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光纖形貌的測量系統及測量方法

時間:2023-06-12    作者: 管理員

光纖形貌的測量系統及測量方法
【專利摘要】本發明公開了一種光纖形貌的測量系統和測量方法,主要解決已有測量方法中需要人為判斷、準確性低,且需要花費大量時間、無法迅速測量的問題。該測量系統包括載物臺(1)、結構支架(3)、位移臺(4)、控制器(7)、拍攝系統(10)和圖像處理器(11)。測量時,將被測光纖固定在載物臺的夾持槽上,通過控制器控制位移臺移動,帶動拍攝系統對光纖進行多次對焦拍攝,獲得光纖圖像,傳送給圖像處理器處理計算,得到光纖的形貌參數,即軸向長度、端面徑向直徑、中間最細處直徑和表面傾斜角度。本發明無需人為判斷,且通過多次測量求平均值和圖像處理器自動處理圖像,提高了測量精度和測量速度,可用于篩選合格光纖產品,提高光纖器件的性能。
【專利說明】光纖形貌的測量系統及測量方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于測量【技術領域】,特別涉及一種對光纖形貌的測量系統,可用于篩選出合格的光纖產品,提高光纖器件的性能。
【背景技術】
[0002]作為光纖陀螺的主要材料,光纖的形貌參數關系到光功率的分配、復用/解復用、功率耦合和增益平坦化等方面的功能,其形貌參數的精確測量對光纖的制造、應用以及光纖陀螺的性能至關重要。
[0003]目前國內外提出的測量光纖形貌的方法較多,主要有:直接測量法、圖像剪切法、機械接觸法、圖像翻轉顯微鏡法、旋轉鏡偏移法、前向散射法、后向散射法、CCD非接觸測量法等。例如利用顯微鏡的直接測量,需要顯微鏡聚焦在光纖的一個端面上,移動側位目鏡中的十字準線以便它和光纖各個邊緣線交叉,然后記下讀數,此方法不僅消耗了大量時間,還受到操作者主觀決定光纖邊界而產生誤差的限制。又如前向或后向散射干涉法,是利用激光束作為入射光垂直照射光纖,使散射光產生干涉,觀察并測量相干光的干涉條紋,根據散射光圖樣分析法獲得光纖的數學模型,此方法理論相對成熟,但是測量精度低,實際應用意義不大。
[0004]這些方法最主要的缺點就是都需要人為判斷,降低了準確性,而且需要花費大量的時間,無法迅速測量。

