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一種透光結構的應力檢測裝置和檢測方法
【專利摘要】本發明實施例公開了一種透光結構的應力檢測裝置和檢測方法，涉及顯示【技術領域】，能夠對透光結構的應力分布狀態進行檢測。該透光結構的應力檢測裝置包括：光源、第一偏振片和光強分布狀態檢測單元和應力分布狀態分析單元；其中，所述光源出射均勻的偏振光，檢測過程中，所述第一偏振片和所述光源分別位于所述透光結構的兩側，所述光強分布狀態檢測單元用于獲取射出所述第一偏振片的偏振光的光強分布狀態；所述應力分布狀態分析單元用于根據所述光強分布狀態獲得所述透光結構的應力分布狀態。
【專利說明】一種透光結構的應力檢測裝置和檢測方法

【技術領域】
[0001] 本發明涉及顯示【技術領域】，尤其涉及一種透光材料的應力檢測裝置和檢測方法。

【背景技術】
[0002] 液晶顯示器是一種平面超薄的顯示裝置，其包括許多透光結構，例如導光板、玻璃 基板等結構。上述透光結構內部存在應力，這些應力會導致液晶顯示器出現各種顯示不良， 嚴重的情況下還會導致液晶顯示器的彎曲或者破裂。
[0003] 通常這些應力是在透光結構的制作過程中產生的。示例性地，導光板的制作過程 如下：將導光板的原材料加熱至熔融狀態注射入導光板模具中，冷卻塑化后即得到具有特 定形狀的導光板。在導光板的制作過程中，由于處于熔融狀態的導光板的原材料具有流動 性，因此原材料在冷卻塑化的過程中不可避免地在導光板內部存在應力。
[0004] 發明人發現，現有技術中無法對透光結構的應力分布狀態進行檢測，進而無法有 效提升透光結構的質量以及顯示裝置的顯示效果。


【發明內容】

[0005] 本發明所要解決的技術問題在于提供一種透光結構的應力檢測裝置和檢測方法， 能夠對透光結構的應力分布狀態進行檢測。
[0006] 為解決上述技術問題，本發明實施例提供了一種透光結構的應力檢測裝置，采用 如下技術方案：
[0007] -種透光結構的應力檢測裝置包括：光源、第一偏振片和光強分布狀態檢測單元 和應力分布狀態分析單兀；
[0008] 其中，所述光源出射均勻的偏振光，檢測過程中，所述第一偏振片和所述光源分別 位于所述透光結構的兩側，所述光強分布狀態檢測單元用于獲取射出所述第一偏振片的偏 振光的光強分布狀態；所述應力分布狀態分析單元用于根據所述光強分布狀態獲得所述透 光結構的應力分布狀態。
[0009] 所述應力分布狀態還用于分析所述透光結構具有所述應力分布狀態的原因。
[0010] 所述的透光結構的應力檢測裝置還包括工藝參數實時調整單元，所述工藝參數實 時調整單元用于根據所述應力分布狀態分析單元分析出的所述透光結構具有所述應力分 布狀態的原因實時調整制作所述透光結構的過程中的各項工藝參數。
[0011] 所述光源為發射偏振光的偏振光源，或者，所述光源包括自然光源和第二偏振片。
[0012] 所述第二偏振片的透光軸方向與所述第一偏振片的透光軸方向垂直。
[0013] 所述透光結構的應力檢測裝置還包括用于固定所述第一偏振片的上框架，用于固 定所述第二偏振片的下框架，用于承載所述透光結構的承載結構，用于固定所述上框架、所 述第一偏振片、所述下框架、所述第二偏振片、所述承載結構和所述透光結構的底座。
[0014] 所述上框架和所述下框架之間的距離可調。
[0015] 所述透光結構透明或者半透明。
[0016] 本發明實施例提供了一種透光結構的應力檢測裝置，該應力檢測裝置包括光源、 第一偏振片和光強分布狀態檢測單元和應力分布狀態分析單元；其中，光源出射均勻的偏 振光，檢測過程中，第一偏振片和光源分別位于透光結構的兩側，光源出射的偏振光依次經 過透光結構和第一偏振片，光強分布狀態檢測單兀獲取射出第一偏振片的偏振光的光強 分布狀態，應力分布狀態分析單元根據光強分布狀態獲得透光結構的應力分布狀態。因此， 本發明實施例中的透光結構的應力檢測裝置可以對透光結構的應力分布狀態進行檢測，進 而可以有效提升透光結構的質量以及顯示裝置的顯示效果。
[0017] 為了進一步解決上述技術問題，本發明實施例還提供了一種透光結構的應力檢測 方法，采用如下技術方案：
[0018] 一種透光結構的應力檢測方法包括：
[0019] 將所述透光結構放置于光源和第一偏振片之間，所述光源出射均勻的偏振光；
[0020] 光強分布狀態檢測單兀獲取射出所述第一偏振片的偏振光的光強分布狀態；
[0021] 應力分布狀態分析單元根據所述光強分布狀態獲得所述透光結構的應力分布狀 態。
[0022] 在將所述透光結構放置于光源和第一偏振片之間，之前還包括：
