反射探針的制作方法
【專利摘要】本發明涉及一種用于測量液態的和/或固態的物質的特性的反射探針及其應用。反射探針(1)包括以在窗面(3)中的窗戶(9)的形式的測量點和以在正面(2)中的沖洗噴嘴的形式的清潔裝置,其中,窗戶(9)被平面地集成到窗面(3)中,窗面(3)相對于測量裝置的正面(2)以10o至25o的角度傾斜,且其中,沖洗噴嘴被集成到正面(2)中,正面(2)被減少了窗面(3)的份額且在沖洗噴嘴的流出口(5)鄰接到窗面(3)處地位于正面(2)中。
【專利說明】反射探針
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種用于測量液態的和/或固態的物質的特性的反射探針(Reflex1nssonde)及其應用。
【背景技術】
[0002]僅當混合物(Stoffgemisch)的當前的組成和混合物的各個物質的相應的特性可足夠精確地在不同的方法步驟中被測定時,那么才可有效地控制化學的和/或制藥學的工藝。
[0003]光譜測量方法屬于用于物質的上述特性或上述組成的所述測定的方法。
[0004]如果這樣的光譜測量方法通過合適的裝置被直接使用在化學的和/或制藥學的工藝中,則稱作光譜“在線”測量方法。
[0005]這樣的光譜“在線”測量方法允許進行的化學的和/或制藥學的工藝的直接的連續監測。
[0006]光學探針屬于用于光譜“在線”測量方法的上述合適的裝置。
[0007]光譜“在線”測量方法特別重要,因為通過該測量方法通常不干預到化學的和/或制藥學的工藝中。
[0008]也就是說通過該測量既不改變物質的流量(Mengenstrom)也不改變混合物的組成或物質的化學性質。然而僅當被測量的混合物的物質在(通常以光的形式的)電磁輻射(其通過分析以較小的量被引入該工藝中)的作用下在化學上穩定時,才不改變混合物的組成或物質的化學性質。但是因為對于光譜“在線”測量方法所需的電磁輻射通常非常少,該問題僅在可忽略地少的情況中出現。
[0009]即如果通過光譜“在線”測量方法不存在到化學的和/或制藥學的工藝中的干預,則稱作非侵入性方法、此處特別稱作非侵入性光譜“在線”測量方法。
[0010]因此,上述非侵入性光譜“在線”測量方法提供了組合的優點,即測量點的直接的試樣接觸(Probenkontakt)且因此直接的測量值獲取(Messwerterhebung)是可能的,此外但是不必進行取樣(Probenahme)、處理(Prjiparat1n)或其它的到化學的和/或制藥學的工藝中的干預。
[0011]如前面所述,非侵入性光譜“在線”測量方法提供了與測量點直接試樣接觸的可能性的優點和因此在進行中的工藝中直接測量值獲取的可能性。為了能夠完全用盡該通常的優點,須如前面所述存在合適的測量裝置。
[0012]用于非侵入性光譜“在線”測量方法的這樣的合適的測量裝置是所謂的光學探針,根據本發明的反射探針屬于其。
[0013]就此而言,“合適”尤其意味著,光學探針在任意時刻具有至待檢驗的物質或混合物的直接的光學通路。
[0014]制藥學的和化學的過程通常在封閉的裝置和/或管道(Rohrleitung)中被執行。其通常對于被用于分析的波長范圍是不可穿透的。
[0015]因此,通常必須在所提及的裝置和/或管道中設置窗戶,其對于所使用的波長范圍是透明的,以便使能夠跟蹤在反應腔(Reaktorraum)或所聯接的管道中的過程。
[0016]但是,這樣的簡單的窗戶在一定的在化學的和/或制藥學的工藝中常常可發現的應用情況中具有明顯的缺點。
[0017]在許多化學和/或制藥學工藝中物質和/或混合物由此具有粘附的特性并且/或者是非常有粘性的。也就是說,在化學和/或制藥學工藝的持續運行中引起,混合物的至少部分持久地粘附在窗戶表面處且留在那里。接著,在窗戶處所實施的非侵入性光譜“在線”測量變得有缺陷,因為基本上持久地分析了在其組成上可能與其余未粘附的混合物不一致的混合物。
