專利名稱：位移傳感器的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種位移傳感器，其包括投光部和具有光圈(絞り)的受光部，以下述方式構成在調整上述投光部的光射出位置和上述光圈成為共軛的關系的同軸光學系統(被稱為同軸共焦點方式的光學系統)的光軸上，沿該光軸配備可往復移動的透鏡部，根據受光部的受光量信號取得極大值時的上述透鏡的位置對測量對象物進行測量的位移。
背景技術：
這種位移傳感器是利用以下原理若從投光部經由透鏡部所射出的光在規定位置聚光，則在該聚光點反射的光在與投光路線相反的路徑前進之后，在與光射出位置處于共軛的關系的光圈的位置進行聚光。具體地說，使透鏡部內的規定的透鏡沿光軸往復運動并射出在規定位置聚光的測量光束，與此同時接收相對該光束的反射光，根據受光部的受光量信號取得極大值時的透鏡的位置，求出測量對象物(以下，稱為“工件”)的位移。
作為公開了該光學系統或測量處理的原理的文獻，例如存在下述的專利文獻1。
專利文獻1JP特開平7-113617號公報。
圖8是表示上述的專利文獻1所公開的位移傳感器的光學系統的結構。該光學系統包括通過由激光二極管構成的投光部200、包括光電二級管201以及針孔202的受光部203、光束分離器204以及一對的透鏡205、206等。透鏡之中，接近投受光部一側的透鏡205為準直透鏡，另外的透鏡206為物鏡。
物鏡206被安裝在未圖示的音叉的前端，根據音叉的振動沿光軸進行往復移動。若在該狀態下使激光二極管201發光，則通過了上述透鏡205、206的測量光束BM的聚光位置也發生變化。因此，在測量光束BM的聚光位置和工件W的表面的位置一致時，來自工件W的反射光在針孔202聚光，因此光電二級管201的受光量信號變大。另一方面，其他時候不產生上述現象，成為光幾乎不入射到光電二級管201的狀態。由此，根據受光量信號成為了極大值時的物鏡206的位置求出此時刻的測量光束BM的聚光位置，并能夠將此作為工件W的位置。
這種位移傳感器是用于測量玻璃基板上的電極圖案等、工件上的微小的位移，所以需要以光軸方向上的照射光的聚光范圍被限定在極小的范圍內的方式(換而言之，以焦點深度變淺的方式)，調整光學系統。
另一方面，有這樣的要求因為工件的基準面的高度或位移的大小由工件的種類而變化，所以需要能夠對傳感器的動作距離(從傳感器的光射出面到測量光束的聚光位置的距離之中的最小的距離)和測定范圍(光束的聚光位置移動的范圍)自由地進行變更。
作為滿足這樣要求的一個方法，考慮有替換上述物鏡的方法。但是若變更透鏡的重量或直徑，則共振頻率也變化，因此透鏡的驅動系統也必須重新設計。因此，只單純替換透鏡不能滿足這樣的要求，并且實施該方法很困難。
另外，如下述的專利文獻2所記載的，也有在物鏡和準直透鏡之間配備發散透鏡，通過使該發散透鏡往復移動，對聚光位置進行調整的方法。但是，根據該方法，由于進入物鏡的光不是平行光，所以縮小聚光位置變困難，產生不能確保測量精度這樣的問題。另外，由于使發散透鏡往復移動，所以若為了調整聚光位置而要替換發散透鏡，則產生與上述的替換物鏡時同樣的問題。
專利文獻2JP特開2004-102228號公報。
進而，這種位移傳感器多在工廠等被使用于聯機測量，在其測量中變更工件的情況也很多，但是如上所述，替換傳感器內部的透鏡或驅動系統的方法是如果不長時間中止測量就不能實行的，因而現場的用戶實行也很困難，因此在進行聯機測量的現場很難采用。
對此，認為通過在同軸共焦點方式的光學系統追加變換用的透鏡，只要使聚光位置變動，不變更傳感器本體的設計，就能夠適應聯機測量。
