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X射線碘化銫閃爍屏的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種X射線碘化銫閃爍屏，包括：基板和蒸鍍在基板上的閃爍體層，所述基板與所述閃爍體層間還設有反射層，所述閃爍體層上表面還壓合有阻隔層，所述閃爍體層為碘化銫層，所述基板為玻璃、光纖面板或光纖纖維中的一種，所述反射層為金屬膜層，并所述金屬膜層的材質為鋁膜，所述阻隔層為防水薄膜層。通過上述方式，本發明X射線碘化銫閃爍屏，具有優異的阻水和防水效果，同時具有提高圖像分辨率的效果。
【專利說明】X射線碘化銫閃爍屏
【技術領域】
[0001]本發明涉及X射線成像【技術領域】，特別是涉及一種X射線碘化銫閃爍屏。
【背景技術】
[0002]無機閃爍體在X射線輻射探測中起著非常重要的作用，廣泛應用于影像核醫學、核物理、高能物理、CT以及安檢等領域。目前研究和應用最多的無機閃爍體為碘化銫閃爍體，但是碘化銫材料為吸濕性材料，當其吸收空氣中的水分而潮解時，會影響閃爍體的特性，特別是圖像分辨率大大降低，因此，有效封裝閃爍體，防止其受潮并提高其圖像分辨率是X射線成像【技術領域】一個重要的研究方向。

【發明內容】

[0003]本發明主要解決的技術問題是提供一種X射線碘化銫閃爍屏，能夠具有優異的阻水和防水效果，同時具有提高圖像分辨率的效果。
[0004]為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是:提供一種X射線碘化銫閃爍屏，包括:基板和蒸鍍在基板上的閃爍體層，所述基板與所述閃爍體層間還設有反射層，所述閃爍體層上表面還壓合有阻隔層，所述閃爍體層為碘化銫層，所述基板為玻璃、光纖面板或光纖纖維中的一種，所述反射層為金屬膜層，并所述金屬膜層的材質為鋁膜，所述阻隔層為防水薄膜層。
[0005]在本發明一個較佳實施例中，所述碘化銫層的材質為高密度、超細針狀結構碘化艷晶體。
[0006]在本發明一個較佳實施例中，所述防水薄膜層的材質為無機物或高分子材料。
[0007]本發明的有益效果是:本發明X射線碘化銫閃爍屏，基板與閃爍體層結合度好，并且閃爍體層的材質采用高密度、超細針狀結構的碘化銫晶體，具有優異的阻水和防水效果，同時具有提高圖像分辨率的效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是本發明X射線碘化銫閃爍屏一較佳實施例的結構示意圖；
附圖中各部件的標記如下:1、基板，2、反射層，3、閃爍體層，4、阻隔層。
【具體實施方式】
[0009]下面結合附圖對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0010]請參閱圖1，本發明實施例包括:
一種X射線碘化銫閃爍屏，包括:基板I和蒸鍍在基板I上的閃爍體層3，所述基板I與所述閃爍體層3間還設有反射層2，所述閃爍體層3的上表面還壓合有阻隔層4，所述閃爍體層3為碘化銫層，所述基板I為玻璃、光纖面板或光纖纖維中的一種，優先用玻璃，其表面光滑平整并具有阻水效果，同時對X光線吸收率小于5% ;所述反射層2為金屬膜層，并且所述金屬膜層的材質為鋁膜，其對可見光的反射率大于90% ;所述阻隔層4為防水薄膜層，并且所述防水薄膜層的材質為無機物或高分子材料，水蒸汽透過率低，用于保護閃爍體層3免受水汽破壞，并且可見光透過率大于90%。
[0011]其中，碘化銫層的材質為高密度、超細針狀結構碘化銫晶體，提升了圖像增強器的分辨率和信噪比。
[0012]本發明揭示了一種X射線碘化銫閃爍屏，基板與閃爍體層結合度好，并且閃爍體層的材質采用高密度、超細針狀結構的碘化銫晶體，具有優異的阻水和防水效果，同時具有提高圖像分辨率的效果。
[0013]以上所述僅為本發明的實施例，并非因此限制本發明的專利范圍，凡是利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的【技術領域】，均同理包括在本發明的專利保護范圍內。
【權利要求】
1.一種X射線碘化銫閃爍屏，其特征在于，包括:基板和蒸鍍在基板上的閃爍體層，所述基板與所述閃爍體層間還設有反射層，所述閃爍體層上表面還壓合有阻隔層，所述閃爍體層為碘化銫層，所述基板為玻璃、光纖面板或光纖纖維中的一種，所述反射層為金屬膜層，并所述金屬膜層的材質為鋁膜，所述阻隔層為防水薄膜層。
2.根據權利要求1所述的X射線碘化銫閃爍屏，其特征在于，所述碘化銫層的材質為高密度、超細針狀結構碘化銫晶體。
3.根據權利要求1所述的X射線碘化銫閃爍屏，其特征在于，所述防水薄膜層的材質為無機物或高分子材料。
【文檔編號】G01T1/202GK103744104SQ201310657422
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2013年12月9日 優先權日:2013年12月9日
【發明者】范波 申請人:江蘇龍信電子科技有限公司