[0018]導致所述在這樣的窗戶處的粘附的物質和/或混合物(僅列舉兩個)尤其是懸浮物和乳狀物。
[0019]由上述缺點產生重要的要求,即測量裝置(探針)必須被實施成使得這樣的運行狀態(在其中產生上述粘附)直接被識別出,由此其可被去除和/或被排除。
[0020]尤其對于這樣的測量裝置(探針)在制藥學工藝中的使用,在測量裝置的表面和/或材料質量(Materialguete)方面要滿足特別的要求且測量裝置的幾何結構尤其可設計成使得這樣的粘附不出現或者可在測量的地點處被完全除去。
[0021]所謂的耦合線路(Koppelleitung)常常被用于電磁輻射輸入到測量點(也就是說在測量裝置中在反應器中或在管道中的地點)中或從測量點輸出。出于該原因,就此而言也稱作電磁輻射的耦入或耦出。
[0022]這樣的耦合線路是柔性導線,其使電磁輻射能夠在一定的路段上傳遞,而不需要光學部件沿著該路段的精確定位。
[0023]尤其已知電信領域(Telekommunikat1nsbereich)中的玻璃纖維電纜。與這里相關的用于化學和/或制藥學工藝的測量方法和測量裝置相聯系,通常使用所謂的空心導體率禹合部(Hohlleiterkopplung)或者特殊的鹵化銀-或氟化玻璃-光導體。
[0024]上述空心導體耦合部或者特殊的鹵化銀-或氟化玻璃-光導體通常適合于在中間的紅外線范圍(400-4000CHT1)中的電磁輻射的傳導。
[0025]在近的紅外線范圍(NIR: 4000-140000^1)和紫外線/可見光范圍(UV/Vis:200-700nm)中通常使用石英光導體,其在這些光譜范圍中具有特別少的衰減。
[0026]這樣的光導體的應用例如在文件DE 20 2009 002065中來說明。其將由帶有每個脈沖20W能量的脈沖激光器(Pulslaser)發出的以光的形式的電磁輻射導入測量裝置(其經由藍寶石玻璃窗將光引入測量室中)中。光穿過測量室且經由另一藍寶石玻璃窗又進入測量裝置(探針)中,緊接著經由另一光導體將剩下的光傳導至光學探測器。
[0027]該裝置在文件DE 20 2009 002065中所說明的任何設計方案中是一種傳輸測量裝置(Transmiss1nsmessvorrichtung)。也就是說,利用前述探測器來獲取測量值,其允許借助于合適的標定通過位于測量室中的介質的消滅(Extinkt1n)推斷其組成。在文件DE20 2009 002065的情況中,介質是其油脂含量(Fettgehalt)應被確定的牛奶。
[0028]根據文件DE 20 2009 002065可使用藍寶石玻璃窗,因為其相對于被用于清潔測量室的研磨介質是穩定的。由此得出,文件DE 20 2009 002065的裝置具有該缺點,即其不能在測量的地點處無沉積物的情況下持久地來運行。文件DE 20 2009 002065未公開在持續運行中保持測量地點無沉積物或免除沉積物的可能性。
[0029]眾所周知,牛奶是脂肪在水中的乳狀物,從而文件DE 20 2009 002065尤其論證(untermauern)在粘附(Anhaf tung)方面光譜“在線”測量方法存在的問題。根據DE 20 2009 002065的說明來使用傳輸測量方法,因為在使用反射探針的情況下反射測量方法的精度將不足。根據文件DE 20 2009 002065的說明,反射的特性和精確的發生(Zustandekommen)也還未完全在物理學上被理解。
[0030]文件WO 2007/098003說明了一種這樣的反射測量方法或一種適合于這樣的反射測量方法的測量裝置(探針)。
