吸附間距調整機構的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了吸附間距調整機構，包括：X軸導軌橫梁、X軸滑軌、皮帶輪、吸附裝置、Z軸電機、齒條、齒輪、吸附運動機構、調整機構滑軌、X軸電機、調整機構皮帶、吸嘴、Shuttle運動機構。所述的X軸滑軌安裝在X軸導軌橫梁上，吸附運動機構安裝在X軸滑軌上。吸附運動機構由四套吸附裝置和間距調整機構組成。每套吸附裝置由裝在Y軸電機上的齒輪帶動裝在Z軸運動桿頂端的齒條作Z軸方向上下運動，吸嘴安裝在Z軸運動桿的下端。四套吸附裝置呈“一”字形排放。本實用新型四個吸嘴可以同時吸附四顆IC，同時四套吸附裝置間距可以由系統自動設置，因此減少了吸料時間，增加了吸料的精準度，提高了效率。
【專利說明】吸附間距調整機構【技術領域】
[0001]本實用新型涉及集成電路成品的封裝測試，尤其涉及多測試位吸附式集成電路分選機，在測試前及測試后IC的吸附間距的調。
【背景技術】
[0002]吸附式集成電路分選機是將待測Tray盤里的1C，由吸附運動機構運送至Shuttle運動機構，再運送至測試位置進行測試，測試完成以后又由另外一套吸附運動機構將測試完成的IC運送至已測Tray盤，從而完成測試。如附圖2和附圖3示所示，在過去的吸附運動機構設計中往往都采用四套吸附裝置呈四邊形排放，分別設置在X軸導軌橫梁的兩側，每個吸附裝置左右位置可以調整間距，但前后間距無法調整，B為前后兩排吸附裝置的中心距離，D為其就近兩排Tray盤中方格的中心距離，但往往B #D。在吸附IC時首先由吸附裝置(一)和吸附裝置(二)的兩個吸嘴同時吸住兩顆1C，然后Y軸導軌運動一定的位置，再由吸附裝置(三)和吸附裝置(四)的兩個吸嘴同時吸住兩顆1C，最后由整個吸附運動機構將IC運送至Shuttle運動機構，這樣在吸附過程中就增加了吸附的時間，降低了小時產量，并且定位也不夠精準，有些運動死角無法顧及到，因此效率也比較低。
【發明內容】
[0003]針對已有技術的不足，本實用新型的目的在于克服現有技術之不足，提供一種能夠滿足其吸附缺陷，提高小時產量及精準度的吸附間距調整機構。
[0004]實現本實用新型的技術方案如下:
[0005]吸附間距調整機構，包括:X軸導軌橫梁、X軸滑軌、皮帶輪、吸附裝置、Z軸電機、齒條、齒輪、吸附運動機構、調整機構滑軌、X軸電機、調整機構皮帶、吸嘴、Shuttle運動機構。所述的X軸滑軌安裝在X軸導軌橫梁上，吸附運動機構安裝在X軸滑軌上。吸附運動機構由四套吸附裝置和間距調整機構組成。每套吸附裝置由裝在Y軸電機上的齒輪帶動裝在Z軸運動桿頂端的齒條作Z軸方向上下運動，吸嘴安裝在Z軸運動桿的下端。
[0006]所述的四套吸附裝置呈“一”字形排放，其中從左往右第2套(從左往右數，下同)吸附裝置固定，另外三個安裝在間距調整機構滑軌上并由兩套皮帶連接，在皮帶的帶動下可作水平方向左右運動，可調整左右位置間距。
[0007]所述的間距調整機構的X軸電機及其軸上的皮帶輪帶動調整機構皮帶運動，再帶動吸附裝置1、3、4運動，其中吸附裝置I和3的運動距離相等但方向相反，吸附裝置4的運動距離是I和3的兩倍與3的方向相同，從而保證四個吸附裝置間保持相同的間距。此間距的大小由X軸電機的轉動量決定，可在機器控制系統中根據需要預先設定；A為相鄰兩個吸附裝置的中心距，是可調的，B為Shuttle運動機構兩顆相鄰IC之間的中心距，是固定的，系統根據Tray盤相鄰兩顆IC之間的間距預設A值和B值；四套吸附裝置自動調整為A值，運動至Tray盤吸料位置，Z軸電機帶動Z軸運動桿向下，由四個吸嘴同時吸住四顆IC，Z軸電機帶動Z軸運動桿向上運動一定距離后，整個X軸導軌橫梁沿Y軸方向運動，同時四套吸附裝置間距自動調整為B值，運動至Shuttle運動機構位置，四個吸嘴精準的將四顆IC放入其IC置放凹槽中，吸附運動機構重新返回Tray盤，吸嘴間距又自動調整至A值，如此反復，以實現IC的輸送。四個吸嘴可以同時吸附四顆1C，同時四套吸附裝置間距可以由系統自動設置，因此減少了吸料時間，增加了吸料的精準度，提高了效率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型結構示意圖；
[0009]圖2是已有技術吸附運動側視結構示意圖；
[0010]圖3是已有技術吸附運動俯視結構示意圖。
[0011]圖中標號說明