[0023] 獲取所述透光結構的材料和厚度信息；
[0024] 根據所述透光結構的材料和厚度信息調節所述光源的亮度。
[0025] 所述透光結構的應力檢測方法還包括：
[0026] 所述應力分布狀態分析單元分析所述透光結構具有所述應力分布狀態的原因。
[0027] 所述透光結構的應力檢測方法還包括：
[0028] 工藝參數實時調整單元根據所述應力分布狀態分析單元分析出的所述透光結構 具有所述應力分布狀態的原因實時調整制作所述透光結構的過程中的各項工藝參數。
[0029] 本發明實施例提供了一種透光結構的應力檢測方法，該應力檢測方法包括將透光 結構放置于光源和第一偏振片之間，光強分布狀態檢測單兀獲取射出第一偏振片的偏振光 的光強分布狀態，應力分布狀態分析單元根據光強分布狀態獲得透光結構的應力分布狀 態。因此，本發明實施例中的透光結構的應力檢測裝置可以對透光結構的應力分布狀態進 行檢測，進而可以有效提升透光結構的質量以及顯示裝置的顯示效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0030] 為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例描述 中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些 實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附 圖獲得其他的附圖。
[0031] 圖1為本發明實施例中的第一種透光結構的應力檢測裝置的示意圖；
[0032] 圖2為本發明實施例中的第二種透光結構的應力檢測裝置的示意圖；
[0033] 圖3為本發明實施例中的第三種透光結構的應力檢測裝置的示意圖；
[0034] 圖4為本發明實施例中的第四種透光結構的應力檢測裝置的示意圖；
[0035] 圖5為本發明實施例中的透光結構的應力檢測方法流程圖。
[0036] 附圖標記說明：
[0037] 1 一光源； 11 -自然光源； 12-第二偏振片；
[0038] 2-第一偏振片； 3-光強分布狀態檢測單元； 4 一應力分布狀態分析單 元；
[0039] 5-透光結構； 6-工藝參數實時調整單元； 7-上框架；
[0040] 8-下框架； 9 一 7承載結構； 10-底座。

【具體實施方式】
[0041] 下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實施例是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發 明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施 例，都屬于本發明保護的范圍。
[0042] 實施例一
[0043] 本發明實施例提供了一種透光結構的應力檢測裝置，能夠對透光結構的應力分布 狀態進行檢測。
[0044] 具體地，如圖1所示，該透光結構的應力檢測裝置包括：光源1、第一偏振片2和光 強分布狀態檢測單元3和應力分布狀態分析單元4。
[0045] 其中，光源1出射均勻的偏振光，光源1的亮度可以根據透光結構5的材料及厚度 信息等調節。檢測過程中，第一偏振片2和光源1分別位于透光結構5的兩側，透光結構5 與第一偏振片2以及光源1所在平面平行，光強分布狀態檢測單元3用于獲取射出第一偏 振片2的偏振光的光強分布狀態，示例性地，光強分布狀態可以以圖片的方式呈現，通過不 同區域的顏色不同表現光強的不同，應力分布狀態分析單元4用于根據光強分布狀態獲得 透光結構5的應力分布狀態，示例性地，應力分布狀態也可以以圖片的方式呈現，通過不同 區域的顏色不同表現應力的不同。
[0046] 需要補充的是，應力分布狀態分析單元4可以根據光強分布狀態獲得透光結構5 的應力分布狀態的原因在于，光源1出射的均勻的偏振光經過透光結構5時，透光結構5內 存在應力，透光結構5內應力不同的區域的密度不同，使得穿過透光結構5的不同區域進而 透過第一偏振片2的偏振光的強度不同，示例性地，透過結構5內的應力越大的區域，密度 越大，穿過透光結構5的不同區域進而透過第一偏振片2的偏振光的強度越小。
[0047] 優選地，應力分布狀態分析單元4在根據光強分布狀態獲得透光結構5的應力分 布狀態的同時，還可以分析透光結構5具有上述應力分布狀態的原因。