[0031 ] 文件WO 2007/098003還暗示地涉及測量裝置的故障(Fehlfunkt1n)的問題。根據文件WO 2007/098003,在那里所說明的測量裝置(探針)尤其應在聚合物擠出(Polymerextrus1n)的苛刻條件下可應用并且在主要部分中可代替以及可再校準,而無須為此停止聚合物擠出的工藝。
[0032]根據文件WO 2007/098003,該問題由此被解決,即包括光學窗戶的單元經由擰入裝置固定地與裝置/管道(應在其中來測量)相連接,其中,光學窗戶又經由另一擰入裝置相對于測量室密封地封閉。由此結果,位于包括光學窗戶的單元后面的另外的測量組件可被代替,而不允許到該工藝中的干預。
[0033]文件WO 2007/098003的測量裝置但是也不阻止聚合物粘附在光學窗戶處或提供可在不中斷聚合物擠出工藝的情況下去除其的裝置。
[0034]對于用于非侵入性光譜“在線”測量的上述兩個測量裝置(探針)即共同的是,這些測量裝置不包括在不中斷相應的化學和/或制藥學工藝的情況下保持測量的地點無粘附的裝置。因此,用于非侵入性光譜“在線”測量的上述測量裝置(探針)中的任何一個不能在不中斷相應的化學和/或制藥學工藝的情況下表現出持久正確的測量運行。
[0035]因此由現有技術同樣已知,除了測量裝置(探針)之外安裝有合適的清潔裝置,其在化學和/或制藥學工藝的運行中還可清潔測量點,而無須為此中斷該工藝。然而,除了非侵入性光譜“在線”測量裝置之外其還要來安裝且本身形成另一地點(在其處粘附可形成)。
[0036]備選地,通常類型的測量裝置(探針)也已知,其已集成這樣的清潔裝置。這樣的由現有技術已知的測量裝置(探針)但是通常構建成使得在增大的保持裝置(如例如文件WO 2007/098003說明其的那樣)中被安裝在測量點旁邊。
[0037]在現有技術中,這樣的帶有集成的清潔裝置的測量裝置(探針)但是設計成使得清潔裝置相對測量點突出,以便將定向的沖洗束對準測量點。
[0038]這導致,其不可應用在現有的包括移動的、尤其刮擦內壁的裝置的設備中,因為因此至少清潔裝置由于移動的零件(如葉片或攪拌器)相接觸。在最不成問題的情況中這導致,清潔裝置被損壞;在最差的情況中清潔裝置卡住移動的零件。
[0039]在應用在制藥學生產中時,這樣的結構僅由于上述突出和由此產生的另外的棱邊和卷邊證實為不可清潔或難以清潔且常常不能集成到這樣的工藝中。
[0040]因此,從所說明的現有技術出發,提出提供一種測量裝置(探針)的目的,其使在化學和/或制藥學工藝中液態和/或固態物質的特性的非侵入性光譜“在線”測量成為可能并且在此包括緊湊的結構形式和清潔裝置,而不由此產生現有技術中的上述問題。該裝置尤其應允許化學和/或制藥學工藝的持久運行,而不由于在測量的地點處的粘附產生錯誤的測量。
【發明內容】
[0041]上述目的根據本發明通過一種以反射探針(I)的形式的測量裝置來實現,其包括以在窗面(Fensterfljiche) (3)中的窗戶(4)的形式的測量點和以在正面(Frontfljiche)
(2)中的沖洗噴嘴(Spuelduese)的形式的清潔裝置,其特征在于,窗戶(4)被平整地集成到窗面(3)中,窗面(3)相對以測量裝置的正面(2)以10°至25°的角度傾斜,且其中,沖洗噴嘴被集成到正面(2)中,正面(2)被減少了窗面(3)的部分且沖洗噴嘴的流出口(5)鄰接到窗面(3)處地位于正面(2)中。
[0042]通過窗戶、窗面、沖洗噴嘴及其流出口的上述布置獲得具有兩個平的表面的主體,其中的一平的表面(窗面)具有較小的定位角度(Anstellwinkel),但是此外沒有可能產生粘附的角和棱邊。
[0043]平的第二表面(減少了窗面的部分的正面)在至窗面的棱邊處包括作為另外的幾何不連續(Unstetigkeit)的沖洗噴嘴的流出口,但是其通過沖洗被保持自動地免于粘附。
