠟，確保液態(tài)石蠟不間斷供應(yīng)，無(wú)需等待；出蠟管管口設(shè)有的加熱裝置可以給管口石蠟單獨(dú)加熱，防止石蠟冷卻硬化，保證流蠟暢通，不堵蠟；通過向進(jìn)氣口通入高壓氣體控制輸蠟管輸送液態(tài)石蠟，無(wú)需在輸蠟管內(nèi)設(shè)控制閥，可避免漏蠟。
【專利說(shuō)明】一種組織包埋機(jī)溶蠟裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及醫(yī)療器械【技術(shù)領(lǐng)域】，具體地說(shuō)是一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]組織包埋機(jī)是對(duì)人體或動(dòng)植物標(biāo)本經(jīng)脫水浸蠟后進(jìn)行組織蠟塊包埋，以供切片后作組織學(xué)診斷或研宄的設(shè)備，石蠟包埋是醫(yī)院臨床上人體和動(dòng)植物生物組織切片檢驗(yàn)的重要工序。制作切片或超薄切片時(shí)，由于組織質(zhì)地柔軟，或局部的軟硬不均，這樣難以制作厚薄均勻的切片。所以必須先用某些特殊物質(zhì)浸透組織內(nèi)部，使整個(gè)組織硬化并包裹住組織以起到支持作用，再用切片機(jī)制作切片。石蠟包埋是先將熔化的石蠟注入包埋托內(nèi)，而后用鑷子將經(jīng)過浸蠟的組織塊從脫水盒中取出，放入包埋托中央，放在小冷臺(tái)上，用鑷子輕按組織塊，以達(dá)到組織塊平整，蓋上脫水盒底，再加好石蠟，移至冷凍臺(tái)上，待冷凍好后，卸下組織蠟塊待切。現(xiàn)有的組織包埋機(jī)均設(shè)有熔蠟裝置，熔蠟裝置包括單熔蠟缸、加熱裝置和設(shè)置于單熔蠟缸底部的出蠟管，這種熔蠟裝置的缺陷有:
[0003]1、無(wú)法保證包埋工作的連續(xù)性。由于石蠟導(dǎo)熱慢，組織包埋機(jī)的熔蠟缸容積有限，導(dǎo)致包埋過程中經(jīng)常出現(xiàn)熔蠟缸中融化的石蠟用盡，而后添加的石蠟又必須等待數(shù)小時(shí)方可融化的情況，致使包埋工作被迫中斷；出蠟管管口達(dá)不到石蠟的熔化溫度使得石蠟硬化、積壓，堵住出蠟管管口。
[0004]2、石蠟與雜質(zhì)分離效果不佳。單熔蠟缸使石蠟在一個(gè)缸內(nèi)融化，石蠟中的雜質(zhì)等沉淀物無(wú)法與液態(tài)石蠟分離，與石蠟一同被包埋到組織中，造成包埋質(zhì)量下降；或者僅在出蠟管處設(shè)置過濾網(wǎng)，使得流速較快的液體長(zhǎng)期沖擊濾網(wǎng)而容易導(dǎo)致濾網(wǎng)受損的問題。
[0005]為了克服上述缺陷，往往需另外購(gòu)置熔蠟器或恒溫箱確保備用石蠟的供應(yīng)，但這樣做又極大地增加了成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0006]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是:提供一種可連續(xù)出蠟的組織包埋機(jī)熔蠟裝置。
[0007]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置，包括主熔蠟缸和輔熔蠟缸，所述輔熔蠟缸設(shè)有第一加熱裝置，所述主熔蠟缸底部設(shè)有出蠟管，所述主熔蠟缸和輔熔蠟缸之間設(shè)有輸蠟管，所述輔熔蠟缸設(shè)有加蠟口和進(jìn)氣口，所述輔熔蠟缸密封設(shè)置，所述出蠟管管口設(shè)有第二加熱裝置。
[0008]進(jìn)一步的，所述第一加熱裝置連接有第一溫度控制裝置。
[0009]進(jìn)一步的，所述進(jìn)氣口設(shè)置于所述輔熔蠟缸上部，所述輸蠟管設(shè)置于主熔蠟缸和輔熔蠟缸的上部，所述輸蠟管位于輔熔蠟缸的一端延伸進(jìn)入輔熔蠟缸內(nèi)并向下延伸且管口與輔熔蠟缸底部留有距離。