[0048] 此時，如圖2所示，透光結構的應力檢測裝置還可以包括工藝參數實時調整單元 6,該工藝參數實時調整單元6用于根據應力分布狀態分析單元4分析出的透光結構5具有 上述應力分布狀態的原因實時調整制作透光結構5的過程中的各項工藝參數。
[0049] 上述透光結構的應力檢測裝置在實際應用過程中具有許多優勢，為了便于本領域 技術人員理解，本發明實施例以透光結構5為導光板為例，對該透光結構的應力檢測裝置 的一種具體應用過程描述如下：
[0050] 首先，使用MoldFlow等軟件進行模擬計算，初步設定一系列導光板制作過程中的 工藝參數，然后根據這些參數制作導光板樣品。
[0051] 然后，將透光結構4放置于光源1和第一偏振片2之間，光強分布狀態檢測單元3 獲取射出第一偏振片2的偏振光的光強分布狀態，應力分布狀態分析單兀4根據光強分布 狀態獲得透光結構5的應力分布狀態并分析出的導光板樣品具有上述應力分布狀態的原 因。
[0052] 最后，工藝參數實時調整單元6根據上述原因實時調整導光板制作過程中的各項 工藝參數，例如處于熔融狀態的材料的射出速度、模具溫度、模具開口尺寸以及位置等，進 而總結出制作導光板的最佳工藝參數，并按照上述最佳工藝參數進行導光板的批量生產。
[0053] 優選地，在總結制作導光板的最佳工藝參數的過程中，也可以預先設定好一個限 度樣本，并檢測該限度樣本的應力分布狀態，然后將測試的導光板樣品的應力分布狀態進 行對比，若不符合規格則應力分布狀態分析單元4分析原因并且工藝參數實時調整單元6 對工藝參數進行實時調整，若符合規格則進行導光板的批量生產。
[0054] 此外，本發明實施例中所述的透光結構5不局限于導光板，透光結構5只要是能使 光線透過的結構均可，透光結構5可以透明也可以半透明，示例性地，透光結構5可以為導 光板或者玻璃基板等結構。
[0055] 具體地，光源1可以為發射偏振光的偏振光源，或者，如圖3所示，光源1也可以包 括自然光源11和第二偏振片12,自然光源11發出的自然光經過第二偏振片12后變為偏振 光。當光源1包括自然光源11和第二偏振片12時，第二偏振片12的透光軸方向與第一偏 振片2的透光軸方向可以呈多種角度設置，其中當第二偏振片12的透光軸方向與第一偏振 片2的透光軸方向垂直時，理論上不會有光線通過第一偏振片2,但實際上會有微弱的偏振 光透過第一偏振片2,在此情況下，透光結構5中的應力對透過第一偏振片2的偏振光的光 強影響最明顯，因此，本發明實施例中優選第二偏振片12的透光軸方向與第一偏振片2的 透光軸方向垂直。
[0056] 進一步地，如圖4所示，透光結構的應力檢測裝置還包括用于固定第一偏振片2的 上框架7,用于固定第二偏振片12的下框架8,用于承載透光結構5的承載結構9,用于固定 上框架7、第一偏振片2、下框架8、第二偏振片12和承載結構9的底座10。其中，承載結構 9為無應力存在的PET膜，承載結構9可以承載具有不同尺寸、不同材料的透光結構5。此 夕卜，為了使本發明實施例中的透光結構的應力檢測裝置可以檢測不同厚度的透光結構5的 應力分布狀態，本發明實施例中優選上框架7和下框架8之間的距離可調，示例性地，可以 通過動力裝置或者人工調節螺絲等方式調節。
[0057] 本發明實施例提供了一種透光結構的應力檢測裝置，該應力檢測裝置包括光源、 第一偏振片和光強分布狀態檢測單元和應力分布狀態分析單元；其中，光源出射均勻的偏 振光，檢測過程中，第一偏振片和光源分別位于透光結構的兩側，光源出射的偏振光依次經 過透光結構和第一偏振片，光強分布狀態檢測單兀獲取射出第一偏振片的偏振光的光強分 布狀態，應力分布狀態分析單元根據光強分布狀態獲得透光結構的應力分布狀態。因此，本 發明實施例中的透光結構的應力檢測裝置可以對透光結構的應力分布狀態進行檢測，進而 可以有效提升透光結構的質量以及顯示裝置的顯示效果。
[0058] 實施例二
[0059] 本發明實施例提供了一種透光結構的應力檢測方法，如圖5所示，該應力檢測方 法包括：
[0060] 步驟S501、將透光結構放置于光源和第一偏振片之間，光源出射均勻的偏振光。
[0061] 為了獲得最準確的檢測結果，本發明實施例中優選在將透光結構5放置于光源1 和第一偏振片2之間，之前還包括：首先，獲取透光結構5的材料和厚度信息；然后，根據透 光結構5的材料和厚度信息調節光源1的亮度。
[0062] 步驟S502、光強分布狀態檢測單元獲取射出第一偏振片的偏振光的光強分布狀 態。
[0063] 示例性地，光強分布狀態可以以圖片的方式呈現，通過不同區域的顏色不同以表 現光強的不同，
[0064] 步驟S503、應力分布狀態分析單元根據光強分布狀態獲得透光結構的應力分布狀 態。