圖9、10是表示在組裝了上述圖8的光學系統的傳感器頭部210安裝組裝有變換用透鏡的透鏡架211，而變更了動作距離和測定范圍的例子。在圖9的例子中，在上述透鏡架211內組裝準直透鏡212以及聚光透鏡213，使在傳感器頭部210內的光學系統中聚光的光暫時成平行光之后，再次使之聚光。另外在圖10的例子中，通過一個聚光透鏡214，使在聚光后擴散的光再次聚光。
此外，在任意一個的圖中，a、b是表示原有的光學系統的動作距離以及測定范圍，A、B是表示變更后的動作距離以及測定范圍。
這樣從理論上說，通過追加透鏡，能夠變更動作距離和測定范圍。但是，若變更一次被匯聚的光的方向，則容易受透鏡的象差等的影響，其結果，不能充分縮小再次聚光時的聚光的范圍，不能確保測量的精度。
另外，在圖9、10的例子中，由于使在通過原來的光學系統聚光后擴散的光射入到修正用的透鏡212、213、214中，所以若變更該修正用的透鏡212、213、214的高度，則動作距離和測定范圍也變更。在這種結構中，若按照工件W的高度調整透鏡架211的位置，則測量的條件也進行變動，產生不容易調整的問題。
加之，在圖10的方法中，從將發散光聚光來看，除需要直徑較大的透鏡214之外，需要以從原來的光學系統的光的聚光位置到透鏡214的距離D大于透鏡214的焦點距離的方式進行設定，從而也具有透鏡架211大型化的問題。
發明內容
本發明是著眼于上述問題而做出的，其目的在于通過追加結構簡單的透鏡架而能夠簡單地變更動作距離和測定范圍，同時在變更后也能夠確保測量的精度。
本發明的位移傳感器，其在包含有投光部和包括光圈的受光部、且調整為上述投光部的光射出位置和上述光圈成為共軛的關系的同軸光學系統的光軸上，配置有包含沿該光軸能夠往復移動的透鏡的透鏡部，根據在上述受光部的受光量信號為極大值時的上述透鏡的位置來對測量對象物的位移進行測量。在收容有上述同軸光學系統的筐體上，在與上述透鏡部的最后一個透鏡的透鏡面相對向的位置形成有光出入口，同時，在該光出入口以能夠裝卸的方式配備有支承物鏡的透鏡架。上述透鏡部在上述能夠往復移動的透鏡進行一次往復的期間的規定時刻，將來自上述投光部的光轉換成平行光，并引導到上述光出入口。
在此，所謂使受光量信號取得極大值，是指與受光量為極大值對應得到的信號取得極值的狀態的意思，是根據信號的極性也包含負的極大值即極小值。
根據上述結構，從筐體的光出入口射出的光，通過外置的物鏡在規定位置聚光。在此，如果是在從光出入口射出的光成為平行光的時刻，能夠將通過物鏡后的光匯聚到所限定的范圍內。另外，考慮到如果往復移動的透鏡的振動幅度微小，則即使在得到上述平行光的時刻以外，也生成近似于平行光的光(以下，稱為“近似平行光”)，因此同樣，使來自物鏡的光匯聚到所限定的范圍。由此，利用該被匯聚的光能夠進行高精度的測量。
此外，在透鏡部中可以包含一個或多個透鏡，還可以將其中的任意個數的透鏡以可往復移動的方式進行設定。另外，透鏡架不限于一個，可以制作物鏡的焦點距離不同的多種透鏡架，選擇按照目的的透鏡架并安裝在光出入口。
在上述位移傳感器優選的實施方式中，上述透鏡架或者該架內的物鏡在光軸方向上的位置能夠變更。根據該方式，能夠按照工件的高度來調整物鏡的位置。另外，如果從光出入口射出有平行光或者近似平行光，則即使從光出入口到物鏡的距離改變，射入到物鏡的光的幅度也幾乎沒有變化。因此，以物鏡為基準的動作距離和測定范圍也幾乎沒有變化，所以能夠容易地確定物鏡或者透鏡架的位置，能夠提供便利性高的位移傳感器。
在上述位移傳感器的其他的優選的實施方式中，上述透鏡部在到達上述能夠往復移動的透鏡為靜止狀態時應位于的基準位置時，將來自上述投光部的光轉換為平行光。這時，在透鏡到達基準位置的時刻以及其前后的規定期間，如果進行利用近似平行光進入到透鏡架的期間的受光量信號的測量處理，則能夠進行高精度的測量處理。
在上述位移傳感器的更優選的實施方式中，設置測量裝置，該測量裝置，在上述平行光以及近似于平行光的光從上述透鏡部射出期間，利用上述受光部得到的受光量信號測量到上述測量對象物的距離。該測量裝置可以設置在收容有上述同軸光學系統的筐體內，也可以作為與該筐體不同的裝置構成。