[0044]總地來說,獲得一裝置,其一方面可保持窗戶和因此測量位置的地點免于粘附,而整個裝置不具有許多可能促進粘附的幾何不連續。
[0045]連同較小的定位角度,整個裝置可幾乎與裝置/管道的壁平地被集成到其中。因此,可能的在所設定的窗面之后可能形成的粘附在周緣上被最小化且此外不影響測量值獲取。
[0046]定位角度優選地為12°至20°、特別優選地14°至18°、尤其優選地15°、16°或17°。
[0047]窗面相對于正面的較小的定位角度是有利的,因為由此從沖洗噴嘴出來的流體決不平行于窗面沖擊,使得當化學/制藥學工藝的介質非常有粘性并且/或者是粘稠的時那么也確保流體的沖洗效果,并且其因此否則導致在窗面上的較薄的邊界層。
[0048]如果在這樣的情況中(如根據本發明所說明的那樣)會平行地或以小于10°的角度流動至窗面,則不能確保該邊界面也將被沖洗。
[0049]另一方面,相對于正面25°的最大定位角度引起,一方面沖洗流體在提高的壓力下不彈回且因此僅清潔窗面的部分,而測量的整個地點被沖刷(Uberspillen)且因此被清潔,另一方面由此整個裝置僅在較小的范圍中偏離于平的正面,由此使該裝置能夠安裝到現有的包括可移動的、尤其刮擦內壁的裝置的設備中且還使粘附的形成的另外的可能性最小。
[0050]上述優選的定位角度增強了剛才所提及的正面效果。
[0051]如上所述,窗戶被平整地集成到窗面中。在根據本發明的測量裝置的使用中,窗戶與用于化學和/或制藥學工藝的過程腔(Prozessraum)相接觸。
[0052]根據本發明,窗戶被理解成測量裝置的部件,其至少部分地對于電磁輻射可透過。優選地,窗戶至少部分地對于在200至700nm(UV/Vis)的波長范圍中和/或在400至4000cm-1 (IR)和/或4000至HOOOcnrl(NIR)的波數范圍中的電磁輻射可透過。
[0053]部分可透過性被理解成至少50%的可透過性,也就是說由射入的輻射中的至少50%穿過窗戶。
[0054]窗戶集成到窗面中可經由通常已知的器件實現。對此例如包括窗戶粘貼、旋擰和/或卡夾到窗面中的切出口(Ausstich)中。相應地,窗面根據本發明具有切出口,窗戶與窗面平地集成到其中。
[0055]優選地,上述切出口設計成使得窗面在側面上朝向在其中實施化學/制藥學工藝的腔(過程腔)具有開口,其具有比在相對的側面上的切出口的開口的面積更大的面積,其中,窗戶具有朝向過程腔的開口的形狀和面積。
[0056]該實施形式是特別有利的,因為由此窗戶具有相對于在與過程腔相對的側面上的開口的面積增大的橫截面面積,由此防止窗戶滑過(Durchrutschen)窗面。此外,通過窗戶的自重的壓力或通過在過程腔中的過程對產生的邊腿面(Schenkelflaeche)的壓力經由窗戶將過程腔相對環境密封。這尤其引起,在過程(其在較強的過壓下來運行且其因此具有對壓力密封性提高的要求)的情況中由此獲得自加強的密封效果,因為隨著在過程腔中提升的壓力窗戶對邊腿面的壓緊力也提高且因此同時提高密封效果。
[0057]在窗面中的窗戶的橫截面形狀可任意選擇,由此窗戶可在其橫截面上設計成例如圓形、方形或多角形,只要確保窗戶平地被集成到窗面中。
[0058]因為窗面相對于正面具有定位角度,但是如果窗戶是在窗面的側面上具有與窗面相同的相對于正面的定位角度的主體、但是在相對而置的側面上與正面平行,是優選的。
[0059]在圓形的窗戶的情況中因此將獲得柱體,其在窗面的側面上倒角。
[0060]該實施方案與在用于容納窗戶的窗面中的開口的上述優選的實施方案相聯系是特別優選的,因為由此對窗戶作用的壓力(例如還通過流向窗戶的沖洗流體產生)被轉化僅正交地對上述邊腿作用的力,這進一步增強了可能的密封效果。