[0010]進(jìn)一步的，所述輔熔蠟缸包括缸體和蓋體，所述缸體的上開口形成所述加蠟口，所述蓋體封閉住所述加蠟口，所述缸體和蓋體之間設(shè)有密封圈。
[0011]進(jìn)一步的，所述輸蠟管上設(shè)有過濾器，所述過濾器包括濾網(wǎng)、濾筒、第三加熱裝置和第三溫度控制裝置。
[0012]進(jìn)一步的，所述組織包埋機(jī)熔蠟裝置還包括空壓泵，所述進(jìn)氣口通過空壓泵與外界相通。
[0013]進(jìn)一步的，所述主熔蠟缸內(nèi)設(shè)有液位傳感器，所述液位傳感器與所述空壓泵電連接。
[0014]進(jìn)一步的，所述主熔蠟缸外表面設(shè)有隔熱層。
[0015]進(jìn)一步的，所述主熔蠟缸設(shè)有第四加熱裝置，所述第四加熱裝置連接有第四溫度控制裝置。
[0016]進(jìn)一步的，所述組織包埋機(jī)熔蠟裝置還包括控制電路板，所述第一加熱裝置連接有第一溫度傳感器，所述第二加熱裝置連接有第二溫度傳感器，所述輸蠟管上設(shè)有過濾器，所述過濾器設(shè)有第三加熱裝置，所述第三加熱裝置連接有第三溫度傳感器，所述主熔蠟缸設(shè)有第四加熱裝置，所述第四加熱裝置連接有第四溫度傳感器，所述主熔蠟缸內(nèi)設(shè)有液位傳感器，所述進(jìn)氣口連接有空壓泵，所述控制電路板分別與第一溫度傳感器、第二溫度傳感器、第三溫度傳感器、第四溫度傳感器、液位傳感器和空壓泵電連接。
[0017]本實(shí)用新型的有益效果在于:輔熔蠟缸可向主熔蠟缸及時(shí)提供備用蠟，確保液態(tài)石蠟不間斷供應(yīng)，無(wú)需等待；出蠟管管口設(shè)有的加熱裝置可以給管口石蠟單獨(dú)加熱，防止石蠟冷卻硬化，保證流蠟暢通，不堵蠟；通過向進(jìn)氣口通入高壓氣體控制輸蠟管輸送液態(tài)石蠟，無(wú)需在輸蠟管內(nèi)設(shè)控制閥，可避免漏蠟。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例組織包埋機(jī)熔蠟裝置立體圖。
[0019]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例組織包埋機(jī)熔蠟裝置剖視圖。
[0020]標(biāo)號(hào)說(shuō)明:
[0021]1、主熔蠟缸；11、出蠟管；2、輔熔蠟缸；21、缸體；22、蓋體；23、進(jìn)氣口 ；3、輸蠟管；4、隔熱層；5、液位傳感器。

【具體實(shí)施方式】
[0022]為詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖予以說(shuō)明。
[0023]本實(shí)用新型最關(guān)鍵的構(gòu)思在于:在原來(lái)的熔蠟缸基礎(chǔ)上增加一個(gè)輔熔蠟缸，輔熔蠟缸設(shè)有加熱裝置、溫度控制裝置、進(jìn)氣口和與原熔蠟缸相連接的輸蠟管，原出蠟管管口增設(shè)加熱裝置防止石蠟硬化堵住管口，通過向進(jìn)氣口通入高壓氣體控制輸蠟管中液態(tài)石蠟的輸送，可確保包埋工作的連續(xù)。
[0024]請(qǐng)參照?qǐng)D1和圖2，一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置，包括主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2，所述輔熔蠟缸2設(shè)有第一加熱裝置，所述主熔蠟缸I底部設(shè)有出蠟管11，所述主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2之間設(shè)有輸蠟管3，所述輔熔蠟缸2設(shè)有加蠟口和進(jìn)氣口 23，所述輔熔蠟缸2密封設(shè)置，所述出蠟管11管口設(shè)有第二加熱裝置。