根據本發明，在能夠以簡單的結構，根據工件的種類等對光的聚光位置簡單地進行調整之外，使聚光的范圍限定在極狹小的范圍，能夠確保測量精度。因此，能夠提供一種性能良好，在使用便利的方面也出色的位移傳感器。
圖1是表示本發明所適用的傳感器頭部的光學系統的說明圖。
圖2是表示透鏡位置信號和受光量信號的關系的說明圖。
圖3是位移傳感器的框圖。
圖4是表示能夠調整透鏡架的位置的例子的說明圖。
圖5是表示使透鏡架能夠在測量中上下移動的例子的說明圖。
圖6是表示圖5的上下移動機構的結構的說明圖。
圖7是表示由圖5的結構的位移傳感器的調整處理得到的測定對象位置和物鏡之間的關系的說明圖。
圖8是表示現有的位移傳感器中的同軸共焦點光學系統的結構的說明圖。
圖9是表示在由圖8的光學系統的傳感器頭部追加了透鏡的例子的說明圖。
圖10是表示在由圖8的光學系統的傳感器頭部追加了透鏡的例子的說明圖。
具體實施例方式
圖1表示本發明所適用的位移傳感器的傳感器頭部1的構成例。
該傳感器頭部1在工件W的表面掃描測量光束BM，并接收來自工件W的每個時刻對該工件W照射的測量光束BM的反射光，生成對工件W的表面的位移進行測量所必要的受光量信號。所生成的受光量信號被輸入后述的控制器2，實行用于對工件W的位移進行測量的處理。
在該實施例的傳感器頭部1設置有由利用了激光二極管30的投光部3、包含光電二極管40以及針孔41的受光部4、半透半反鏡5a、5b、三個透鏡6、7a、7b等構成的同軸共焦點光學系統。進而在該傳感器頭部1形成針對上述光學系統的光出入口10。在該光出入口10連接形成有在內面具有螺紋部的筒狀體11，在該筒狀體11可裝卸的安裝有收容物鏡12的透鏡架13。
投光部3的激光二極管30朝向使其光軸面向上述光出入口10的方向(在該圖中垂直方向)而被配備。受光部4相對該投光部3，以經由半透半反鏡5a處于同軸的關系，激光二極管30的光射出面和針孔41成為共軛的關系的方式配備。
三個透鏡6、7a、7b之中，最接近投受光部3、4的透鏡6為準直透鏡，剩下的兩個透鏡7a、7b是焦點距離相同的聚光透鏡。各聚光透鏡7a、7b分別與音叉8的前端部一體地安裝。另外，各聚光透鏡7a、7b的焦點與音叉的中心線重合。
在音叉的附近位置配備驅動用的線圈9。通過以一定的周期反復對該線圈9通電的期間和停止供給電流的期間來使音叉8振動。各聚光透鏡7a、7b相應于上述音叉8的振動，向相互靠近的方向以及遠離的方向移動。
此外，在上述傳感器頭部1內，為了檢測出上側的聚光透鏡7a的位置，設置LED(光電二級管)14以及PSD(位敏器)15。此外，以生成測量區域內的圖像為目的，設置具有規定個數的象素的CCD(電荷耦合器件)16。來自光出入口10的反射光經由半透半反鏡5b被導向CCD16，從而生成呈現出明暗的圖像。
在上述中，來自激光二極管30的光經由半透半反鏡5a、5b被引導到準直透鏡6，轉換為平行光。進而，該平行光在通過聚光透鏡7a暫時聚光之后，通過另一個聚光透鏡7b再次變為平行，由光出入口10射出。
透鏡架13內的物鏡12接收從上述光出入口10射出的平行光，生成在規定位置聚光的測量光束BM。為了使光在所限定的范圍聚光，考慮到因為使平行光射入為理想的條件，該實施例的測量光束BM在光軸方向的寬度極窄的范圍聚光。另外，如果射入到物鏡12的光是平行光，則物鏡12不論處于什么位置，以該透鏡12為基準的動作距離和測定范圍都不變化，因此物鏡12的設置高度的自由度變大，聚光位置的調整也變得容易。另外，由于能夠僅用外置的透鏡架13調整動作距離和測定范圍，所以不需要變更傳感器頭部1或控制器2的結構，因而即使一般使用者也能夠簡單地進行調整作業，來設定所希望的測量條件。