[0061]沖洗噴嘴的開口幾何結構也可在較寬的范圍中任意選擇。然而顯示出,沖洗噴嘴的平行于正面至少具有與窗垂直于流出口的延展相同的延展的流出口幾何結構是優選的。由此實現,整個窗在窗面中可以以沖洗流體來沖洗且因此被保持免于粘附。
[0062]以在棱邊處通過正面與窗面接觸來形成的縫隙(Spalt)或裂口(Schlitz)的形式的沖洗噴嘴的流出口的設計是尤其優選的,其中,該縫隙或裂口設計成尤其至少如窗垂直于流出口的延展那么寬、特別優選地剛好寬至比其寬10%,且其中,縫隙或裂口的寬度與其高度的比至少為5。特別優選地,該比至少為10。尤其優選地至少10、但是最大15。
[0063]由此實現,沖洗流體在垂直的通道流動(其至少與窗垂直于流出口的延展一樣寬)中離開沖洗噴嘴的流出口。因此,沖洗流體可靠地在其整個寬度上溢流過窗面,這改善了清潔效果。上述比引起沖洗噴嘴的在高度上增加地變窄的流出口和因此在沖洗噴嘴的流出口處的流動的瑞流的分流棱邊(Abrisskante)的增加的形成。因此所產生的在窗上的瑞流的通道流動進一步改善清潔效果。
[0064]根據本發明的測量裝置的沖洗噴嘴的流出口通常經由所屬的孔和/或相應的供應管路(Zuleitung)被供應以沖洗流體。
[0065]尤其在上述優選的以縫隙/裂口的形式的流出口的情況中,當用于供應沖洗噴嘴的供應管路和/或孔相對于沖洗噴嘴的流出口沿著在窗戶與沖洗噴嘴之間的延長線偏移時,在此是優選的。偏移供應管路的最大尺寸(在孔的情況中直徑)的至少1.1倍是特別有利的。
[0066]這具有該優點,即可在沖洗噴嘴中或在沖洗噴嘴入口與流出口之間的路段中構造有完整的流動輪廓,這又加強上述優點。
[0067]如果沖洗噴嘴不應被持久地運行,則當在該裝置中例如在沖洗噴嘴入口與供應管路之間或僅在供應管路中設置有止回閥時是優選的,以便當沒有沖洗流體被發出時防止過程介質流出。
[0068]根據本發明的測量裝置可被引入外罩中。
[0069]如果該測量裝置具有垂直于正面的顯著的延展,則該測量裝置自身形成這樣的外罩。否則,該測量裝置通常被擰入或夾緊到外罩中。
[0070]測量裝置的外罩那么被引入裝置/管道(測量裝置應被集成在其中)的壁中。外罩(或測量裝置)引入裝置/管道的壁中通常還通過擰入或夾緊實現。尤其當測量裝置自身不構造外罩時,那么通過持久的連接(例如焊接)將外罩引入壁中是優選的。
[0071]根據本發明的測量裝置通常還包括外部的密封器件,其相對于在外罩處的過程腔密封測量裝置、或者當測量裝置自身構造外罩時相對裝置/管道的壁密封測量裝置。
[0072]密封器件被理解成對于專家已知的用于抗壓地密封的器件,例如O形圈密封件、粘合或焊接。
[0073]如果測量裝置不是外罩的組成部分,則該外罩用于圍住測量裝置的組成部分(當其形成分離的構件時)。也就是說外罩將包圍窗面和正面。
[0074]經由上述外罩或者(當測量裝置自身構造外罩時)在測量裝置中根據本發明使窗戶的背對過程腔的側面與所謂的探針桿(Sondenschaft)相接觸。
[0075]探針桿就此而言表示用于尤其以光的形式的電磁輻射的傳導的至少一個上述耦合線路、例如所提及的光導體,其中,但是其被包圍在基本剛性的桿中。這樣的桿通常柱狀地來構建且包括至少一個光導體。
[0076]如果使用僅僅一個光導體,則到光導體處聯接有預選器(Weiche),其將經由一光導體耦入的電磁輻射與應被耦出的電磁輻射分離。這樣的預選器例如可由至少兩個光導體的至少部分地熱熔化來引起。
[0077]優選地,探針桿包括至少兩個光導體,其中的至少一個被用于將電磁輻射耦入測量裝置中而至少另一個被用于待測量的輻射的耦出和導回。在此將用于輻射的耦出的光導體在空間上與用于耦入的光導體分離,以便不讓可能在光導體的邊緣區域中出現的散射的輻射在兩個光導體類型之間導致信號的串擾。空間上的分離例如可通過在探針桿中的兩個分開的孔(分別引導設置用于耦入或耦出的光導體通過其)來引起。