[0065] 示例性地，應力分布狀態也可以以圖片的方式呈現，通過不同區域的顏色不同以 表現應力的不同。
[0066] 進一步地，透光結構的應力檢測方法還包括：應力分布狀態分析單元4分析透光 結構5具有應力分布狀態的原因。
[0067] 進一步地，透光結構的應力檢測方法還包括：工藝參數實時調整單元6根據應力 分布狀態分析單元4分析出的透光結構5具有上述應力分布狀態的原因實時調整制作透光 結構5的過程中的各項工藝參數。
[0068] 本發明實施例提供了一種透光結構的應力檢測方法，該應力檢測方法包括將透光 結構放置于光源和第一偏振片之間，光強分布狀態檢測單兀獲取射出第一偏振片的偏振光 的光強分布狀態，應力分布狀態分析單元根據光強分布狀態獲得透光結構的應力分布狀 態。因此，本發明實施例中的透光結構的應力檢測裝置可以對透光結構的應力分布狀態進 行檢測，進而可以有效提升透光結構的質量以及顯示裝置的顯示效果。
[〇〇69] 以上所述，僅為本發明的【具體實施方式】，但本發明的保護范圍并不局限于此，任何 熟悉本【技術領域】的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵 蓋在本發明的保護范圍之內。因此，本發明的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。
【權利要求】
1. 一種透光結構的應力檢測裝置，其特征在于，包括：光源、第一偏振片和光強分布狀 態檢測單元和應力分布狀態分析單元； 其中，所述光源出射均勻的偏振光，檢測過程中，所述第一偏振片和所述光源分別位于 所述透光結構的兩側，所述光強分布狀態檢測單元用于獲取射出所述第一偏振片的偏振光 的光強分布狀態；所述應力分布狀態分析單元用于根據所述光強分布狀態獲得所述透光結 構的應力分布狀態。
2. 根據權利要求1所述的透光結構的應力檢測裝置，其特征在于，所述應力分布狀態 還用于分析所述透光結構具有所述應力分布狀態的原因。
3. 根據權利要求2所述的透光結構的應力檢測裝置，其特征在于，還包括工藝參數實 時調整單元，所述工藝參數實時調整單元用于根據所述應力分布狀態分析單元分析出的所 述透光結構具有所述應力分布狀態的原因實時調整制作所述透光結構的過程中的各項工 藝參數。
4. 根據權利要求1所述的透光結構的應力檢測裝置，其特征在于，所述光源為發射偏 振光的偏振光源，或者，所述光源包括自然光源和第二偏振片。
5. 根據權利要求4所述的透光結構的應力檢測裝置，其特征在于，所述第二偏振片的 透光軸方向與所述第一偏振片的透光軸方向垂直。
6. 根據權利要求4所述的透光結構的應力檢測裝置，其特征在于，還包括用于固定所 述第一偏振片的上框架，用于固定所述第二偏振片的下框架，用于承載所述透光結構的承 載結構，用于固定所述上框架、所述第一偏振片、所述下框架、所述第二偏振片、所述承載結 構和所述透光結構的底座。
7. 根據權利要求6所述的透光結構的應力檢測裝置，其特征在于，所述上框架和所述 下框架之間的距離可調。
8. 根據權利要求1-7任一項所述的透光結構的應力檢測裝置，其特征在于，所述透光 結構透明或者半透明。
9. 一種透光結構的應力檢測方法，其特征在于，包括： 將所述透光結構放置于光源和第一偏振片之間，所述光源出射均勻的偏振光； 光強分布狀態檢測單兀獲取射出所述第一偏振片的偏振光的光強分布狀態； 應力分布狀態分析單元根據所述光強分布狀態獲得所述透光結構的應力分布狀態。
10. 根據權利要求9所述的透光結構的應力檢測方法，其特征在于，在將所述透光結構 放置于光源和第一偏振片之間，之前還包括： 獲取所述透光結構的材料和厚度信息； 根據所述透光結構的材料和厚度信息調節所述光源的亮度。
11. 根據權利要求9或10所述的透光結構的應力檢測方法，其特征在于，還包括： 所述應力分布狀態分析單元分析所述透光結構具有所述應力分布狀態的原因。
12. 根據權利要求11所述的透光結構的應力檢測方法，其特征在于，還包括： 工藝參數實時調整單元根據所述應力分布狀態分析單元分析出的所述透光結構具有 所述應力分布狀態的原因實時調整制作所述透光結構的過程中的各項工藝參數。
【文檔編號】G01L1/24GK104089728SQ201410295714
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年6月26日 優先權日:2014年6月26日
【發明者】曾智輝, 劉芳, 馮鴻博, 蘇躍峰, 董瑞君 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司