圖2表示由顯示上述PSD15檢測出的聚光透鏡7a的位置的信號(以下，稱為“透鏡位置信號”)、和由光電二極管40得到的受光量信號的關系。
上述PSD15接收相對從上述LED14照射到聚光透鏡7a的光的反射光，輸出表示其射入位置的信號。該信號被輸入到后述的信號處理電路18，根據三角測量法，求出聚光透鏡7a的位置。將此與時間系列并列的位置作為圖2的透鏡位置信號。由于聚光透鏡7a相應于音叉8的振動而進行移動，因此透鏡位置信號成為以音叉8的靜止時的位置(以下，稱為“基準位置”)為中心呈正弦波狀變化的信號。
若上述工件W的表面與測量光束BM的聚光位置重合，則在工件W上反射的測量光束BM經過與投光路線相反的路徑，在激光二極管30以及針孔41的位置聚光。在這時的受光量信號出現極大值(波峰)。
在圖2的例子中，在上述聚光透鏡位于規定的位置P時，在受光量信號上出現波峰。這是表示工件W的表面位于聚光透鏡放置在位置P時的測量光束BM的聚光點的位置的意思。由此，在該實施例中，預先求出表示從物鏡12到測量光束BM的聚光位置的距離和透鏡位置信號的關系的轉換圖表，利用該轉換圖表求出與在受光量信號出現波峰時的聚光透鏡7a的位置對應的距離，將該距離認為是從上述物鏡12到工件W的表面的距離(以下，將該距離稱為“檢出距離”)。
圖3是表示上述傳感器頭部1以及控制器2的電氣結構的框圖。
在上述傳感器頭部1，除上述光學系統之外，組裝有EEPROM(可擦除可編程只讀存儲器)17、信號處理電路18、音叉驅動電路19、上述激光二極管30的驅動電路(未圖示)等。在控制器2插入有傳感器頭部1側的光電二級管40以及針對來自CCD16的信號A/D變換電路29a、29b、CPU20、圖像存儲器22、輸入輸出接口23、監視器接口24、以及FPGA(FieldProgrammable Gate Array現場可編程門陣列)21等。
FPGA21承擔傳感器頭部1的動作控制以及信號處理，包括波峰檢測部25、對應位置檢測部26、驅動脈沖生成部27、選擇器28等。
驅動脈沖生成部27生成具有一定的周期的驅動脈沖，將此供給到上述傳感器頭部1的音叉驅動電路19。音叉驅動電路19向上述線圈9供給電流，通過以相應于上述驅動脈沖的周期來開、關電流，從而使音叉8以一定的周期振動。
上述傳感器頭部1的信號處理電路18每隔一定的取樣時間就對來自PSD15的信號進行取樣并測量聚光透鏡7a的位置，輸出其測量值。被輸出的測量值被供給到控制器2的對應位置檢測部26。
光電二級管(在圖3中表示為“PD”)40的受光量信號，被輸入到控制器2之后，在A/D變換電路29a進行數字變換，并被供給到波峰檢測部25。波峰檢測部25通過微分處理等檢測出受光量信號的極大值，在檢測出了極大值時，輸出表示其意思的檢出信號。該檢出信號被供給到對應位置檢測部26以及選擇器28。
對應位置檢出測部26，在被輸入了上述檢出信號時，對在該輸入時刻的透鏡位置信號的值進行取樣保持，并輸出到CPU20。
上述傳感器頭部1的EEPROM17與CPU20連接。CPU20若從上述對應位置檢測部26接受取樣保持值，則通過其值參照EEPROM17的轉換圖表，將與上述取樣保持值對應的距離(在該實施例中，以mm單位表示)作為檢出距離進行提取。進而，CPU20求出提取的檢出距離和在第一階段前提取的檢出距離之差，其差大于規定的閾值時，判斷為在工件W的表面產生了位移，進而判斷出上述檢出距離的差為位移的大小。該位移的有無或位移部分的大小所涉及的判斷結果經由輸入輸出接口23而被輸出到未圖示的外部設備。
此外，來自CCD16的圖像信號被輸入到A/D變換電路29b以及監視器接口24。進而A/D變換后的圖像信號被輸入到選擇器28。選擇器28將輸入來自上述波峰檢測部25的檢出信號之后到經過一定的時間所接受到的圖像數據輸出到圖像存儲器22。由此在圖像存儲器22保存來自上述傳感器頭部1的測量用光束與工件W的表面重合時所生成的圖像。此外，通過在上述監視器接口24連接監視器，可以總是顯示傳感器頭部1的測量對象區域的圖像。