[0078]用于耦入的光導體的數量無須與被用于耦出的光導體的數量相同。優選地在探針桿中設置有多個用于輻射的耦出的光導體,作為用于輻射的耦入的光導體,因為待耦出的電磁輻射量最大如被耦入的量那么高。但是通常待耦出的輻射量比被耦入的量明顯更小。對于耦出的輻射的高產出和由此足夠集中的信號,因此設置較高數量的光導體用于電磁輻射的耦出是有利的。
[0079]上面所述在假設在探針桿中光導體的光學橫截面相同的情況下適用。如果在探針桿中光導體的光學橫截面不相同,則之前關于數量所實施的內容關于用于電磁輻射的耦出的光導體的所有光學橫截面的總和類似地適用于用于電磁輻射的耦入的光導體的所有光學橫截面的總和。也就是說優選地概括來說與在探針桿中用于耦入的光學橫截面相比設置有更大的用于耦出的光導體的光學橫截面。
[0080]與本發明相關聯,耦入的光導體的光學橫截面與耦出的光導體的光學橫截面的四至六比一的比例證實為特別有利的。也就是說對于耦出的光導體的每份橫截面提供有四至六倍那么多的耦入的光導體的橫截面。
[0081]對于探針桿與窗戶的前述接觸,外罩或(當測量裝置自身構造外罩時)外罩/測量裝置具有用于容納探針桿的凹部(Aussparung)(在柱狀探針桿的情況中孔),其在直徑上相應于探針桿的外徑。
[0082]外罩或(當測量裝置自身構造外罩時)測量裝置此外具有另一凹部(在柱狀凹部的情況中另一孔),其相應于用于沖洗流體的上述供應管路。
[0083]特別優選地,測量裝置自身構造外罩且具有兩個孔,其中的一個是用于沖洗流體至沖洗噴嘴及其流出口的供應管路而另一個是用于容納探針桿的孔。
[0084]例如為了更好地清潔或維修可將探針桿從用于容納探針桿的孔(7)中取出且又插入用于容納探針桿的孔(7)中是優選的,其中,在此尤其當使用光導體束時應精確地重建光學的特性。此外,光導體應齊平地貼靠到窗戶(9)處。
[0085]已知的用于探針桿的彈性加載的系統(例如Solvias公司的反射器Flushhttp://www.solvias.vom/sites/default/files/reflector-flus-english_final.pdf)不具有防扭轉部(Verdrehschutz),使得在再插入時失去定向。此外,其具有與窗戶不齊平的且是用于污物的附著部位的構造。
[0086]在該裝置的一優選的實施形式中,借助于帶有防扭轉部的彈性加載的接頭(Verschluss)將探針桿抗扭地裝配到用于容納探針桿的孔(7)中。
[0087]在根據本發明的測量裝置中,優選地在插入用于容納探針桿的孔(7)中時使用帶有方向引導部、尤其彈性加載的利用防扭轉部鎖止的接頭的插頭,其同時具有以下特性:
-在從用于容納探針桿的孔(7)中取出且在插入其中之后以相同的方式建立定向并且
-經由彈力將優選地包含至少一個光導體的探針桿壓入用于容納探針桿的孔(7)中,使得光導體直接齊平地貼靠在窗戶處。
[0088]作為特殊插頭尤其使用帶有防扭轉部的卡口接頭(Bajonettverschluss)(例如ST插頭/BFOC插頭)或者彈性加載的帶有防扭轉部的螺旋接頭。
[0089]如果探針桿包括在光導體處的光導體束,應用彈性加載的帶有防扭轉部的接頭是特別有利的,因為該束當其以另一定向壓入地被引入用于容納探針桿的孔(7)中時將具有其它光學特性。
[0090]對于使用者的優點因此是,通過使用彈性加載的帶有防扭轉部的接頭在探針桿取出且再插入之后也可重建探針的相同的光學特性。這是特別重要的,因為位于光導體端部之前的窗戶(在插入狀態中)不是平的、而是以一角度傾斜。