[0025]從上述描述可知，本實(shí)用新型的有益效果在于:輔熔蠟缸2可向主熔蠟缸I及時(shí)提供備用蠟，確保液態(tài)石蠟不間斷供應(yīng)，無(wú)需等待；出蠟管11管口設(shè)有的加熱裝置可以給管口石蠟單獨(dú)加熱，防止石蠟冷卻硬化，保證流蠟暢通，不堵蠟；通過向進(jìn)氣口 23通入高壓氣體控制輸蠟管3輸送液態(tài)石蠟，無(wú)需在輸蠟管3內(nèi)設(shè)控制閥，可避免漏蠟。
[0026]進(jìn)一步的，所述第一加熱裝置連接有第一溫度控制裝置。
[0027]由上述描述可知，第一溫度控制裝置可將輔熔蠟缸2內(nèi)的溫度控制在高于石蠟熔點(diǎn)且低于雜質(zhì)熔點(diǎn)的范圍內(nèi)，使雜質(zhì)在輔熔蠟缸2內(nèi)沉淀下來(lái)。
[0028]進(jìn)一步的，所述進(jìn)氣口 23設(shè)置于所述輔熔蠟缸2上部，所述輸蠟管3設(shè)置于主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2的上部，所述輸蠟管3位于輔熔蠟缸2的一端延伸進(jìn)入輔熔蠟缸2內(nèi)并向下延伸且管口與輔熔蠟缸2底部留有距離。
[0029]由上述描述可知，使用時(shí)首先向進(jìn)氣口 23通入高壓氣體，在壓力作用下，輔熔蠟缸2內(nèi)的液態(tài)石蠟在輸蠟管3中上升流入主熔蠟缸1，由于雜質(zhì)沉淀在輔熔蠟缸2底部而輸蠟管3距離底部尚有一定距離，可減少雜質(zhì)混入液態(tài)石蠟中進(jìn)入主熔蠟缸I。
[0030]進(jìn)一步的，所述輔熔蠟缸2包括缸體21和蓋體22，所述缸體21的上開口形成所述加蠟口，所述蓋體22封閉住所述加蠟口，所述缸體21和蓋體22之間設(shè)有密封圈。
[0031]由上述描述可知，缸體21上開口形成所述加蠟口，使用時(shí)先打開輔熔蠟缸2的蓋體22添加固態(tài)石蠟，再密封好輔熔蠟缸2，方便加蠟。
[0032]進(jìn)一步的，所述輸蠟管3上設(shè)有過濾器，所述過濾器包括濾網(wǎng)、濾筒、第三加熱裝置和第三溫度控制裝置。
[0033]由上述描述可知，過濾器的加熱裝置和溫度控制裝置可將加熱溫度控制在高于石蠟熔點(diǎn)且低于殘余雜質(zhì)熔點(diǎn)的范圍內(nèi)，進(jìn)一步去除雜質(zhì)。
[0034]進(jìn)一步的，所述組織包埋機(jī)熔蠟裝置還包括空壓泵，所述進(jìn)氣口 23通過空壓泵與外界相通。
[0035]由上述描述可知，通過向進(jìn)氣口 23通入高壓氣體控制輸蠟管3輸送液態(tài)石蠟，無(wú)需在輸蠟管3內(nèi)設(shè)控制閥，可避免漏蠟。
[0036]進(jìn)一步的，所述主熔蠟缸I內(nèi)設(shè)有液位傳感器5，所述液位傳感器5與所述空壓泵電連接。
[0037]由上述描述可知，主熔蠟缸I設(shè)有與輔熔蠟缸2空壓泵連接的液位傳感器5，當(dāng)主熔蠟缸I的石蠟液面下降到一定高度時(shí)，空壓泵自動(dòng)開啟，向輔熔蠟缸2內(nèi)通入高壓氣體，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)加蠟。
[0038]進(jìn)一步的，所述主熔蠟缸I外表面設(shè)有隔熱層4。
[0039]由上述描述可知，主熔蠟缸I外的隔熱層4可起到保溫作用，降低電能消耗。
[0040]進(jìn)一步的，所述主熔蠟缸I設(shè)有第四加熱裝置，所述第四加熱裝置連接有第四溫度控制裝置。
[0041 ] 進(jìn)一步的，還包括控制電路板，所述第一加熱裝置連接有第一溫度傳感器，所述第二加熱裝置連接有第二溫度傳感器，所述輸蠟管3上設(shè)有過濾器，所述過濾器設(shè)有第三加熱裝置，所述第三加熱裝置連接有第三溫度傳感器，所述主熔蠟缸I設(shè)有第四加熱裝置，所述第四加熱裝置連接有第四溫度傳感器，所述主熔蠟缸I內(nèi)設(shè)有液位傳感器5，所述進(jìn)氣口23連接有空壓泵，所述控制電路板分別與第一溫度傳感器、第二溫度傳感器、第三溫度傳感器、第四溫度傳感器、液位傳感器5和空壓泵電連接。