此外，在上述傳感器頭部1能夠組合焦點距離不同的多個物鏡12。這時，在EEPROM17針對每個物鏡12設定轉換圖表，CPU20從這些轉換圖表之中選擇與所使用的物鏡12對應的圖表，實行求出上述檢出距離的處理。
但是，在上述圖1所示的光學系統中，在音叉8靜止時，以各聚光透鏡7a、7b的焦點與音叉8的中心軸重合的方式設定，因此在各透鏡7a、7b到達基準位置的時刻，能夠向光出入口10射出完全的平行光。但是，若各聚光透鏡7a、7b從基準位置離開而焦點偏離，則向光出入口10的光不成為完全的平行光。
但是，考慮到由于透鏡7a、7b的移動范圍極小，所以透鏡7a、7b間的焦點的偏移也不會太大，能夠生成認為是大致平行的沒有障礙的光(近似平行光)。由此，從上述的傳感器頭部1的光出入口10總是射出平行光或者近似平行光，因此能夠從物鏡12射出在所限定的范圍內聚光的測量光束BM，可以高精度地提取工件W上的微小的位移。
此外，在要求更嚴密的測量精度時，也可以僅在聚光透鏡7a、7b位于基準位置的時刻以及其前后的各透鏡7a、7b間的焦點的偏移量位于規定值以內的期間進行測量。
然后，在將這種的位移傳感器使用于聯機測量的情況下，原則上傳感器頭部1被配置在規定的高度位置，工件W依次被搬入到該測量區域內，進行對移動中的工件W的測量處理。還有，由于根據工件W的種類，基準的高度會發生變動，所以也有為使工件W的表面被包含在傳感器頭部1的測定范圍內，必須調整傳感器頭部1的高度的情況。
但是，傳感器頭部1的支承部為了穩定化牢固地構成，所以高度調整很困難。
另一方面，如上述的圖9、圖10所示，也考慮有通過外置的透鏡延伸測量光束BM的聚光位置的方法，但是如事先說明的那樣，仍會在這些結構中產生聚光的范圍變大，不能確保測量精度這樣的問題。
對此，在表示上述圖1的光學系統時，通過根據工件W的高度來調整物鏡12的位置，從而能夠簡單地解決。
圖4是表示能夠微調整上述透鏡架13相對傳感器頭部1的安裝位置的例子。此外，在該實施例以及下面的圖5的實施例中，主要的結構與圖1相同，因此對于與圖1相同的結構，通過在圖中標上相同的符號，省略說明。
在此例中，在與上述傳感器頭部1的光出入口10連通的筒狀體11設置螺絲孔101，通過插入到該螺絲孔101的螺絲102，能夠將透鏡架13固定在任意的高度位置。根據該結構，以工件W的表面被包含在傳感器頭部1的測定范圍內的方式，能夠在調整透鏡架13相對筒狀體11的高度位置之后，在其所調整的位置固定透鏡架13，因此不變更傳感器頭部1的高度，就能夠與工件W的高度對應。還有，即使這樣調整透鏡架13的位置，因為射入到物鏡12的光的幅度幾乎沒有改變，所以不會有測量光束BM聚光的范圍變大的可能，能夠穩定測量的精度。
進而，由于考慮到以物鏡12為基準的動作距離和測定范圍也幾乎不改變，因此只限于使用同樣的物鏡12，與其設置的高度無關，利用同樣的轉換圖表就能夠求出檢出距離。由此，由于只考慮使動作距離和測定范圍與工件W適合調整透鏡架13的位置即可，所以調整作業變得極容易。
此外，調整物鏡12的高度的結構不限于上述。例如，也可以以能夠對透鏡架13的長度的設定進行變更的方式構成，通過調整其長度來變更物鏡12的高度。
圖5是表示在測量一個工件W的期間按照其表面的高度的波動調整物鏡12的位置的構成例。
工件W的表面，即使以肉眼看為平坦，但是不能形成為完全均勻的面。另一方面，存在為了檢測出微小的位移而將測定范圍較小地進行設定的趨勢。由此，在測量中工件W相對測定范圍上下移動，出現要檢測的位移部分出到測定范圍以外等的，產生測量錯誤的可能性。因此，在圖5的實施例中，在上述筒狀體11的內部設置音圈式的上下移動機構103，通過該機構103將透鏡架13在筒狀體11的內部以可上下移動的方式進行支承。還有，以工件W的表面總是位于測定范圍的中心附近的方式，根據每小時的測量值來調整透鏡架13的高度。