[0091]這樣的測量裝置通常柱狀地來設計。優選地,該測量裝置那么具有12至18_的直徑。在這樣的結構形式中且在如上所述的帶有流出口的縫隙和/或裂口的測量裝置中當裂口 /縫隙具有0.5至Imm的高度時是優選的。也就是說,這樣的裂口或縫隙的寬度優選地至少為2.5至5mm、特別地5至10mm、相當特別優選地5至1mm但是最大7.5mm至15mm。
[0092]根據本發明的測量裝置(探針)特別適合用于光學監控固體過程(Feststoffprozess)、單相或多相的液態過程和在存在固體的情況下的液態過程(例如懸浮物),在其中在進行的過程期間存在窗戶表面污染的可能性。
[0093]監控被理解成化學和/或制藥學工藝的一個或多個工藝參數的在時間上的跟蹤,其可提供關于該工藝的流程的信息。這樣的工藝參數尤其是在化學和/或制藥學工藝中被處理的液態和/或固態物質的特性。例如濃度和溫度屬于這些特性。
[0094]該監控包含一個或多個參數的側定和測得的參數值的評估。該評估例如可存在于測得的參數值與額定值的比較或基于一個或多個參數值的過程調節量的調節中。
[0095]質量特征和過程參數的優選地過程集成的檢驗用于監控符合規定的運行、提早識別不規則狀態和過程且用于與此相聯系地限制干擾作用。
[0096]以此使成為可能的持久的過程監控因此可被用作警報系統(Warnsystem),以避免成本高的過程中斷和設備停止。利用過程集成的監控可能的實時的額定-實際比也可被用于通過改變調節量針對性地影響過程(過程調節)。
[0097]光學監控被理解成,在過程中存在的物質與電磁輻射的相互作用被用于測定過程參數。由此,例如物質在過程中的濃度可通過測量所射入的電磁輻射的吸收和/或反射來跟蹤。
[0098]根據本發明的測量裝置(探針)尤其適合用于監控在其中必須使探針的污染趨勢或產品殘余的遺留最小化的工藝。產品殘余是指來自先前的生產循環的留在探針處的殘余物。尤其在制藥學和/或食品技術過程中,這樣的產品殘余可能負面地影響進行的過程和所制造的產品的質量。
[0099]遺留在窗戶上的產品殘余可附加地歪曲測得的參數值。通過基于其幾何形狀且通過以氣體或清潔劑沖洗來保證探針的窗戶表面在單個測量開始之前無產品殘余,根據本發明的探針允許監控這樣的工藝。
[0100]本發明的對象相應地還尤其是根據本發明的測量裝置在制藥學和食品技術的工藝中用于其光譜監控的應用。
[0101]此處,根據本發明的測量裝置顯示為特別有利的,因為其一方面持久地在測量地點處不具有沉積物且此外在幾何上設計成使得在測量裝置處和圍繞測量裝置幾乎沒有沉積物由于流動死區或幾何不連續性形成。
[0102]本發明的另一對象是根據本發明的測量裝置在葉片式干燥器(Schaufeltrockner)和碾磨機中的應用。
[0103]此處,根據本發明的測量裝置顯示為特別有利的,因為其通過其較小的突出不在其運行中損害這些裝置且自身在此也不被損壞。此外,上述葉片式干燥器和碾磨機是在這些裝置中所實施的工藝的范圍中引起所處理的物質的相狀態的至少部分變化的裝置。由此,在這樣的裝置中例如常常來處理懸浮物或濕的固體,使得所實施的工藝是存在液體的固體過程。尤其在這樣的工藝中,形成粘附是特別可能的,這可更強烈地顯現出根據本發明的測量裝置的優點。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0104]根據附圖來闡述本發明,然而不將其限于此。
[0105]圖1顯示了根據本發明的測量裝置(I)的一優選的實施形式的示意圖,其包括正面(2)和窗面(3),窗面(3)相對于正面以17°的角度來設定。窗面(3)包括用于窗戶的開口(4),其中,該開口朝向用于探針桿(未示出)的孔(7)具有邊腿(6)。在窗面和正面處的彼此碰到的棱邊處構造有沖洗噴嘴的流出口(5),其經由相對于流出口偏移的孔(8)被供以沖洗流體。測量裝置的示出的實施形式自身構造外罩,從而其不示出。