[0042]由上述描述可知，通過控制電路板同時(shí)控制主熔蠟缸I溫度、輔熔蠟缸2溫度、出蠟管11管口溫度、過濾器溫度以及空壓泵，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制，無(wú)需人工操作。
[0043]請(qǐng)參照?qǐng)D1和圖2，本實(shí)用新型的實(shí)施例1為:一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置，包括主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2，所述輔熔蠟缸2設(shè)有第一加熱裝置，所述主熔蠟缸I底部設(shè)有出蠟管11，所述主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2之間設(shè)有輸蠟管3，所述輔熔蠟缸2設(shè)有加蠟口，所述輔熔蠟缸2密封設(shè)置，所述輔熔蠟缸2側(cè)壁上部設(shè)有進(jìn)氣口 23，所述出蠟管11管口設(shè)有第二加熱裝置。所述第一加熱裝置連接有第一溫度控制裝置。所述輸蠟管3設(shè)置于主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2的上部，所述輸蠟管3位于輔熔蠟缸2的一端延伸進(jìn)入輔熔蠟缸2內(nèi)并向下延伸且管口與輔熔蠟缸2底部留有距離。所述輔熔蠟缸2包括缸體21和蓋體22，所述缸體21和蓋體22之間設(shè)有密封圈。所述輸蠟管3上設(shè)有過濾器，所述過濾器包括濾網(wǎng)、濾筒、第三加熱裝置和第三溫度控制裝置。所述主熔蠟缸I內(nèi)設(shè)有液位傳感器5，所述進(jìn)氣口 23連接有空壓泵，所述液位傳感器5與所述空壓泵電連接。所述主熔蠟缸I外表面設(shè)有隔熱層4。所述主熔蠟缸I上方開口。所述主熔蠟缸I設(shè)有第四加熱裝置，所述第四加熱裝置連接有第四溫度控制裝置。
[0044]請(qǐng)參照?qǐng)D1和圖2，本實(shí)用新型的實(shí)施例2為:一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置，包括主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2，所述輔熔蠟缸2設(shè)有第一加熱裝置，所述主熔蠟缸I底部設(shè)有出蠟管11，所述主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2之間設(shè)有輸蠟管3，所述輔熔蠟缸2密封設(shè)置，所述輔熔蠟缸2側(cè)壁上部設(shè)有進(jìn)氣口 23，所述出蠟管11管口設(shè)有第二加熱裝置。所述輸蠟管3設(shè)置于主熔蠟缸I和輔熔蠟缸2的上部，所述輸蠟管3位于輔熔蠟缸2的一端延伸進(jìn)入輔熔蠟缸2內(nèi)并向下延伸且管口與輔熔蠟缸2底部留有距離。所述輔熔蠟缸2包括缸體21和蓋體22，所述缸體21和蓋體22之間設(shè)有密封圈。所述主熔蠟缸I外表面設(shè)有隔熱層4。所述主熔蠟缸I上方開口。所述組織包埋機(jī)熔蠟裝置還包括控制電路板，所述第一加熱裝置連接有第一溫度傳感器，所述第二加熱裝置連接有第二溫度傳感器，所述輸蠟管3上設(shè)有過濾器，所述過濾器設(shè)有第三加熱裝置，所述第三加熱裝置連接有第三溫度傳感器，所述主熔蠟缸I設(shè)有第四加熱裝置，所述第四加熱裝置連接有第四溫度傳感器，所述主熔蠟缸I內(nèi)設(shè)有液位傳感器5，所述進(jìn)氣口 23連接有空壓泵，所述控制電路板分別與第一溫度傳感器、第二溫度傳感器、第三溫度傳感器、第四溫度傳感器、液位傳感器5和空壓泵電連接。
