高分辨率放射系數探測方法
【專利摘要】本發明公開一種高分辨率反射系數探測方法，所述方法包括：以等距離遞增的方式布設電極，同樣電極設置的深度也以等深遞增的方式設置；固定MN裝置；采用最大電極距AB/2(max)＝1.3H；以相鄰的電極距及視電阻率值進行差分運算的，得到視反射系數KS和視反射系數的倒數KD。
【專利說明】高分辨率放射系數探測方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及一種高分辨率反射系數探測方法。
【背景技術】
[0002] 反射系數剖面法也即K剖面法，該方法利用反射系數K解釋電測深曲線，是通過 不同電性介質接觸面對電流的反射情況的研究，了解地層的巖性、厚度、埋藏深度、產狀、構 造、巖溶、水文等地質問題的一種方法。這個方法在水文地質及工程地質等勘探領域取得了 一定成效，但由于其在工作裝置及資料處理解釋方面仍停留在傳統的對數坐標的基礎上， 對地層的分辨率和解釋精度不夠高，在物探界應用不廣泛。
[0003] 高分辨率反射系數法研究工作的目的是提高電法勘探在這些領域的解釋精度，在 對電測深法和反射系數法深入研究的基礎上，改革這些方法，使電法勘探步入高分辨率的 層次，拓寬電法工作的應用范圍，以適應經濟發展對勘探工作的要求。
【發明內容】
[0004] 針對上述問題，本發明提供一種準確率高、效果好的高分辨率放射系數探測方法。
[0005] 為達到上述目的，本發明高分辨率反射系數探測方法，所述方法包括：供電電極 AB以等間距遞增的方式布設，同樣以逐次等深遞增的方式設置電極設置的深度，固定MN裝 置，其中供電電極采用最大電極距AB/2(max) = 1.3H;
[0006] 以相鄰的電極距及視電阻率值進行差分運算的，得到視反射系數Ks和視反射系數 的倒數K D ;
[0007] 基于相鄰電極距、視點阻率、視反射系數Ks和視反射系數的倒數KD進行資料分 析。
[0008] 進一步地，所述電極之間等距遞增的間距為6米至10米。
[0009] 進一步地，其精度要求在于：重復觀測的視電阻率值的誤差為2%。
[0010] 本發明高分辨率反射系數探測方法，在布設供電極距時高分辨率反射系數法采用 了間隔6米或10m等差極距。在以等差距離遞增極距探測地質體時，探測深度也大致以相 同的距離逐漸加大，因而可接受到大量的地質體電性變化的信息。
[0011] 采用固定MN裝置時，K實質反映了電測工作中相鄰兩極距上電極的實際電流密度 之比，故K值已消除了 PMN變化的影響，K剖面法的解釋成果受淺部的局部電性不均勻體 影響小。
[0012] 該方法消除地形影響的原理在于其供電極距的一個顯著特點是對于同樣的勘探 深度所需的極距要比直流側深短得多，自然其可能受地形影響的范圍也相應要小得多。再 則因 K剖面法實質上是對視電阻率采用比值法進行了資料處理，而高分辨率反射系數法的 極距又相當密，因而可利用有限元法通過對K剖面法理論公式的推導分析，論證出本測區 的地形影響是很小的。
[0013] 該方法準確率高、效果好，探測系數誤差率小，探測結果較為精確。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014] 圖1是本發明高分辨率反射系數探測方法的流程圖；
【具體實施方式】
[0015] 下面結合說明書附圖對本發明做進一步的描述。
[0016] 1)、密集的等差極距
[0017] 傳統的電測深法和反射系數法的理論曲線均采用對數坐標系，野外電極距采用等 比極距。高分辨率反射系數法以密集的等差極距工作。
[0018] 為了提高K剖面法的分辨率，在布設供電極距時高分辨率反射系數法采用了間 隔6米或10m等差極距。在以等差距離遞增極距探測地質體時，探測深度也大致以相同的 距離逐漸加大，因而可接受到大量的地質體電性變化的信息。更關鍵的作用是：視反射系數 Ks及視反射系數的導數KD在理論上都是微分運算求得的，但在實際工作中都是以相鄰供電 極距及視電阻率值進行差分運算，近似替代微分運算。在以常規的等比的極距工作時，這種 替代造成的誤差較大。而以密集的極距工作時，由于極距差值小，供電極距AB/2和ps的 變化增量都很小，因此在計算K s和KD時就更接近K剖面法的理論，使K剖面法的優點得以 更有力的發揮。因而K剖面曲線突出反映了較深處地層的微弱信息，有可能將深部的薄層 反映出來，使勘探深度和對地質體的分辨率得以明顯提高。
[0019] 2)、固定麗裝置
[0020] 高分辨率反射系數法采用了固定裝置，因而可消除P MN變化形成的曲線畸變。
[0021] 視電阻率的微分形式為：
[0022] p s(n) = jM N(n)/jOX ρΜ N(n) (1)
[0023] p s(n-l) = jM N(n-l)/jOX PM N(n-l) (2)
[0024] ·.·當AB/2變化時，MN不變
[0025] ··. p MN(n) = p MN(n_l)
[0026] 代入（1)、⑵式：
[0027] 貝lj p s (η) / p s (n_l) = jMN(n)/jMN(n-l)
[0028] 代入上述視反射系數的計算公式，可得：
【權利要求】
1. 一種高分辨率反射系數探測方法，其特征在于：所述方法包括：供電電極AB以等間 距遞增的方式布設，同樣以逐次等深遞增的方式設置電極設置的深度，固定麗裝置，其中 供電電極采用最大電極距AB/2(max) = 1.3H; 以相鄰的電極距及視電阻率值進行差分運算的，得到視反射系數Ks和視反射系數的倒 數KD ; 基于相鄰電極距、視點阻率、視反射系數Ks和視反射系數的倒數KD進行資料分析。
2. 根據權利要求1所述的高分辨率放射系數探測方法，其特征在于：所述電極之間等 距遞增的間距為6米至10米。
3. 根據權利要求1所述的高分辨率放射系數探測方法，其精度要求在于：重復觀測的 視電阻率值的誤差為2%。
【文檔編號】G01V3/08GK104111480SQ201410228622
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2014年5月28日 優先權日:2014年5月28日
【發明者】劉江, 馮西會, 萬兆昌, 康荔, 祁明星, 王星明, 王一凡, 沈福斌, 劉江賓 申請人:陜西省煤田物探測繪有限公司
專業數控銑床產品供應商
20年生產經驗，實力工廠，精工品質，質量有保障
