專利名稱：一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法
技術領域：
本發明涉及光纖涂覆領域，特別是涉及一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法。
背景技術：
現有的測量光纖涂覆層的測試方法有側視光分布法和機械法對光纖側面進行光纖涂覆層尺寸的進行測量。A.側視法:采用合適的光纖夾具旋轉光纖試樣，測試出不同角度位置上得包層直徑、一次涂層直徑、二次涂覆層直徑，計算出相應參數的最大值和最小值。試驗裝置如圖1和圖2所示。如圖1和圖2所示側視法是對光纖的側面進行光纖涂覆層的幾何尺寸進行測試，由于光纖本身是透明的而且具有聚焦作用，不同形狀的光纖存在不同的聚焦能力，因此本身在測試過程中存在這種聚焦能力而影響光纖的測量精度。測試法的典型精度為lum。B.機械法:如圖3所不,米用兩個平站,一個固定、另一個移動。可移動平站安裝在精密控制器上或者可以自由移動。通過彈簧(或有懸掛重物產生拉力、或采用其他類似手段)將可移動平砧貼緊固定平砧(或光纖)。測量時，應將平砧表面與試樣表面的接觸力跳到足夠小，使得試樣或平砧產生的變形可以忽略。用電子測微計精確地測量兩平砧的間隙。如圖3所示，采用機械法由于采用了接觸式測試，不僅測試精度不高，同時測試參數只能進行光纖最外層涂覆的測試。綜上所述，現有的測試方法存在的問題如下:1.測試精度低；i1.測試參數少，無法滿足光纖生產廠家的要求；ii1.測試穩定性能差。
發明內容
鑒于以上所述現有技術的缺點，本發明的目的在于提供一種能夠精確測量光纖涂覆層(包括一次涂覆層)幾何參數的測試方法，用于解決現有技術中的問題。為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法，包括如下步驟:(I)在光纖涂覆層端面向后合適的長度處剝離涂覆層，再采用光源從剝離處照A ；(2)光源通過涂覆層的傳導，將光纖涂覆層的端面照亮；(3)將光纖涂覆層的端面的圖像投影至成像系統中，通過各涂覆層不同的材料衰減系數以及不同的光入射角，即能將各層次區分開。優選的，所述步驟3中，所述成像系統包括圖像采集系統和圖像處理系統，圖像采集系統采集圖像，再通過圖像處理系統即可計算出光纖涂覆層的各項數據。(包括各涂覆層的涂覆層直徑、涂覆層不圓度、最小(最大)涂覆層厚度、涂覆\芯同心度誤差等參數)
優選的,所述成像系統為CO) (Charge-coupled Device)成像系統。優選的，所述剝離涂覆層的位置位于光纖涂覆層端面向后5-80_。本發明第二方面提供所述光纖涂覆層幾何參數的檢測方法在光纖涂覆層測試領域的應用。本發明應用廣泛，本發明適用于各種光纖涂覆層材料，可以測試未經著色的各種光纖類型的光纖。本發明的測試方法大大提高的光纖涂覆層(包括一次涂覆層)參數的測試速度，提高了工作效率。此發明作光纖涂覆層(包括一次涂覆層)幾何參數測試的關鍵技術和創新點之一，可以解決原有設計系統中無法進行光纖一次涂覆層參數的測試。本發明通過上述的方法實現光纖涂覆層(包括一次涂覆層)的幾何參數端面測試的測試方法，大大提高光纖涂覆層幾何參數測試儀的測試速度和測試精度，特別是一次涂覆層的幾何參數的測試精度。
圖1顯示為測試光分布法試驗裝置(包含光學顯微鏡)。圖2顯示為測試光分布法試驗裝置(包含激光器)。
`
圖3顯示為典型的電子測微計系統(俯視圖)。
圖4顯示為光纖涂覆層端面圖像生成示意圖。
圖5顯示為(XD成像系統示意圖。元件標號說明I顯微鏡2旋轉光纖夾具3旋轉臺4白光源5第一被試光纖6折射率匹配液7光源8掃描裝置9第一透鏡組10第二被試光纖11第二透鏡組12光檢測器13數據采集器14固定平貼15試樣支架16第一彈簧17后向反射鏡18電子測微計19精密平臺上的平貼20試樣
21第二試樣支架22第二彈簧23測微計螺桿31光源32裸光纖33光纖涂覆層34光纖涂覆層端面圖像35CCD成像系統36成像在CCD上的圖像
具體實施例方式以下通過特定的具體實例說明本發明的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所揭露的內容輕易地了解本發明的其他優點與功效。本發明還可以通過另外不同的具體實施方式
