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一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置及其降震方法

時間:2023-06-11    作者: 管理員

一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置及其降震方法
【專利摘要】一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置,包括:固定支架,所述固定支架環(huán)設于探針之外端的外圍;彈性元件,所述彈性元件之一端固定設置在所述固定支架上,所述彈性元件之另一端固定設置在所述探針上,且所述彈性元件之間呈120°角。本發(fā)明通過在探針之外端的外圍環(huán)設固定支架,并在所述固定支架內設置彈性元件,所述彈性元件之一端固定設置在所述固定支架上,所述彈性元件之另一端固定設置在所述探針上,且所述彈性元件之間呈120°角,使得所述降震裝置可有效的抑制所述彈性元件向任一方向抖動,極大的改善了外部環(huán)境對所述聚焦離子束機臺之探針帶來的震動影響,降低樣品抖落的機會,改善了樣品制備的效率和工藝產品的循環(huán)時間。
【專利說明】一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置及其降震方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及半導體器件之測試【技術領域】,尤其涉及一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置及其降震方法。
【背景技術】
[0002]隨著市場需求,晶圓的尺寸在逐漸變大,工藝尺寸越來越小,致命缺陷也已經小到微米,納米級別,很多缺陷通過掃描電鏡(Scanning Electron Microscope, SEM)、聚焦離子束(Focused 1n Beam, FIB)等數據收集方法已經不能完全分析出缺陷之源頭,透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope, TEM)便成為缺陷源頭分析不可缺少的手段之一。但是,傳統(tǒng)的TEM要首先將待測試晶圓破片再去進行樣品制備,已破片之晶圓不能重返生產線進行后續(xù)的加工生產,進而很大程度上造成資源浪費。
[0003]另一方面,F(xiàn)IB機臺已用于生產線上對晶圓異常缺陷進行全檢分析,該機臺不需要進行破片,產品不需要報廢。但是,在進行樣品制備時,使用者需利用FIB機臺之探針(Omniprobe)提取樣品,并黏附在樣品載具上,直接鑲嵌于FIB機臺里。在樣品制品過程中,所述探針將會有部分外露于FIB機臺。顯然地,外圍機臺的震動和噪音的共鳴勢必引起所述探針之外露部分進行抖動。更嚴重地,將會造成所述提取之樣品脫落,大大降低了樣品制備的效率和工藝產品的循環(huán)時間。
[0004]故針對現(xiàn)有技術存在的問題,本案設計人憑借從事此行業(yè)多年的經驗,積極研究改良,于是有了本發(fā)明一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置及其降震方法。