[0045]綜上所述，本實(shí)用新型提供的組織包埋機(jī)熔蠟裝置的有益效果有:輔熔蠟缸提供備用蠟使得包埋工作可連續(xù)進(jìn)行，無(wú)需等待；輔熔蠟缸可將雜質(zhì)沉淀在底部，避免混入液態(tài)石蠟中；輸蠟管不接觸輔熔蠟缸底面，可避免帶出雜質(zhì)沉淀；通過高壓氣體而不是控制閥控制輸蠟管輸送液態(tài)石蠟，可避免漏蠟；輸蠟管設(shè)有過濾器可進(jìn)一步去除雜質(zhì)；主熔蠟缸設(shè)有隔熱層，減少電能消耗；主熔蠟缸上方開口，方便觀察；主熔蠟缸的液位傳感器與輔熔蠟缸的空壓泵電連接可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)加蠟，減少人工操作；出蠟管口的加熱裝置可避免堵蠟。
[0046]以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等同變換，或直接或間接運(yùn)用在相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:包括主熔蠟缸和輔熔蠟缸，所述輔熔蠟缸設(shè)有第一加熱裝置，所述主熔蠟缸底部設(shè)有出蠟管，所述主熔蠟缸和輔熔蠟缸之間設(shè)有輸蠟管，所述輔熔蠟缸設(shè)有加蠟口和進(jìn)氣口，所述輔熔蠟缸密封設(shè)置，所述出蠟管管口設(shè)有第二加熱裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:所述第一加熱裝置連接有第一溫度控制裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:所述進(jìn)氣口設(shè)置于所述輔熔蠟缸上部，所述輸蠟管設(shè)置于主熔蠟缸和輔熔蠟缸的上部，所述輸蠟管位于輔熔蠟缸的一端延伸進(jìn)入輔熔蠟缸內(nèi)并向下延伸且管口與輔熔蠟缸底部留有距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:所述輔熔蠟缸包括缸體和蓋體，所述缸體的上開口形成所述加蠟口，所述蓋體封閉住所述加蠟口，所述缸體和蓋體之間設(shè)有密封圈。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:所述輸蠟管上設(shè)有過濾器，所述過濾器包括濾網(wǎng)、濾筒、第三加熱裝置和第三溫度控制裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:還包括空壓泵，所述進(jìn)氣口通過空壓泵與外界相通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:所述主熔蠟缸內(nèi)設(shè)有液位傳感器，所述液位傳感器與所述空壓泵電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:所述主熔蠟缸外表面設(shè)有隔熱層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:所述主熔蠟缸設(shè)有第四加熱裝置，所述第四加熱裝置連接有第四溫度控制裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組織包埋機(jī)熔蠟裝置，其特征在于:還包括控制電路板，所述第一加熱裝置連接有第一溫度傳感器，所述第二加熱裝置連接有第二溫度傳感器，所述輸蠟管上設(shè)有過濾器，所述過濾器設(shè)有第三加熱裝置，所述第三加熱裝置連接有第三溫度傳感器，所述主熔蠟缸設(shè)有第四加熱裝置，所述第四加熱裝置連接有第四溫度傳感器，所述主熔蠟缸內(nèi)設(shè)有液位傳感器，所述進(jìn)氣口連接有空壓泵，所述控制電路板分別與第一溫度傳感器、第二溫度傳感器、第三溫度傳感器、第四溫度傳感器、液位傳感器和空壓泵電連接。
【文檔編號(hào)】G01N1/36GK204247172SQ201420724579
【公開日】2015年4月8日 申請(qǐng)日期:2014年11月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月26日
【發(fā)明者】樂衛(wèi)敏 申請(qǐng)人:樂衛(wèi)敏