加以實施或應用，本說明書中的各項細節也可以基于不同觀點與應用，在沒有背離本發明的精神下進行各種修飾或改變。請參閱圖4-5。需要說明的是，本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本發明的基本構想，遂圖式中僅顯示與本發明中有關的組件而非按照實際實施時的組件數目、形狀及尺寸繪制，其實際實施時各組件的型態、數量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態也可能更為復雜。如圖4所示，在光纖涂覆層33端面向后合適的長度內剝離涂覆層，露出裸光纖32，再采用光源31從此處照入。光從剝離處通過各層涂覆層的傳導，將光纖涂覆層33的端面照亮并根據不同的材料衰減系數不同，生成光纖涂覆層端面圖像34，將不同層次區分開。如圖5所示，將區分開的光纖涂覆層端面圖像34經過CXD成像系統35成像。將成像在CCD上的圖像36進行采集、圖像處理以及合適的算法，將光纖涂覆層各項數據測量出。實施例1通過如下步驟，對光纖的各參數進行測試:(I)在光纖涂覆層端面后剝離涂覆層，再采用光源從剝離處照入；(2)光源通過涂覆層的傳導，將光纖涂覆層的端面照亮；(3)將光纖涂覆層的端面的圖像投影至CXD成像系統中，圖像采集系統采集圖像，通過各涂覆層不同的材料衰減系數以及不同的光入射角，即能將各層次區分開，再通過圖像處理系統即可計算出光纖涂覆層的各涂覆層的涂覆層直徑、涂覆層不圓度、最小(最大)涂覆層厚度、涂覆\芯同心度誤差等參數。各光纖的設計規格及成像結果如表I所示:表I
權利要求
1.一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法，包括如下步驟: (1)在光纖涂覆層端面向后合適的長度處剝離涂覆層，再采用光源從剝離處照入； (2)光源通過涂覆層的傳導，將光纖涂覆層的端面照亮； (3)將光纖涂覆層的端面的圖像投影至成像系統中，通過各涂覆層不同的材料衰減系數以及不同的光入射角，即能將各層次區分開。
2.如權利要求1所述的一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法，其特征在于，所述步驟3中，所述成像系統包括圖像采集系統和圖像處理系統，圖像采集系統采集圖像，再通過圖像處理系統即可計算出光纖涂覆層的各項數據。
3.如權利要求2所述的一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法，其特征在于，所述成像系統為CXD成像系統。
4.如權利要求1所述的一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法，其特征在于，所述剝離涂覆層的位置位于光纖涂覆層端面向后5-80_處。
5.如權利要求1-4任一權利要求所述的光纖涂覆層幾何參數的檢測方法在光纖涂覆層測試領域的應用。
全文摘要
本發明涉及光纖涂覆領域，特別是涉及一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法。本發明提供一種光纖涂覆層幾何參數的檢測方法，包括如下步驟在光纖涂覆層端面向后合適的長度處剝離涂覆層，再采用光源從剝離處照入；光源通過涂覆層的傳導，將光纖涂覆層的端面照亮；將光纖涂覆層的端面的圖像投影至成像系統中，通過各涂覆層不同的材料衰減系數以及不同的光入射角，即能將各層次區分開。本發明通過上述的方法實現光纖涂覆層的幾何參數端面測試的測試方法，大大提高光纖涂覆層幾何參數測試儀的測試速度和測試精度，特別是一次涂覆層的幾何參數的測試精度。
文檔編號G01B11/00GK103115568SQ20131004688
公開日2013年5月22日 申請日期2013年2月6日 優先權日2013年2月6日
發明者沈奶連, 涂建坤, 王建財 申請人:上海電纜研究所
專業數控銑床產品供應商
20年生產經驗，實力工廠，精工品質，質量有保障