圖6是表示上述上下移動機構103的概略結構。
此例的上下移動機構103由設置在透鏡架13的側面的四個聚焦磁鐵104，與各磁鐵104對向配置的四個焦點驅動線圈105構成。此外，在傳感器頭部1的本體內部設置與各焦點驅動線圈105相對的電流供給電路。
在上述的結構中，支承上述物鏡12的透鏡架13，通過在各焦點驅動線圈105和與其對應的磁鐵104之間產生的磁場M，被支承在規定的高度位置。另外，通過控制在各焦點驅動線圈105流動的電流的朝向以及大小，能夠使透鏡架13沿光軸的方向(與圖6的紙面正交的方向)往復移動。
在使用上述圖5、6所示的結構的傳感器頭部1時，控制器2的CPU20每次求檢出距離，求出其檢出距離相對基準的檢出距離的差，根據其差的值決定在上述焦點驅動線圈105流動的電流的方向或電流量，按照其決定控制上述電流供給電路。此外，所謂基準的檢出距離是相當于從測定范圍的中心點、即上述聚光透鏡位于基準位置時的測量光束BM的聚光位置到物鏡12的距離。
根據上述的控制，如圖7所示，若工件W上的測定對象位置接近物鏡12，則為了遠離工件W物鏡12向上方移動，若測定對象位置遠離物鏡12，則物鏡12為了靠近工件W而向下方移動。
根據上述的結構，能夠以工件W的表面總是位于測定范圍的中心部的方式調整并進行測量，因此防止位移的部分從測定范圍脫離，能夠進行高精度的測量。但是根據該控制，在顯示出了應檢測出的位移的情況下也進行物鏡12的位置調整，因此僅在檢出距離相對基準位置的差小于用于判別上述位移的有無的閾值時，進行位置調整為最佳。
權利要求
1.一種位移傳感器，其在包含有投光部和包括光圈的受光部、且調整為上述投光部的光射出位置和上述光圈成為共軛的關系的同軸光學系統的光軸上，配置有包含沿該光軸能夠往復移動的透鏡的透鏡部，根據在上述受光部的受光量信號為極大值時的上述透鏡的位置來對測量對象物的位移進行測量，其特征在于，在收容有上述同軸光學系統的筐體上，在與上述透鏡部的最后一個透鏡的透鏡面相對向的位置形成有光出入口，同時，在該光出入口以能夠裝卸的方式配備有支承物鏡的透鏡架，上述透鏡部在上述能夠往復移動的透鏡進行一次往復的期間的規定時刻，將來自上述投光部的光轉換成平行光，并引導到上述光出入口。
2.如權利要求1所記載的位移傳感器，其特征在于，上述透鏡架或者該架內的物鏡的光軸方向上的位置能夠變更。
3.如權利要求1所記載的位移傳感器，其特征在于，上述透鏡部在到達上述能夠往復移動的透鏡為靜止狀態時應位于的基準位置時，將來自上述投光部的光轉換為平行光。
4.如權利要求1所記載的位移傳感器，其特征在于，還具有測量裝置，該測量裝置在上述平行光以及近似于平行光的光從上述透鏡部射出的期間，利用上述受光部得到的受光量信號測量到上述測量對象物的距離。
全文摘要
本發明在能夠簡單地變更動作距離和測定范圍的同時，也能變確保更后的測量精度。在傳感器頭部(1)中，通過相應于準直透鏡(6)以及音叉(8)的振動而往復移動的一對聚光透鏡(7a、7b)，生成平行光或者近似平行光，并由光出入口(11)射出。在光出入口(11)以可裝卸地安裝支承物鏡(12)的透鏡架(13)。從光出入口(11)射出的光通過物鏡(12)被加工為在規定位置聚光的測量光束(BM)。
文檔編號G01B11/02GK1955634SQ20061013596
公開日2007年5月2日 申請日期2006年10月16日 優先權日2005年10月28日
發明者山下吉弘, 中島浩貴, 河內雅弘 申請人:歐姆龍株式會社
專業數控銑床產品供應商
20年生產經驗，實力工廠，精工品質，質量有保障