[0106]圖2顯示了在圖1中示出的自身構造外罩的測量裝置的總視圖。
[0107]圖3顯示了測量裝置連同在開口(4)中的窗戶(9)的在圖1中示出的三維圖示的剖示圖,窗戶(9)設計成柱狀且在窗面處倒角,使得窗戶與窗面形成平的面。
[0108]圖4顯示了用于容納探針桿的孔(7)的剖示圖,其中,該插入物具有帶有防扭轉部
(11)的卡口接頭(10)。
[0109]圖5顯示了探針桿(12)的剖示圖,其中,探針桿包括帶有插入物(14)的光導體束
(13),其中,插入物(14)具有與圖4中的測量裝置的帶有防扭轉部(11)的卡口接頭(10)互補的鎖止部(15)。
【權利要求】
1.一種以反射探針(I)的形式的測量裝置,其包括以在窗面(3)中的窗戶(9)的形式的測量點和以在正面(2)中的沖洗噴嘴形式的清潔裝置,其特征在于,所述窗戶(9)被平面地集成到所述窗面(3)中,所述窗面(3)相對于所述測量裝置的正面(2)以10°至25°的角度傾斜,且其中,所述沖洗噴嘴被集成到所述正面(2)中,所述正面(2)被減少了所述窗面(3)的份額且所述沖洗噴嘴的流出口(5)鄰接到所述窗面(3)處地位于所述正面(2)中。
2.根據權利要求1所述的測量裝置,其特征在于,用于所述窗戶(9)的開口(4)設計為切出口,其朝向過程腔具有開口,所述開口具有比在相對的側面上的切出口的開口的面積更大的面積,其中,所述窗戶(9)具有朝向所述過程腔的所述開口的形狀和面積。
3.根據權利要求1或2所述的測量裝置,其特征在于,所述窗戶(9)是在所述窗面的側面上具有與所述窗面相同的相對于所述正面的定位角度的主體、但是在相對而置的側面上與所述正面平行。
4.根據前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述沖洗噴嘴的流出口(5)構造成在棱邊處通過所述正面與窗面接觸來形成的縫隙或裂口的形式。
5.根據權利要求4所述的測量裝置,其特征在于,所述縫隙或裂口的寬度與其高度的比至少為5。
6.根據前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述沖洗噴嘴的流出口(5)平行于所述正面至少具有與所述窗戶(9)垂直于所述流出口(5)的延展相同的延展。
7.根據前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述沖洗噴嘴經由供應管路(8)被供應以沖洗液體且所述供應管路(8)相對于所述沖洗噴嘴的流出口(5)沿著在窗戶(9)與沖洗噴嘴之間的延長線偏移。
8.根據前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特征在于,其具有包括用于容納探針桿的孔(X)的外套,所述探針桿被旋抒或夾卡在所述孔(X)中。
9.根據前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述探針桿借助于彈性加載的帶有防扭轉部的接頭被防扭轉地裝配到用于容納所述探針桿的所述孔(7)中。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的測量裝置的一種應用,其在制藥學的和食品技術工藝中用于其光譜監測。
11.根據權利要求1至9中任一項所述的測量裝置的一種應用,其應用于葉片式干燥器和碾磨機中。
【文檔編號】G01N21/85GK104081189SQ201380006650
【公開日】2014年10月1日 申請日期:2013年1月24日 優先權日:2012年1月25日
【發明者】S.托施, R.格羅斯, N.韋伯 申請人:拜耳知識產權有限責任公司