【發(fā)明內容】

[0005]本發(fā)明是針對現(xiàn)有技術中,傳統(tǒng)的聚焦離子束機臺之探針易于受到外圍機臺的震動和噪音的共鳴產生抖動,更嚴重的將會造成所述提取之樣品脫落,大大降低了樣品制備的效率和工藝產品的循環(huán)時間等缺陷提供一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置。
[0006]本發(fā)明之又一目的是針對現(xiàn)有技術中,傳統(tǒng)的聚焦離子束機臺之探針易于受到外圍機臺的震動和噪音的共鳴產生抖動,更嚴重的將會造成所述提取之樣品脫落,大大降低了樣品制備的效率和工藝產品的循環(huán)時間等缺陷提供一種聚焦離子束機臺之探針的降震方法。
[0007]為了解決上述問題,本發(fā)明提供一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置,所述聚焦離子束機臺之探針的降震裝置包括:固定支架,所述固定支架環(huán)設于探針之外端的外圍;彈性元件,所述彈性元件之一端固定設置在所述固定支架上,所述彈性元件之另一端固定設置在所述探針上,且所述彈性元件之間呈120°角。
[0008]可選地,所述彈性元件為彈簧。
[0009]為實現(xiàn)本發(fā)明之又一目的,本發(fā)明提供一種聚焦離子束機臺之探針的降震方法,所述降震方法包括:在所述探針之外端的外圍環(huán)設固定支架,并在所述固定支架內設置彈性元件,所述彈性元件之一端固定設置在所述固定支架上,所述彈性元件之另一端固定設置在所述探針上,且所述彈性元件之間呈120°角。
[0010]可選地,所述彈性元件為彈簧。
[0011]綜上所述,本發(fā)明通過在探針之外端的外圍環(huán)設固定支架,并在所述固定支架內設置彈性元件,所述彈性元件之一端固定設置在所述固定支架上,所述彈性元件之另一端固定設置在所述探針上,且所述彈性元件之間呈120°角,使得所述降震裝置可有效的抑制所述彈性元件向任一方向抖動,極大的改善了外部環(huán)境對所述聚焦離子束機臺之探針帶來的震動影響,降低樣品抖落的機會,改善了樣品制備的效率和工藝產品的循環(huán)時間。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1所示為本發(fā)明聚焦離子束機臺之探針的降震裝置結構示意圖;
[0013]圖2所示為本發(fā)明聚焦離子束之探針受震動原理圖;
[0014]圖3所示為未設置本發(fā)明之降震裝置的測試結果圖;
[0015]圖4所示為具有本發(fā)明之降震裝置的測試結果圖。
【具體實施方式】
[0016]為詳細說明本發(fā)明創(chuàng)造的技術內容、構造特征、所達成目的及功效,下面將結合實施例并配合附圖予以詳細說明。
[0017]請參閱圖1,并結合參閱圖2,圖1所示為本發(fā)明聚焦離子束機臺之探針的降震裝置結構示意圖。圖2所示為本發(fā)明聚焦離子束之探針受震動原理圖。在聚焦離子束機臺2中,所述聚焦離子束機臺2之探針20傾斜穿設在所述聚焦離子束機臺2之腔體21內,且所述探針20之外端201露于外部環(huán)境。當所述外部環(huán)境之其它機臺震動和噪音共鳴時,則勢必引起所述探針20之外端201震動,對半導體器件測試造成不利影響,甚至抖落待測試樣品O
[0018]為了有效的避免外界機臺震動和噪音共鳴,導致探針20之外端201震動,進而使得對半導體器件測試造成不利影響,本發(fā)明所述聚焦離子束機臺之探針的降震裝置1,包括固定支架11,所述固定支架環(huán)設于所述探針20之外端201的外圍;彈性元件12,所述彈性元件12之一端固定設置在所述固定支架11上,所述彈性元件12之另一端固定設置在所述探針20上,且所述彈性元件12之間呈120°角。
[0019]作為本領域技術人員,容易理解地,所述聚焦離子束機臺之探針的降震裝置I通過各彈性元件12施力在所述探針20上,且所述彈性元件12之間呈120°角,故所述降震裝置I可有效的抑制所述彈性元件12向任一方向抖動,極大的改善了外部環(huán)境對所述聚焦離子束機臺之探針20帶來的震動影響,降低樣品抖落的機會,改善了樣品制備的效率和工藝產品的循環(huán)時間。
[0020]為更直觀的揭露本發(fā)明之技術方案,凸顯本發(fā)明之有益效果,現(xiàn)以具體實驗結果進行佐證。作為具體的實施方式,所述彈性元件20為彈簧。所述聚焦離子束機臺之探針的降震方法,包括:在所述探針20之外端201的外圍環(huán)設固定支架11,并在所述固定支架11內設置彈性元件12。其中,所述彈性元件12之一端固定設置在所述固定支架11上,所述彈性元件12之另一端固定設置在所述探針20上,且所述彈性元件12之間呈120°角。
[0021]請參閱圖3、圖4,并結合參閱圖1和圖2,圖3所示為未設置本發(fā)明之降震裝置的測試結果圖。圖4所示為具有本發(fā)明之降震裝置的測試結果圖。從圖3和圖4明顯可知,具有本發(fā)明之降震裝置的聚焦離子束機臺在測試樣品3,并將所述樣品3黏附在樣品載具4的過程中較不具有本發(fā)明之降震裝置的聚焦離子束機臺在測試過程中具有更優(yōu)異的穩(wěn)定性,所述探針20未發(fā)生抖動。反之,不具有本發(fā)明之降震裝置的聚焦離子束機臺在測試過程中嚴重抖動,導致觀測模糊。
[0022]綜上所述,本發(fā)明通過在探針之外端的外圍環(huán)設固定支架,并在所述固定支架內設置彈性元件,所述彈性元件之一端固定設置在所述固定支架上,所述彈性元件之另一端固定設置在所述探針上,且所述彈性元件之間呈120°角,使得所述降震裝置可有效的抑制所述彈性元件向任一方向抖動,極大的改善了外部環(huán)境對所述聚焦離子束機臺之探針帶來的震動影響,降低樣品抖落的機會,改善了樣品制備的效率和工藝產品的循環(huán)時間。
[0023]本領域技術人員均應了解,在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下,可以對本發(fā)明進行各種修改和變型。因而,如果任何修改或變型落入所附權利要求書及等同物的保護范圍內時,認為本發(fā)明涵蓋這些修改和變型。
【權利要求】
1.一種聚焦離子束機臺之探針的降震裝置,其特征在于,所述聚焦離子束機臺之探針的降震裝置包括: 固定支架,所述固定支架環(huán)設于探針之外端的外圍; 彈性元件,所述彈性元件之一端固定設置在所述固定支架上,所述彈性元件之另一端固定設置在所述探針上,且所述彈性元件之間呈120°角。
2.如權利要求1所述的聚焦離子束機臺之探針的降震裝置,其特征在于,所述彈性元件為彈黃。
3.—種如權利要求1所述的聚焦離子束機臺之探針的降震方法,其特征在于,所述降震方法包括:在所述探針之外端的外圍環(huán)設固定支架,并在所述固定支架內設置彈性元件,所述彈性元件之一端固定設置在所述固定支架上,所述彈性元件之另一端固定設置在所述探針上,且所述彈性元件之間呈120°角。
4.如權利要求3所述的聚焦離子束機臺之探針的降震方法,其特征在于,所述彈性元件為彈簧。
【文檔編號】G01N1/36GK103969105SQ201410217867
【公開日】2014年8月6日 申請日期:2014年5月21日 優(yōu)先權日:2014年5月21日
【發(fā)明者】劉永波, 顧曉芳, 倪棋梁, 龍吟, 陳宏璘 申請人:上海華力微電子有限公司

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