【發明內容】

[0005]本發明的目的在于針對上述已有技術的不足,提出一種對光纖形貌的測量系統和測量方法,避免人為判斷,提高測量精度和測量速度。
[0006]為實現上述目的,本發明的測量系統包括:
[0007]載物臺、結構支架、位移臺、控制器、拍攝系統和圖像處理器,結構支架和控制器固定在載物臺上,位移臺與控制器電連接,拍攝系統與圖像處理器電連接,其特征在于:
[0008]載物臺的中間表面設有夾持槽,用于固定被測光纖;
[0009]位移臺,包括豎直電動位移臺和水平電動位移臺,該豎直電動位移臺固定在結構支架上,該水平電動位移臺通過第一平面轉接板固定在豎直電動位移臺上;
[0010]拍攝系統,采用帶有同軸光源的工業相機,并通過第二平面轉接板固定在水平電動位移臺上;
[0011]通過控制器控制位移臺移動,使工業相機對光纖進行多次對焦拍攝,獲得光纖圖像,傳送給圖像處理器進行處理計算,得到光纖的形貌參數,即軸向長度1、端面徑向直徑Cl1和d2、中間最細處直徑Cltl和表面傾斜角度Θ。
[0012]上述測量系統,其特征在于位移臺的移動,包括水平和豎直雙方向移動,且移動的單步步進量為0.ΙΟμπι。
[0013]上述測量系統,其特征在于所述拍攝系統采用的同軸光源工業相機,其選擇參數為:
[0014]分辨率為:2592 X 1944、單像元尺寸為:2.2 μ mX 2.2 μ m ;
[0015]鏡頭放大倍率為6.0、工作距離為65mm、景深為0.06mm、標準C 口安裝。
[0016]上述測量系統,其特征在于圖像處理器,包括:
[0017]存儲模塊:用于保存拍攝的光纖圖像;
[0018]處理模塊:用于對光纖圖像進行校準、去除噪聲和去除模糊處理;
[0019]計算與顯示模塊:用于根據相機參數計算出光纖的形貌參數并顯示在顯示器上。
[0020]為實現上述目的,本發明的測量方法,包括如下步驟:
[0021]I)將被測光纖固定在載物臺的夾持槽上,調節被測光纖和位移臺,使光纖的軸向方向與位移臺的水平步進方向一致;
[0022]2)通過控制器控制位移臺以0.ΙΟμπι精度沿豎直方向步進,調節鏡頭與光纖的距離,使光纖清晰成像;再通過控制器控制位移臺以0.ΙΟμπι精度沿水平方向步進,進行對焦拍攝,獲得光纖圖像;
[0023]3)重復步驟2),對光纖進行對焦拍攝η次,η≥4,獲得η幅光纖圖像并輸入給圖像處理器;
[0024]4)圖像處理器對光纖圖像進行處理:
[0025]4a)保存拍攝的η幅光纖圖像;
[0026]4b)對光纖圖像進行校正、去除噪聲和去除模糊處理;
[0027]4c)設置η幅光纖圖像的坐標:
[0028]光纖兩端面的中點坐標L表不軸向,i = l,2, 3......η ;
[0029]光纖兩端面的四個頂點坐標XxDliIJDliI)和,(Χβ2(1,.>’£>2--)和(xC^IvDj),D1表示第一端面的徑向,D2表示第二端面的徑向,i = 1,2, 3……η ;
[0030]光纖中間最細處的兩個頂點坐標,D0表不中間最細處的徑向,i = 1,2,3......η ;
[0031]4d)計算η幅光纖圖像的如下參數:
[0032]光纖軸向長度所占像素數
【權利要求】
1.一種光纖形貌的測量系統,包括:載物臺(I)、結構支架(3)、位移臺(4)、控制器(7)、拍攝系統(10)和圖像處理器(11),結構支架(3)和控制器(7)固定在載物臺(I)上,位移臺(4)與控制器(7)電連接,拍攝系統(10)與圖像處理器(11)電連接,其特征在于: 載物臺(I)的中間表面設有夾持槽(2),用于固定被測光纖; 位移臺(4),包括豎直電動位移臺(5)和水平電動位移臺(6),該豎直電動位移臺(5)固定在結構支架(3 )上,該水平電動位移臺(6 )通過第一平面轉接板(8 )固定在豎直電動位移臺(5)上; 拍攝系統(10),采用帶有同軸光源的工業相機,并通過第二平面轉接板(9)固定在水平電動位移臺(6)上; 通過控制器(7)控制位移臺(4)移動,使工業相機對光纖進行多次對焦拍攝,獲得光纖圖像,傳送給圖像處理器(11)進行處理計算,得到光纖的形貌參數,即軸向長度1、端面徑向直徑Cl1和d2、中間最細處直徑Cltl和表面傾斜角度Θ。
2.根據權利要求1所述的測量系統,其特征在于位移臺(4)的移動,包括水平和豎直雙方向移動,且移動的單步步進量為0.1Oym0
3.根據權利要求1所述的測量系統,其特征在于所述拍攝系統(10)采用的同軸光源工業相機,其選擇參數為: 分辨率為:2592 X 19 44、單像元尺寸為:2.2 μ mX 2.2 μ m ; 鏡頭放大倍率為6.0、工作距離為65mm、景深為0.06mm、標準C 口安裝。
4.根據權利要求1所述的測量系統,其特征在于圖像處理器(11),包括: 存儲模塊:用于保存拍攝的光纖圖像; 處理模塊:用于對光纖圖像進行校準、去除噪聲和去除模糊處理; 計算與顯示模塊:用于根據工業相機參數計算出光纖的形貌參數并顯示在顯示器上。
5.一種光纖形貌的測量方法,包括如下步驟: 1)將被測光纖固定在載物臺的夾持槽上,調節被測光纖和位移臺,使光纖的軸向方向與位移臺的水平步進方向一致; 2)通過控制器控制位移臺以0.10 μ m精度沿豎直方向步進,調節鏡頭與光纖的距離,使光纖清晰成像;再通過控制器控制位移臺以0.ΙΟμπι精度沿水平方向步進,進行對焦拍攝,獲得光纖圖像; 3)重復步驟2),對光纖進行對焦拍攝η次,η> 4,獲得η幅光纖圖像并輸入給圖像處理器; 4)圖像處理器對光纖圖像進行處理: 4a)保存拍攝的η幅光纖圖像; 4b)對光纖圖像進行校正、去除噪聲和去除模糊處理; 4c)設置η幅光纖圖像的坐標: 光纖兩端面的中點坐標:(\ι,J7ZiI)和(氣2,九,2),L表不軸向,i = l,2, 3......η ;
光纖兩端面的四個頂點坐標:(xDliI 5 ^Dli I ) (-tD1, 2 5 )!Du 2 ),^xD2l P 1) ^Ρ(-ΤΛ, 2 5 2 ),Dl 表示第一端面的徑向,D2表示第二端面的徑向,i = 1,2,3……η ; 光纖中間最細處的兩個頂點坐標:(xDuiHvX^I)和2) , D0表不中間最細處的徑向,
【文檔編號】G01B11/24GK103808278SQ201410081853
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2014年3月6日 優先權日:2014年3月6日
【發明者】邵曉鵬, 張少輝, 杜娟, 王琳 申請人:西安電子科技大學

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