[0012]I一X軸導軌橫梁 2— X軸滑軌3—皮帶輪4一吸附裝置5 — IC
[0013]6 — Tray盤7— Z軸電機 8—齒條 9一齒輪10—吸附運動機構 11一調整機構滑軌
[0014]12—X軸電機 13—調整機構皮帶 14一吸嘴 15—IC置放凹槽 16—Shuttle運動機構
[0015]【具體實施方式】:
[0016]下面結合附圖進一步說明實用新型是如何實現的:
[0017]如附圖1、2所示，X軸滑軌2安裝在X軸導軌橫梁I上，吸附運動機構10安裝在X軸滑軌2上。吸附運動機構由四套吸附裝置4和間距調整機構組成。每套吸附裝置由裝在Y軸電機7上的齒輪9帶動裝在Z軸運動桿頂端的齒條8作Z軸方向上下運動，吸嘴14安裝在Z軸運動桿的下端。
[0018]所述的四套吸附裝置4呈“一”字形排放，其中第2套(從左往右數，下同)吸附裝置4固定，另外三個安裝在間距調整機構滑軌11上并由兩套皮帶13連接，在皮帶的帶動下可作水平方向左右運動，可調整左右位置間距。所述的間距調整機構的X軸電機12及其軸上的皮帶輪3帶動調整機構皮帶13運動，再帶動吸附裝置1、3、4運動，其中吸附裝置I和3的運動距離相等但方向相反，吸附裝置4的運動距離是I和3的兩倍與3的方向相同，從而保證四個吸附裝置間保持相同的間距。此間距的大小由X軸電機12的轉動量決定，可在機器控制系統中根據需要預先設定4為相鄰兩個吸附裝置的中心距，是可調的，B為Shuttle運動機構兩顆相鄰IC 5之間的中心距，是固定的，系統根據Tray盤相鄰兩顆IC 5之間的間距預設A值和B值；四套吸附裝置自動調整為A值，運動至Tray盤吸料位置，Z軸電機7帶動Z軸運動桿向下，由四個吸嘴14同時吸住四顆IC 5，Z軸電機帶動Z軸運動桿向上運動一定距離后，整個X軸導軌橫梁I沿Y軸方向運動，同時四套吸附裝置4間距自動調整為B值，運動至Shuttle運動機構16位置，四個吸嘴精準的將四顆IC 5放入其IC置放凹槽15中，吸附運動機構10重新返回Tray盤6，吸嘴間距又自動調整至A值，如此反復，以實現IC的輸送。四個吸嘴可以同時吸附四顆1C，同時四套吸附裝置間距可以由系統自動設置，因此減少了吸料時間，增加了吸料的精準度，提高了效率。
【權利要求】
1.吸附間距調整機構，包括:x軸導軌橫梁、X軸滑軌、皮帶輪、吸附裝置、Z軸電機、齒條、齒輪、吸附運動機構、調整機構滑軌、X軸電機、調整機構皮帶、吸嘴、Shuttle運動機構，其特征在于:所述的X軸滑軌安裝在X軸導軌橫梁上，吸附運動機構安裝在X軸滑軌上，吸附運動機構由四套吸附裝置和間距調整機構組成，每套吸附裝置由裝在Y軸電機上的齒輪帶動裝在Z軸運動桿頂端的齒條作Z軸方向上下運動，吸嘴安裝在Z軸運動桿的下。
2.根據權利要求1中所述的四套吸附裝置，其特征在于:四套吸附裝置呈“一”字形排放，其中從第二吸附裝置固定，另外三個安裝在間距調整機構滑軌上并由兩套皮帶連接，在皮帶的帶動下可作水平方向左右運動，可調整左右位置間距。
3.根據權利要求1所述的間距調整機構，其特征在于:間距調整機構的X軸電機及其軸上的皮帶輪帶動調整機構皮帶運動，再帶動第一吸附裝置、第二吸附裝置、第三吸附裝置運動，其中第一吸附裝置和第三吸附裝置的運動距離相等方向相反，第四吸附裝置的運動距離是第一吸附裝置和第三吸附裝置的兩倍與第三吸附裝置的方向相同，四個吸附裝置間的間距相同。
4.根據權利要求1所述的吸附間距調整機構，其特征在于:Tray盤相鄰兩顆IC之間的間距預設A值和B值；四套吸附裝置自動調整為A值，運動至Tray盤吸料位置，Z軸電機帶動Z軸運動桿向下，由四個吸嘴同時吸住四顆1C。
5.根據權利要求1所述的吸附間距調整機構，其特征在于:所述的Z軸電機帶動Z軸運動桿向上運動一定距離后，整個X軸導軌橫梁沿Y軸方向運動，同時四套吸附裝置間距自動調整為B值，運動至Shuttle運動機構位置，四個吸嘴精準的將四顆IC放入其IC置放凹槽中，吸附運動機構重新返回Tray盤，吸嘴間距又自動調整至A值，如此反復，以實現IC的輸送。
【文檔編號】G01R1/02GK203490251SQ201320550385
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年9月5日 優先權日:2013年9月5日
【發明者】梁大明 申請人:上海中藝自動化系統有限公司
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